DE2144872C3

DE2144872C3 - Plasmaspritzvorrichtung

Info

Publication number: DE2144872C3
Application number: DE2144872A
Authority: DE
Inventors: Mille New York N.Y. Stand
Original assignee: Sealectro Corp Mamaroneck Ny Us
Current assignee: Sealectro Corp Mamaroneck Ny Us
Priority date: 1971-01-25
Filing date: 1971-09-08
Publication date: 1981-05-14
Also published as: US3676638A; DE2144872A1; GB1320809A; FR2151487A5; NL155706B; BE771967A; NL7112335A; CH531899A; DE2144872B2

Description

Die Erfindung betrifft eine Plasmaspritzen ichlung für auf einem Substrat abzulagerndes wärnieschmelzbares, pulverförmiges Material, mit einer einen Plasmakanal einschließenden Düse, in deren der Austrittsöffnung abgewandtem Teil ein Lichtbogenkanal mit einer sich konisch erweiternden Fläche als erster Elektrode und einem hierzu axial ausgerichteten Zylinder als zweiter Elektrode gebildet ist, mit einer an dem der Austrittsöffnung der Düse entgegengesetzten Ende des Lichtbogenkanals angeordneten Gaszuführung, und mit einer in den Plasmakanal stromabwärts des Lichtbogenkanals mündenden Materialzuführung.

ίο Die Verwendung von isolierenden Schichten aus Kunststoff, die auf Metall, Keramik und andere Träger aufgebracht werden, erlangt in der modernen Technik immer größere Bedeutung. Es werden neue Beschichtungswerkstoffe verwendet, beispielsweise Polytetrafluoräthylen und andere gegen hohe Temperaturen beständige Kunststoffe, die auf viele Arten von Grundwerkstoffen aufgetragen werden können, um beispielsweise die Reibung zu mindern, Schutz zu bieten oder eine chemisch inerte Oberfläche zu schaf-2n fen. Wenn diese Materialien als Paste oder in Pulverform aufgebrach! weiden, können sie dadurch geschmolzen werden, daß der Träger in einen Ofen mit erhöhter Temperatur eingebracht wird. Wenn jedoch der Träger der zum Schmelzen des Pulvers bzw. der Paste erforderlichen hohen Temperatur nicht gewachsen ist oder wenn er zu groß ist, um wirtschaftlich auf diese Weise verarbeitet werden zu können, dann muß ein anderes Verfahren angewendet werden.

Dazu ist in der DE-OS 1571 171 eine Plasmaspritzen vorrichtung der eingangs genannten Gattung beschrieben, bei der das Beschichtungsmaterial in einem heißen Plasmastrom erhitzt und geschmolzen und, getragen vom heißen Plasmast rom, auf das Substrat aufgeschleudert wird. Bei dieser bekannten Vorrichtung is wird in das hintere Ende eines Düsenkanals ein Gasstrom eingeleitet, der durch eine innerhalb des Düsenkanals aufrechterhaltene Bogenentladung ionisiert, also in einen heißen Plasmastrom verwandelt wird. Stromabwärts der Bogenentladung ist in der in Wand ein Zuführungskanal für das in Pulverform vorliegende Beschichtungsmaterial angeordnet. Dieser Zuführungskanal ist als um den Umfang des Düsenkanals herum verlaufender Kingkanal ausgebildet, der das pulverförmige Material etwa senkrecht zur l.äugsis achse des Düsenkanals in den Plasmastrom einleitet. Durch diese Art der Einbringung des pulverförmigen Materials tritt eine heftige Verwirbelung und damit eine Störung der an sich erwünschten laminaren Stiomung lies Plasmas auf, wodurch das pulveiförmige in Material lief in das Innere des Plasmastroms eindringt. Da nun in dem Plasmastrom ein sehr starker Temperaturgradient vorliegt, wobei im Inneren sehr hohe Temperaturen herrschen, wird durch eine derartige Vermischung des pulverförmigen Materials mit dem ss Plasma in unerwünschter Weise teilweise eine Verdampfung oiler Zersetzung des mit dem heißen Teil des Plasmas in Verbindung tretenden pulverförmigen Materials hervorgerufen. Inbesondere bei Verwendung eines pulverförmigen Kunslstoffmateiials führt du die thermische Zersetzung zu einer schlechten (Qualität der hergestellten Beschichtung.

