DE2146166A1 - Lichtempfindliche Masse - Google Patents
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8050970A JPS505084B1 (ja) | 1970-09-16 | 1970-09-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2146166A1 true DE2146166A1 (de) | 1972-03-23 |
Family
ID=13720268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712146166 Pending DE2146166A1 (de) | 1970-09-16 | 1971-09-15 | Lichtempfindliche Masse |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS505084B1 (ja) |
DE (1) | DE2146166A1 (ja) |
GB (1) | GB1330932A (ja) |
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JP4890403B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
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JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
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JP5164640B2 (ja) | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
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- 1970-09-16 JP JP8050970A patent/JPS505084B1/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1330932A (en) | 1973-09-19 |
JPS505084B1 (ja) | 1975-02-28 |
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