DE2121010B2

DE2121010B2 - Verfahren zur Herstellung einer Preßform

Info

Publication number: DE2121010B2
Application number: DE19712121010
Authority: DE
Inventors: Herbert I. Scher; Israel S. Ungar; George J. Baltimore Wohnhaas
Original assignee: Nevamar Corp
Current assignee: Nevamar Corp
Priority date: 1971-04-29
Filing date: 1971-04-29
Publication date: 1980-07-31
Also published as: DE2121010A1; DE2121010C3

Description

Die Erfindung bezieht sich auf die Herstellung einer Preßplatte gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1. die zur Fabrikation von Schichtstoffen Verwendung findet. Dabei sollen Schichtkörper mit einer gemusterten Oberfläche hergestellt werden.

Bei der Herstellung von Schichtpreßstoffen werden mit Phenolharz imprägnierte Innenpapierlagen und Schmuck- oder Überzugsschichten aus Melaminharz gemeinsam bei 110 bis 154°C unter Drücken von etwa 70 bis 105 bar verpreßt. Dabei entsteht ein hartes, schönes und dauerhaftes Material, das als Tischbelag, Schreibtischbelag oder Belag für Ladentische Verwendung findet.

Um ein Ankleben des Kunstharzes an der Preßform zu vermeiden, hat man bisher eine Aluminiumfolie oder mit Aluminiumfolie beschichtetes Kraftpapier als Trennschicht zwischen der Metallform und der mit Melaminharz imprägnierten Oberschicht des herzustellenden Schichtpreßstoffes eingelegt. Die Aluminiumpapierfolie, die die Trennschicht bildet, kann jedoch lediglich für ein einziges Preßverfahren verwendet werden. Nach der Herstellung des oberflächlich gemusterten Schichtpreßstoffs muß die Trennschicht verworfen und eine neue Trennschicht für den nächsten Arbeitsgang verwendet werden. Die Kosten der aus mit Aluminiumfolie überzogenem Papier bestehenden Trennschicht sind nicht unbeträchtlich. Man hat auch andere Musterungen erzeugende Trennschichten einschließlich imprägnierter und mit Silikonharz überzogener Papiere verwendet, aber diese sind ebenfalls teuer.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht daher darin, bei der Herstellung gemusterter PreßDlatten ein Ankleben des Kunstharzes an der Preßform zu vermeiden, ohne daß das Einlegen einer Trennfolie zwischen Preßform und der Kunstharzschicht erforderlich ist

Überraschenderweise wurde gefunden, daß dies beim Warmhärten von Schichtpreßstoffen unter \erwendung einer harten, hitzebeständigen Metallpreßplatte möglich ist, wenn die Platte zuvor poliert und mit kleinen glatten, nicht scheuernden Kügelchen mit hoher Geschwindigkeit abgestrahlt wird Unter diesen Umständen ist das Herstellen von Schichtpreßstoffen mit gemusterten Oberflächen ohne Trennfolie möglich.

Vorteilhaft ist es, wenn die Platte vor oder nach dem Abstrahlen mit einer Chromplattierung überzogen wird. Nach einer anderen Ausführungsform der Erfindung

is kann man auch die Platte zunächst mit Schrot abstrahlen, dann elektrisch polieren und schließlich mit Chrom plattieren.

Aus der DE-AS 13 01462 ist ein Verfahren zur Herstellung von Preßplatten mit gemusterter Oberfläehe bekannt, dabei handelt es sich darum, auf der Oberfläche einer plastifizierbaren durchsichtigen Kunststoffolie optisch wirksame Linsen zu erzeugen. Dies geschieht dadurch, daß auf galvanischem Wege eine entsprechende Metallfläche gebildet und diese nach Erreichen der erforderlichen Dicke von der vorhandenen Grundlage abgelöst und als Arbeitsfläche auf einer widerstandsfähigen Platte befestigt wird.

Das Anblasen von zu reinigenden Flächen, also nicht etwa einer Preßform, mit Schrotkügelchen ist aus der DE-AS 11 66 076 bekannt.