Die der Erfindung zugiundeliegende Aufgabe besteht darin, eine Plasniaspritzvorrichtung der eingangs genannten Gattung zu schaffen, bei welcher im Hüls trieb eine laminare Störung des Plasmas aufrechterhalten wird.

Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe bei einer Plasmaspiitzvorriehtungder eingangs genannten Gat-

tung dadurch gelöst, daß die Gaszuführung eine Gasverteilerplatte mit einer Vielzahl von zur Bildung eines rotierenden Gasstroms bezüglich der Längsachse des Plasmakanals im Winkel geneigten Gaszuführungskanälen aufweist, und daß die Materialzuführung wenigstens einen in den Plasmakanal mündenden, in Strömungsrichtung im spitzen Winkel bezüglich der Längsachse des Plasmakanals ausgerichteten Kanal aufweist.

Bei dieser erfindungsgemäßen Ausbildung sind clso κι die Gaszuftihrungskanäle im Winkel schräg zur Längsachse des Plasmakanals und schräg auf die Längsachse verlaufend angeordnet, so daß das durch die Gaszuführungskenäle eingeleitete Gas einen um die Längsachse rotierenden Gasmantel bildet. Dieser Gasmantel wird im Lichtbogenraum ionisiert, und das entstandene Plasma tritt als rotierender Plasmastrom durch den Plasmakanal der Düse hindurch. Zusätzlich sind die Kanäle der Materialzuführung derart im spitzen Winkel zur Austrittsöffnung des Plasr.,akanals hin ausgerichtet, daß das pulverförmige Material etwa tangential, also im Sinne der Rotation in Bewegungsrichtung in den Randbereich des Plasmastroms eingeleitet wird. Durch diese Art der Einleitung wird praktisch keine Störung der laminaren Plasmaströmung hervorgerufen, so daß eine Verwirbelung und damit ein Eindringen des pulverförmigen Materials in das heiße Innere des Plasmastroms vermieden wird. Auf diese Weise kann sichergestellt werden, daß das Material unter dem Einfluß von Zentrifugalkräften in ei- κι nein äußeren Bereich des Plasmastroms mit mäßiger Temperatur gehalten wird, bis es auf das zu beschichtende Suostrat auftritt. Gleichzeitig aber wird durch die spiraligc Rotation erreicht, daß bei vorgegebener Länge des Plasmakanals das Material einen längeren Weg mit dem Plasma zurücklegt und daher die Verweilzeit in erwünschtem Maße erhöht wird, so daß das Material bei mäßiger Temperatur allmählich ohne Verdampfung oder Zersetzung geschmolzen wild. Die auf diese Weise erzielbare Beschichtung weist daher in eine hohe Qualität auf.

Die tangential Einleitung des pulverförmigen Materials in den Plasniastrom erreicht man dadurch, daß die Kanäle für das pulverförmige Material etwa die gleiche Winkellage aufweisen, wie die Gaszufüh- i^ lungskanäle in der Gasverteilerplatt·.:. Besonders vorteilhafte Ergebnisse erzielt man mit einem Licht bogcnkanal, der durch ein der Kegelfläche der Düse gegenüberstehendes konisches Ende des die /weite Elektrode bildenden Zylinders gestaltet ist, wobei der mi Winkel des konischen Endes etwa um K) bis 30" größer ist als der Winkel tier Kegelfläche, tier bevorzugt etwa 4 V zur Längsachse der Düse beträgt. Besontleis gute praktische Ergebnisse sind erzielbar, wenn die Kanäle zur Zuführung des pulverförmigen Materials ss 'in Winkel \on Id,5 ' /111 Längsachse der Düse ausgerichtet sind.

Vorteilhaft ist es auch, wenn die sich zur Austrittsöffnung der Düse hin verjüngende Kegelfläche des Liehtbogenkanals zur Vermeidung von Turbulenzen mi im Plasmastrom mit stetiger Krümmung in den anschließenden PUtsmakanal üN.-ijieht, der sich seinerseits bis in den Hereich dei LiiHiittsöffnungen der Kanäle für ilis pulverlönnige Material mit stetiger Krümmung erweitert, bis er den Durchmesset der (0 Austrittsöflnun^der Düsi jrreieht. Bei dieser Ausbildung wird lintel Vermeidung von Turbulenzen ein Venturieffekt indem sieh an den Lichthogcnkanal anschließenden verengten Teil des Plasmakanals hervorgerufen.

