DE2107110B2 - Ladungsübertragungsvorrichtung - Google Patents
LadungsübertragungsvorrichtungInfo
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Description
werden.
4 Ladungsübertragungsvorrichtung nach einem
4 Ladungsübertragungsvorrichtung nach einem
der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der Halbleiterkörper aus Galliumarsenid besteht.
5. Ladungsübertragungsvorrichtung nach Anspruch I, gekennzeichnet durch eine Einrichtung
zur Erzeugung von Minoritätsladungsträgern, die einen pn-übergang (117 a, 118 α...) umfaßt.
6. Ladungsübertragungsvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung
zur Erzeugung von Minoritätsladungsträgern, die eine Lichtquelle umfaßt.
7. Ladungsübertragungsvorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, gekennzeichnet durch eine
Wiedergabeeinrichtung (140) zur dauernden Wiedergabe von Eingangsinformationssignalen
in» Sinne eines Kreisbetriebes, wozu die Eingangsinformationssignale periodisch einer Eingangsstufe
wieder zugeführt werden.
8. Ladungsübertragungsvorrichiung nach Anspruca 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden
in Form von Gruppen aus jeweils einer Vielzahl von hintereinander angeordneten Elektroden
auf der Isolierschicht angebracht sind, wobei jede Elektrodengruppe eine Bildzeile eines
Fernsehrasters darstellt und einen Übertragungsweg längs der darunterliegenden Oberfläche des
Halbleiterkörper* bildet, daß eine zusätzliche Vorspannungsquelle vorgesehen ist und daß die
Einrichtung zum gleichzeitigen Abschalten der Vorspannung derart ausgebildet ist, daß die Vorspannung
von jeder, jedoch nicht notwendigerweise von allen Elektrodengruppen gleichzeitig
abschaltbar ist, wodurch bei der dabei erfolgenden Rekombination der Minoritätsladungsträger
ein Fernsehausgangssignal an jeder Elektrodengruppe erzeugt wird.
9. Bildwiedergabevorrichtung unter Verwendung der Ladungsübertragungsvorrichtung nach
Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Photokathode (152), einen Leuchtbildschirm (151), eine
Einrichtung (154) zur Abbildung des Ausgangssignals der Ladungsübertragungsvorrichtung (153)
auf der Photokathode (152) und eine Einrichtung zur Abbildung des Ausgangssignals der Photokathode
(152) auf dem Leuchtbildschirm (151).
Die Erfindung bezieht sich auf eine Ladungsübertragungsvorrichtung
der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 näher bezeichneten Art und auf eine Bildwiedergabevorrichtung unter Verwendung einer
solchen Ladungsübertragungsvorrichtung. Es sind Halbleitervorrichtungen bekannt (NL-OS 6 805 706),
die aus einer Kette von bipolaren Transistoren oder Feldeffekttransistoren aufgebaut sind, wobei die
Drainelektrode jedes Transistors mit der Sourcselektrode des nächstfolgenden Transistors verbunden ist
und zwischen der Drain- und Gateelektrode jedes Transistors ein Kondensator angeordnet ist. Die Gateelektroden
jedes zweiten Transistors der Kette sind parallel geschaltet, wodurch zwei Steuereir.gänge der
Halbleitervorrichtung gebildet werden, die über jeweils eine Taktleitung mit gegenphasigen Taktsignalen
bzw. Taktspannungen beaufschlagt werden. Wird der Halbleitervorrichtung ein Eingangs- bzw. Iniermationssignal
in Form von Ladungen zugeführt, so werden diese Ladungen bei jedem Takt von Kondensator
zu Kondensator weitergeschoben und dabei kurzzeitig gespeichert. Infolge dieser Funktionsweise
werden die erwähnten Halbleitervorrichtungen als »Eimerkettenschaltungen« bezeichnet.
Obwohl es grundsätzlich möglich ist, Eimerkettenschaltungen aus diskreten Elementen aufzubauen,
habeii diese eine praktische Bedeutung nur in Form
von integrierten Schaltkreisen erlangt. Hie^u wird in
die Oberfläche eines Halbleitersubstrates eine Vielzahl von Source- und Drainelektroden eindiffundiert
und die dazwischenliegenden, undiffundierten Oberflächenbereiche (Gate^onen) des Substrates mit Anschlußelektroden
versehen. Zur Schaffung der Kondensatoren werden die Gateelektroden zu jeweils einer diffundierten Zone hin verlängert, so daß die
Überlappungskapazität zwischen jeder diffundierten Zone und dem darunterliegenden Teil der betreffenden
Gateelektrode den gewünschten Kondensator bildet.