Die aus hartem, hitzebeständigen Metall wie rostfreiem Stahl bestehende Metallplatte wird mit einer polierten Oberfläche versehen. Dies kann durch Schleifen, Aufrauhen oder dergleichen geschehen.

Besonders dann, wenn das Polieren als zweite oder dritte Behandlungsmaßnahme durchgeführt wird, ist es vorzuziehen, ein elektrisches Polierverfahren anzuwenden.

Eine weitere vorzugsweise Behandlung besteht im

■to Chromieren der Oberfläche der Preßplatte. Der Chromüberzug kann durch unmittelbares Eintauchen, durch chemisches Niederschlagen oder durch eine elektrische Plattierung erzeugt werden. Die Dicke der Chromplattierung ist nicht kritisch, obwohl sie verhältnismäßig dünn sein soll. Eine Chromplattierung von 8 bis 13 μπι hat sich als optimal erwiesen.

Weiterhin wird die Oberfläche der Preßplatte durch Anblasen oder Bombardieren mit kleinen, glatten, nicht scheuernden, harten Kügelchen abgestrahlt, um eine fein gerauhte Oberflächenbeschaffenheit zu erzielen. Dies ist eine kritische Maßnahme, denn es hat sich herausgestellt, daß die Verwendung von scheuernden Teilchen, wie Alumniumoxyd, Siliciumcarbid oder Sand, keine zufriedenstellende Formplatte erzeugt. Wenn

« scheuernde Teilchen zum Aufblasen auf die Plattenoberfläche verwendet werden und eine derartige Platte unmittelbar in Berührung mit dem mit Harz imprägnierten Papier verwendet wird, haftet der fertige Schichtstoff an der Platte und löst sich nur mit großer

w· Schwierigkeit ab. Dies verursacht oft ein Zerreißen oder Beschädigen des Schichtstoffs. Im übrigen ist die Musterung sowohl im Aussehen wie in der Struktur nicht befriedigend.

Es ist denkbar, daß ein Schleifmaterial, welches

^h' scharfe Ecken und Kanten aufweist, Unterschneidungen der Plattenoberfläche während des Auftreffens verursacht, während umgekehrt runde Körner, die im wesentlichen glatt sind, keine solche Unterschneidung

verursachen. Bei der Verwendung einer Platte mit Unterschneidungen wird der Kunststoff in diese unterschnittenen Teile der Platte bei der Bildung des Schichtpreßstoffs eingebettet Diese Einbettung kann so stark werden, daß es unmöglich wird, den Schichtstoff von der Platte zu entfernen. Wenn es doch gelingt, ihn von der Platte zu lösen, besitzt er eine verwischte Oberfläche infolge des Abreißens des Kunststoffs aus den unterschnittenen Teilen. Dies schafft eine rauhe Struktur und ein unerwünschtes Aussehen.

Die Kügelchen, die gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden, bestehen vorzugsweise aus Chromstahlschrot von einem Durchmesser von 0,25 bis 1 mm. Dieses Schrot läßt man vorzugsweise mit einer Geschwindigkeit von 1340 bis 3350 m/min auftreffen. Im allgemeinen ist es vorzuziehen, eine feingeraühte Oberfläche zu erzielen, wobei die Vertiefungen einen Mittelwert von 25 bis 76 μπι entsprechen.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung im einzelnen erläutern, ohne sie zu begrenzen.

Beispiel I

Eine Stahlplatte wird hochpoliert und mit einer dünnen, harten Chromoberfläche von 9 μηι Dicke überzogen. Eine derartige Stahlplatte kann zur Herstellung von glänzenden Schichtpreßstoffen verwendet werden. Diese Platte wird jedoch mit nichtscheuernden Kügelchen ^schössen oder bombardiert. In diesem Fall handelt e» .ich um Chromstahlschrot von 0,6 mm Durchmesser. Die Platte wird ohne zusätzliches Trennmittel zum Herstellen von Schichtpreßstoff mit gemusterter Oberfläche verwendet. Es wird kein mit Aluminiumfolie überzogenes Kraftpapier als Trennschicht oder eine andere Art von Trennfolie verwendet. Der unter üblichen Bedingungen, was Hitze und Druck anlangt, hergestellte Schichtstoff löst sich leicht von der Druckplatte. Sein Aussehen ähnelt dem eines Schichtpreßstoffs mit gemusterter Oberfläche, der mit Hilfe einer Trennschicht aus einem mit einer Aluminiumfolie überzogenen Kraftpapier hergestellt ist.