Vorteilhafterweise ist der die zweite Elektrode für die Lichtbogenentladung darstellende Zylinder unmittelba-:' in der Gasverteilerplatte gehaltert. Diese Gasverteilerpiatte kann entweder zur Zuführung der elektrischen Energie aus leitendem Material hergestellt und mittels eines Isolierteils am Körper der Düse verankert sein. Alternativ hierzu kann die Zuführung der elektrischen Energie auch unmittelbar über den Zylinder erfolgen, wobei vorteilhafterweise die Gasverteilerplatte als Isolator ausgebildet ist.

Besonders bevorzugte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Plasmaspritzvorrichtung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Die Erfindung ist im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 einen Längsschnitt durch eine PlasmaspritzVorrichtung in 'Miiem bevorzugten Ausführungsbeispiel,

Fig. 2 eine Seitenansicht einer Gasverteilerplatte mit den Gaszuführungs-Kanälen. die in der Spritzvorrichtung Verwendung findet.

Fig. 3 eine Einzelheit im Schnitt entlang der Linie 3-3 der Fig. 1,

Fig. 4 einen Längsschnitt durch eine Spritzvorrichtung in einem zweiten Ausführungsbeispiel, bei der die Isolierung an einer anderen Stelle sitzt,

Fig. 5 eine Seitenansicht einer isolierenden Gasverteilerplatte,

Fig. 6 eine Einzelheit im Schnitt entlang der Liii!j 6-6 der Fig. 4,

Fig. 7 einen Längsschnitt durch eine Variante einer Düse, die zur Verbreiterung der Flamme verwendet wird und um eine gleichmäßigere Beschichtung abzulagern,

Fig. X eine Seitenansicht der Plasmaspritzvorrichtung in Pistolenform mit angesetzten Verkleidungen.

Fig. ¹J ein Schaltbild, das zeigt, wie die Spritzvorrichtung mittels eines normalen Wechselstromnet/es mit Energie versorgt werden kann, und

Fig. K) eine Einzelheit einer bevorzugten Anordnung der Elektroden.

G'-inäß der Darstellung in Fig. 1 bis 3 weist die l'lasmaspiitzvorriehlimg einen äußeren isolierenden I laltezylinder IO und mehrere zylindrische Hülsen 11, 12 und 13 auf, von denen die letztere eine Verlängerung der Düse 14 ist. Die Düse 14 ist ein hohler Zylinder mii einer geraden Bohrung als Plasmakanal 15, der mit einem Absatz 16 an einer Anzahl von Kanälen 17 versehen ist. Die Kanäle stehen unter einem spitzen Winkel zur Längsachse des Plasmakanals 15, um einen Strom pulverförmigen Materials in den Plasmakanal 15 zu treiben, ohne den Plasmastrom im Plasmakanal 15 zu stören. Die Kanäle 17 sind mit flexiblen Pulverlcitungcn 18 verbunden, die aus Kunststoff bestehen können, beispielsweise aus Polyäthylen. Gummi oder dergleichen.

Die Hülse 13 weist einen kegelförmigen Hohlraum 20 auf, dessen Fläche als eine erste Elektrode einer Lichtbogenentladung dient. Ein kleinerer Kegel 21 an dem Finde eines massiven Zylinders 22 dient als die /weite Elektrode für die Lichtbogenentladung, wobei die (-'»sächliche Lage des Lichtbogens am Rand des Kegels 21 ist. Die Anode kann beispielsweise aus Kupier, die Kathode aus Wolfram bestehen. Der Zylinder 22 kann mit Hilfe größerer Zylinder 23 und

24 gehaltcrt sein, wobei der letztere Zylinder durch eine metallische Gasverteilerplatte 25 in ausgerichteter Stellung gehalten wird.

Man erhält Ergebnisse mit einem besseren Wirkungsgrad, wenn die Winkelstellungen der Elektroden unterschiedlich sind. Die besten Ergebnisse erhält man, wenn der Unterschied zwischen den Winkeln zwischen H) und 30° liegt, beispielsweise mit einem Kegelwinkel von etwa 120° und einem Winkel der Kegelfläche von ctw<i W, wie in Fig. 10 dargestellt.