Neben den Eimerkcttenschaltungen gibt ls integrierte
Halbleitervorrichtungen (prioritätsgleiche DT-OS 2 107 022), h<*i denen ein Eingangssignal in
Form von beweglichen Raumladungen in Potentialminima (»Potentialmulden«) des Oberflächenpotentials
eines Halbleitersubstrates gespeichert und durch Verschieben der Potentialmulden längs der Substratoberfläche
übertragen wird. Zur Erzeugung der Potentialmulden ist die Substratoberfläche mit einer
Vielzahl von hintereinanderliegenden Elektroden versehen, von denen jede dritte Elektrode parallel
geschaltet ist, so daß drei verschiedene Steuereingänge der Halbleitervorrichtung gebildet werden, die
über jeweils eine Taktleitung mit einer Phasenspannung einer 3-phasigen Taktspannung beaufschlagt
werden. Eine 3 phasige Taktspannung ist erforderlich, um eine definierte Übertragungsrichtung für das
Eingangssignal zu schaffen. Es ist aber auch möglich (priorilätsgleiche DT-OS 2 107 037), in ähnlicher
Weise wie bei den Eimerkettenschaltungen nur Zweitaktleitungen bzw. gegenphasige Spannungen
vorzusehen, wenn beispielsweise durch eine Abstufung der Dicke jeder Anschlußelektrode die Potentialmulden
asymmetrisch geformt werden. Die Halbleitervorrichtungen des letztgenannten Typs werden
als »ladungsgekoppelte Schaltungen« bezeichnet, die mit den Eimerkettenschaltungen unter dem Oberbegriff
der »Ladungsübertragungsvorrichtungen« zusammengefaßt werden. Die ladungsgekoppelten
Schaltungen können unter anderem zur Bildaufzeichnung verwendet werden, indem das Halbleitersubstrat
mit Licht beaufschlagt wird.
Demgegenüber besteht die Aufgabe der Erfindung darin, eine Ladungsübertragungsvorrichtung der eingangs
erwähnten Art zur Verwendung in Bildwiedergabeeinrichtungen auszubilden.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Kennzeichen des Patentanspruchs 1 angegebenen
Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Ladungsübertragungsvorrichtung nach Patentanspruch
1 sind in den Patentansprüchen 2 bis 9 gekennzeichnet.
Durch die Verwendung eines Substrates mit lumineszenten
Eigenschaften können Bildwiedergabegeräte, insbesondere Fernsehröhren hergestellt werden,
bei denen eine gegenüber herkömmlichen Fernsehiöhren erforderliche Bildwiedergabe mittels Elektronenstrahls
entbehrlich ist Durch den dadurch bedingten Wegfall des Elektronenstrahlsystems können
die Bildwiedergabevorrichtungen sehr flach ausgebildet sein.
Die Erfindung wird mit ihren weiteren Einzelheiten und Vorteilen an Hand der Zeichnungen näher
erläutert.
Es zeigt
Es zeigt
F i g. 1 ein schematisches Schaltbild einer erfindungsgemäßen
Ladungsübertragungsvorrichtung zur Bildwiedergabe in Form einer ladungsgekoppelten
Schaltung;
F i g. 2 ein schematisches Schaltbild einer weiteren erfindungsgemäßen Ladungsübertragungsvorrichtung
zur Bildwiedergabe in Form einer Eimerkettenschaltung:
F i g. 3 eine Schaltungsanordnung zum Kreisbetrieb von Fernsehinformationssignalen zur Verwendung
bei dem Ausführungsbeispiel nach F i g. 1 und
F i g. 4 eine Bildwiedergabevorrichtung unter Verwendung einer erfindungsgemäßen Ladungsübertragungsvorrichtung nach F i g. 1 oder 2.
F i g. 4 eine Bildwiedergabevorrichtung unter Verwendung einer erfindungsgemäßen Ladungsübertragungsvorrichtung nach F i g. 1 oder 2.