Beispiel II

Eine rostfreie Stahlplatte geeigneter Abmessungen wird wie im Beispiel I bombardiert unter Verwendung eines kugeligen Stahlschrots von 0,3 mm Durchmesser. Die Geschwindigkeit des Beschüsses beträgt etwa 1830 m/min. Die mit dem Schrot angeblasene Stahlplatte wird dann auf elektrischem Wege bis zu der gewünschten Glanzstufe poliert und anschließend mit einer Chromschicht von 13 μπι Dicke plattiert Die Preßplatte wird nun bei der Herstellung eines Schichtpreßstoffs mit gemusterter Oberfläche wie in Beispiel I verwendet Trotz der bei der Herstellung verwendeten hohen Druck- und Temperaturbedingungen löste sich die Platte leicht von dem Schichtstoff. Der Schichtstoff besaß die gewünschte Struktur und das entsprechende Aussehen.

Beispiel III

Eine Stahlplatte, wie sie in Beispiel II verwendet wird, wird zunächst bis zu dem gewünschten Glanzgrad auf elektrischem Wege poliert S>e wird dann unter Verwendung eines kugeligen Stahlschrots von 1 mm Durchmesser beschossen. Über diese so bearbeitete Oberfläche wird nun eine Chromschicht von 10 μιη Dicke auf elektrischem Wege aufplattiert. Wie in den Beispielen I und II kann die Preßplatte wiederholt verwendet werden, ohne daß eine Zerstörung auftritt, und sie schafft in dauerhafter Weise einen Schichtpreßstoff mit sehr schön gemusterter Oberfläche.

Beispiel IV

Das Verfahren nach Beispiel II wird wiederholt, ohne die Preßplatte mit einer Chromplattierung zu versehen. Das Ergebnis ist durchaus zufriedenstellend.

Beispiel V

Um die Wirkung von Schleifmitteln zu untersuchen, wurden verschiedene Platten mit üblichem Sandstrahlgebläse behandelt Dabei wurde Siliciumcarbid der Größen SAE G-80, G-120, G-200 und G-325 verwendet. Ebenso wie bei dem Verfahren nach Beispiel 1 wurden die Platten zunächst poliert, dann mit Chrom plattiert und schließlich mit dem Schleifmittel angeblasen. In allen Fällen klebten die so erhaltenen Platten bei ihrer Verwendung zum Herstellen von Schichtpreßstoffen an dem fertigen Schichtstoff fest. In den Fällen, in denen es noch möglich war, die Metallplatte von dem fertigen Schichtstoff zu trennen, war die Struktur und das Aussehen des Schichtstoffs unbefriedigend.

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Herstellen einer Preßform zum wiederholten Gebrauch bei der Herstellung von Schichtpreßstoffen mit gemusterter Oberfläche im Warmhärtungsverfahren unter Verwendung einer harten, hitzebeständigen, metallischen Preßplatte, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte poliert und mit kleinen, glatten, nicht scheuernden Kügelchen mit hoher Geschwindigkeit abgestrahlt wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die polierte Platte vor dem Abstrahlen mit einer Chromplatiierung überzogen wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die polierte Platte nach dem Abstrahlen mit Chrom plattiert wird

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte zunächst mit Schrot abgestrahlt, dann elektrisch poliert und schließlich mit Chrom plattiert wird.

5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte beim Abstrahlen Vertiefungen von 25 bis 76 μπι erhält.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die kleinen, harten Kügelchen aus Chromstahlschrot von etwa 0,25 bis 1 mm Durchmesser bestehen.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anblasgeschwindigkeit etwa 1340 bis 3350 m/min beträgt.