Strom für den Lichtbogen kommt von einem Generator 26, wobei ein Anschluß mit der Düse 14 und der andere Anschluß mit dem Zylinder 24 verbunden ist. Ein Schalter 19 dient zur Zuleitung von Energie zur Spritzvorrichtung.

Ein Mantel 2? wird von einem kurzen Zylinder 28 und einem Flansch 30 gebildet; er dient zur Verteilung von Gas um den Rand der Gasverteilerplatte 25 herum. Der Vorrichtung wird Gas über eine Leitung 31 zugeleitet, das dann durch einen entlang des Umfiings verlaufenden Randschutz 32 um die Gasverteilerplatte 25 herum verteilt wird. Eine Anzahl von Gaszufiihrungskanälen 33 leitet Gasströme von dem vertikalen Schlitz 32 in den Raum um die Zylinder 23 und 22 und dann durch die Lichtbogenentladung in den Plasmakanal 15.

Die Gaszuführungskanäle 33 lenken das Gas im wesentlichen in Richtung zur Längsachse des Plasmakanals 15, wie das durch die Winkellage in Fig. I gezeigt ist. Sie lenken den Gasstrom ferner leicht aus der Achse heraus, wie das durch Fig. 2 und 3 dargestellt ist. Das Ergebnis ist eine Kombination von schraubenlinienförmig gerichteten Gasströmen, die ineinander übergehen und einen rotierenden Gas/.y linder bilden, welcher sich in Längsrichtung des Plasinakanals 15 bewegt. Wenn das Gas durch den Lichtbogen wandert, wird es erhitzt und ionisiert. Wenn die entstehende Hitze 220° C und mehr beträgt, bleibt das Gas in seinem ionisierten Zustand, bis es sich abkühlt. Es kann ein Plasmastrahl mit 5500 bis N3(M)° C erreicht werden. Indem die Energiemenge am Lichtbogen reguliert wird und indem der Gasdurchfluß /um Lichtbogen festgelegt wird, läßt sich die Temperatur des Plasmasauf einen Wert unter 5500° C begrenzen und dort innerhalb eines einigermaßen engen Bereichs hallen.

Die Kanäle 17 für die Zuführung von Pulver sind jeweils unter einem Winkel gebohrt, der im wesentlichen parallel zu dem eines entsprechenden Gaszuführungskanals 33 liegt. Das Pulver wird damit in den rotierenden heißen Plasmastrom in einer Richtung eingespritzt, die nicht dazu führt, daß die Richtung des Plasmastroms abgelenkt oder geändert wird. Die eingespritzten Kunststoffpartikcl bewegen sich an der äußeren Fläche des Plasmastroms und werden wegen der Fliehkraft in dieser Lage gehalten. Da die Richtung und Lage der eingespritzten Partikel fixiert bleiben, ist es einfach, das Verhältnis des Durchflusses und der Stromstärke des Lichtbogens einzustellen, so daß alle Partikel die Spritzvorrichtung mit einer Solltemperatur verlassen. Da die Partikel mit dem Plasma rotieren, durchlaufen sie einen längeren Weg von der Einspritzstellc bis zum Ende der Düse und haben damit ausreichend Zeit, durch das heiße Plasma auf eine festgelegte Temperatur erhitzt zu werden. Jedes geeignete nicht korrodierende inerte Gas kann verwendet werden. Stickstoff, Argon, Kohlendioxid und Helium haben zu guten Ergebnissen geführt. Sauerstoff dürfte zu vermeiden sein, weil er den lilektrodenwerkstoff im Bereich des Lichtbogens angreift.

In Fig. 4 bis 6 ist eine Plasmaspritzvorrichtung gezeigt, die der in Fig. 1 bis 3 gezeigten Vorrichtung ähnlich ist. jedoch einen metallischen Haltezylindci H)A aufweist, der geerdet werden kann und der aK einer der Anschlüsse für die elektrische Energie verwendet wird. Die Gasverteilerplatte 25/1, die das Ga^ in seine schrauhcnlinicnförmigc Bewegung lenkt, ist

in aus einem geeigneten isolierenden Werkstoff gefei lij'.t, beispielsweise aus duroplastischem Kunststoff. Die Wirkung ist die gleiche, außer daß hier die zweiu Elektrode 21, 22, 23, 24 die Kathode ist, während alle anderen Metallteile geerdet sind.