In Fig. 1 ist der Eingangsteil einer erfindungsgemäßen
Ladungsübertragungsvorrichtung in Form einer ladungsgekoppelten Schaltung dargestellt. Die
Ladungsübertragungsvorrichtung besteht aus einem Halbleiterkörper 100, auf dem eine Isolierschicht
101 niedergeschlagen ist. Auf der. Isolierschicht 101 ist eine Folge von hintereinander angeordneten Elektroden
102 a, 103ö und 104 a angebracht, die über
Taktleitungen 102', 103' bzw. 104' und einen Schalter 107 mit einer nicht dargestellten, 3-phasigen Taktimpulsquelle
sowie einer Vorspannungsquelle 108 verbunden sind. Die Vorspannungsquelle 108 sorgt
für eine gleichbleibende Verarmungsschicht unter den Elektroden, wodurch spontane Rekombinationen
der in dem Halbleiterkörper 100 übertragenen Minoritätsladungsträger
während des Einschreibens verhindert werden. Eine weitere, den Eingang des HaIbleiterkörpers
100 bildende Elektrode 105 wird mit dem aufzuzeichnenden Videosignal beaufschlagt.
Erfindungsgemäß besteht der Halbleiterkörper 100 aus elektrolumineszentem Material. Bei Verwendung
von Elektrolumineszenzmaterial, wie Galliumarsenid, dessen Emission im nicht sichtbaren Spektralbereich
liegt, kann auf dem Halbleiterkörper 100 eine Bildwandlerschicht 106 aufgebiacht werden. Zur Wiedergabe
eines Fernsehbildes wird das Videosignal in die Eingangsstufe eingelesen und durch sequentielle Beaufschlagung
der Elektroden 102 a bis 104 a mit den
3-phasigen Impulsen der Taktimpulsquelle schrittweise
längs der sich unterhalb den Elektroden ausbildenden Speicherstellen übertragen. Sobald die dem
Videosignal entsprechende Minoritätsladungsträgermenge in den gewünschten Speicherplatz unterhalb
einer der Elektroden (im dargestellten Beispielsfalle die Elektrode 104«) übertragen ist, kann das Auslesen
beginnen. Hierzu ist eine Ausgangsstufe nicht erforderlich; vielmehr braucht lediglich der Schalter
107 geöffnet zu werden, wodurch die gespeicherten Minoritätsladungsträger mit Majoritätsladungsträgern
aus dem Halbleiterkörper 100 unter Aussendung von Licht rekombinieren. Das ausgesendete
Licht weist über die Fläche des Halbleiterkörpers hinweg eine örtliche Intensität auf, die der örtlich
vorhandenen Minoritätsladungsträgermenge entspricht.
Jede Folge von Elektroden 102 a bis 104 a stellt eine Bildzeile eines Fernsehrasters dar. welche in der
vorstehenden Weise eingelesen und ausgelesen wird. Das Fernsehbild entsteht dabei durch sequentielles
Auslesen von aufeinanderfolgenden Bildzeilen.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel für eine Ladungsübertragungsvorrichtung
zur Bildwiedergabe ist in F i g. 2 dargestellt. Die gezeigte Ladungsübertragungsvorrichtung
entspricht in ihrem grundsätzlichen Aufbau einer ladungsgekoppelten Schaltung, wie sie
in der eingangs bereits erwähnten NL-OS 6 805 706 beschrieben ist. Die Ladungsübertragungsvorrichtung
110 umfaßt einen Halbleiterkörper 112 eines ersten Leitungstyps (im dargestellten Beispielsfalle N-Leitung),
in dessen Oberfläche eine Vielzahl von örtlich festgelegten Zonen 117 a bis 117 η und 118 a bis
118 η des entgegengesetzten Leitungstyps (im betrachteten Beispielsfalle P-Leitung) eindiffundiert
sind. Auf dem Halbleiterkörper ist eine Isolierschicht
114 niedergeschlagen, auf dem wiederum eine Vielzahl von hintereinander angeordneten Elektroden
115 α bis 115 η und 116 α bis 116 η in der eingangs
bereits erwähnten Ausrichtung zu den P-leitenden
Zonen angebracht sind. Jede zweite Elektrode ist mit einer gemeinsamen Taktleitung 115' bzw. 116' verbunden,
z. B. die Elektroden 115 a bis 115 η mit der Taktleitung 115'. Abweichend hiervon ist die erste,
eine Eingangsstufe darstellende Zone 120 über die Elektrode 119 mit einer Eingangsklemme 122 verbunden.
Wie ohne weiteres erkennbar ist, können jeweils zwei benachbarte Zonen, beispielsweise die Zonen
120 und 117a, 118a und 1176 usw., als Source- und Drainbereich eines Feldeffekttransistors mit isoliertem
Gate (IGFET = Isolated Gate Field Effect-Transistor) betrachtet werden. Dementsprechend
stellen die Elektroden 115 a bis 115« und 116 a bis
116 η jeweils eine Gateelektrode eines derartigen Feldeffekttransistors dar, während die Bereiche des
Halbleiterkörpers zwischen jeweils einer Source- und Drainzone als Leitungskanal des Feldeffekttransistors
anzusehen sind.