ι? In den in Fig. 1 und -4 gezeigten Aiisführungsbcispieleii sind keine Kühlcinrichiungcii gezeig!. Die Vorrichtung erzeugt erhebliche Warme, so daß eine Wasserkühlung im allgemeinen einen Teil der Vorrichtung bildet. Ringförmige Räume /wischen den

:n Elementen 11 und 12 lassen sich für Kühlungszweckc verwenden. Solche Kühlmelhoden sind bekannt.

Die in I- ig. 7 gezeigte Düse 14/4 entspricht der in Fig. 1 und -4 gezeigten Düse, außer daß sie kürzer ist und einen Plasmakanal aufweist, der gekrümmt und

:> stromlinienförmig ist. Die Kegelfläche 20/4 mit einem Winkel von vorzugsweise etwa 45° hat einen gerundeten Ubergangsteil 35. um eine Turbulenz im Gasstrom an dieser Stelle zu mindern. Forner erweitert sich der Plasmakanal im Querschnitt allmählich bis

mi zu einem Punkt in der Nähe der Austrittsöffnung, so daß die Düse wie ein Venturirohr wirkt. Die Kanäle YIA, die das PuUei 1 uhren, liegen mit ihren Ausgangsöffnungen nahe am größten Durchmesser der Düse. Das Ergebnis ist eine größere Flamme mit ei-

H nein größeren Durchmesser. Mit einer solchen größeren Düse ist es möglich, einen gleichförmigen Film Polytetrafluorethylen bis herab zu einer Dicke von 0,025 mm auf Aluminium, nichtrostendem Stahl usw. abzulagern.

4Ii Während die spezifischen Abmessungen unterschiedlich sein können, hat eine Düse, die zu ausgezeichneten Ergebnissen geführt hat, beispielsweise einen Eintrittsdurchmesser von 1.X.0S5 mm vor dem Lichtbogenkanal. Die dem Lichtbogenkanal folgende

4> Einschnürung ist 7.°3 mm groß, und der Austrittsbereich der Düse nimmt allmählich bis zu einem Durchmesser von 13,665 mm zu. In diesem Ausführungsbeispiel tritt das zu verspritzende Pulver durch kurze Kanäle YIB ein. die vertikal angeordnet sein können.

Sn wie dargestellt, oder die unter einem Winkel von etwa 30° nach vorn geneigt sein können - der Senkrechten gegenüber -, so daß mit dem Kanal YIA ein Gesamtwinkel von etwa 46-7,° gebildet wird. Dabei ist ein stetig gekrümmter Übergang vorgesehen. Die

Kanäle YIA stehen vorzugsweise unter einem Winkel von etwa 16° 30' zur Waagerechten. Die Durchmesser der Kanäle YIA und YIB betragen vorzugsweise etwa 2,5 mm. Einige dieser als Beispiel angegebenen Abmessungen sind in den Zeichnungen darge-

1.1 ■ stellt.

Das Pulver wird dann durch die winklig angeordneten Kanäle YIA getrieben, um sich mit dom Plasmastrom zu vereinigen. Zur Vereinfachung der Herstellung werden die Kanäle YIA zunächst von der Fläche

ιό 54 aus gebohrt, dann werden die Eingänge verstöpselt, und es werden neue Eingangskanäle YIB gebohrt, so daß die Pulverleitungen 18 (Fig. 4) angeschlossen werden können.

Die Partikelgroßc schwankt erheblich, je nach verwendetem Pulver. Für die heslen Ablagerungen von Metallen wie Kupfer und nichtrostendem Stahl soll die Partikelgiöße klein sein, nämlich etwa 0,05 nun im Dm eh messe r. I-ür Polytctrafluoiäthylen und andere Kunststoffe, die einen niedrigeren Schmelzpunkt haben, kann die Partikelgröße im Bereich \"ii 0,2.¹S bis O,fi35 mm liegen.

In l-ig. S ist die fertig montierte Plasmaspiitzvori iehtung mit einem Griff 36 und mit einer Verkleidung 37 gezeigt. Das Pulver wird durch die Leitung 18 zugeführt; Kühlwasser-Zufluß- und -Ablaulleitiingen 40 und 41 sjiul am unteren Teil des Hauptgehäuses angebracht, hs ist eine I lamme 42 aus Plasma mit pulverföimigem Material gezeigt, die Material auf ein Substrat 43 aus einem geeigneten Werkstoff ablagert.

Wenn die Gleichslromcnergic μ η einem normalen Wechsclstiomnet/.ansehluß a'.is ei/eugt werden soll, kann eine Glcichrichterschalumg gemäß tier Darstel·

lung in lig. ^K> eingesetzt werden. Die Schaltung ist bekannt und umfaßt einen Transformator 45 mit einer Primärwicklung 46, die in Reihe mit einem Regelwideistand 47 geschaltet ist. Hine Sekundärwicklung 48 ist mit einem Zweiweggleichrichter 50 verbunden, der \ier Halbleiterdioden 51 umlaßt. Hin Amperemeter 52 ist in Reihe zu dem Lastleiter geschaltet, und ein Voltmeter 53 ist parallel zur Last geschaltet. Diese Instrumente sind erforderlich, um den Lichtbogen auf die richtige Stärke einzustellen, da der Lichtbogen sieh inncrhalbder Vorrichtung befindet und nicht zu sehen ist. Der Schalter 19 verbindet die Gleiehriehtersehaliung mit den Lichtbogenanschlüssen.

I'.s sind Polytetrafluorüthylen, Polyäthylen und Polypropylen in Pulverform auf ein Substrat aufgespritzt worden, um einen einheitliehen, geschlossenen HIm zu bilden, leinersind mit der Vorrichtung Metallpulver wie Aluminiuni, Kupfer. Zinn und Blei erfolgreich verspritzt wurden.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Plasmaspritzvorrichtung für auf einem Substrat abzulagerndes wärmeschmelzbares, pulverförmiges Material, mit einer einen Plasmakanal einschließenden Düse, in deren der Austrittsöffnung abgewandtem Teil ein Lichtbogenkanal mit einer sich konisch erweiternden Fläche als erster Elektrode und einem hierzu axial ausgerichteten Zylinder als zweiter Elektrode gebildet ist, mit einer an dem der Austrittsöffnung der Düse entgegengesetzten Ende des Lichtbogenkanals angeordneten Gaszuführung, und mit einer in den Plasmakanal stromabwärts des Lichtbogenkanals mündenden Materialzuführung, dadurch gekennzeichnet,

- daß die Gaszuführung eine Gasvcrteilerplattc (25; 2SA) mit einer Vielzahl von zur Bildungeines rotierenden Gasstroms bezüglich der Längsachse des Plasmakanals (15) im Winkel geneigten Gaszuführungskanälen (33) aufweist, und

- daß die Materialzuführung (18, 17; MB) wenigstens einen in den Plasmakanal (15) mündenden, in Strömungsrichtung im spitzen Winkel bezüglich der Längsachse des Plasmakanals (15) ausgerichteten Kanal (17; 17a) aufweist.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere diametral am Düsenzylinder (14; 14/4) gegenüberliegende Kanäle (17; 17/4) für die Zuleitung des pulverföimigen Materials vorgesehen sind.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zylinderförmig ausgebildete zweite Elektrode (21, 22, 23, 24) an dem der Kcgelf.äche (20; H)A) gegenüberliegenden Ende (21) konisch ausgebildet ist und einen Winkel aufweist, der größer als der Winkel der Kcgclfläche (20; 20/1) ist.

4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis

3, dadurch gekennzeichnet, daß der Plasmakanal (15) in seinem Teilbereich zwischen der Kegelfläche (20/1) und den Eintrittsöffnungen der Kanäle (MA) für das pulverförmige Material sich stetig erweitert und in die angrenzenden Bereiche stetig übergeht.

5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche I bis

4, dadurch gekennzeichnet, daß der vor dem Lichtbogenkanal liegende Raum eine größere lichte Weite aufweist als der sich in Strönuingsrichtung an den Lichtbogenkanal anschließende Plasmakanal (15).

iS. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Vielzahl von Gaszuführungskanälen (33) auf der Gasverteileiplatte (25; 25A) gleichmäßig verteilt auf einem Kreis angeordnet ist.