Im Betrieb werden über eine Taktimpulsquelle 129 2-phasige Taktimpulse Φ, und Φ2 an die Taktleitungen
115' und 116' angelegt. Hierdurch werden die Elektroden abwechselnd positiv und negativ vorgespannt,
wodurch sich in den Bereichen des Halbleiterkörpers 112 unter der jeweils negativ vorgespannten
Elektrode ein P-leitender Kanal ausbildet, über den die gespeicherten, eine Information darstellenden
Ladungsträger weiter geschoben werden können. Im einzelnen ist die Wirkungsweise der Vorrichtung
nach Fig.2 in der bereits erwähnten NL-OS
6 80S 706 beschrieben und bedarf daher keiner weiteren Erläuterung.
Der Halbleiterkörper 112 ist zur Festlegung des Bezugspotentials (im dargestellten Beispielsfalle Erdpotential)
an seiner der Zonen 117,118 abgewandten
Oberfäche mit einer lichtdurchlässigen Elektrode 113 beschichtet. Falls die N+-Leitfähigkeit des Halbleiterkörpers
112 genügend hoch ist, kann die Elektrode 113 auch weggelassen werden.
Die Elektroden 115, 116 bilden in gleicher Weise wie die Elektroden 112 α bis 104 α gemäß F i g. 1
eine Bildzeile eines Fernsehrasters. Die Videosignale für die betreffende Bildzeile werden über die Eingangsklemme
122 und die Elektrode 119 in die P-leitende Zone 120 eingelesen und von dort sequentiell
zu den nachfolgenden Zonen 117, 118 übertragen.
ίο Sobald die das Videosignal darstellenden Ladungsträger
in der gewünschten Zone gespeichert sind, kann das Auslesen der Bildzeile beginnen. Hierzu
werden sämtliche Elektroden 115, 116 von einer Vorspannungsquelle 134 mit einem positiven Impuls
beaufschlagt, wodurch die einzelnen Feldeffekttransistoren stromleitend werden und die in der gewünschten
Zone gespeicherten Minoritätsladungsträger in den Halbleiterkörper 112 injiziert werden. Hier rekombinieren
sie unter Aussendung von Licht mit den vorhandenen Majoritätsladungsträgern. Der Halbleiterkörper
112 sollte zur Erzielung eines optimalen Licht-Ausgangssignals sowie zur Vermeidung von
Auflösungsverlusten durch innere Reflektionen verhältnismäßig dünn sein. Es hat sich gezeigt, daß eir·^
Dicke des Halbleiterkörpiirs von weniger als 40 (im,
vorzugsweise weniger als 20 μιη, günstig ist.
In manchen Anwendungsfällen ist die durch die Ladungsübertragungsvorrichtungen nach Fig. 1
und 2 erzielte Lichtintensität nicht ausreichend. Zur Verbesserung der Lichtintensität bzw. Bildhelligkeit
kann die Schaltungsanordnung nach F i g. 3 verwendet werden. Die aufzuzeichnenden Videosignale werden
bei der dort dargestellten Schaltungsanordnung zunächst einem Regenerierspeicher 140 zugeführt,
welcher einen Teil der die Bildzeile darstellenden Information
der Bildwiedexgabevorrichtung 141 zuführt, während der andere Teil der Information erneut
dem Speichereingang zugeführt wird. Beim Einschreiben der nächstfolgenden Bildzeile wird dieser
rückgeführte Informationsteil der Bildwiedergabevorrichtung 141 zugeführt und dabei aus dem Regenerierspeicher
140 ausgespeichert. Die Zeilenwiederholungsfrequenz des Fernsehbildes entspricht
dabei dem Produkt aus der Bildaufzeichnungszeit
und der Anzahl der Bildzeilen. Bei bekannten Bildwiedergabesystemen
ist dagegen die Zeilenwiederholungsfrequenz gleich der Bildaufzeichnungszeit, wodurch
bei der Schaltung nach Fig.3 die zur Aufzeichnung
eines Bildes erzeugte Lichtmenge um
einen Faktor gleich der Anzahl der Bildzeilen größei
ist als bei den bekannten Wiedergabevorrichtungen Ferner kann die Bildfrequenz oberhalb der Flimmerfrequenz
eingestellt werden. Durch Ausdehnung dei Bildaufzeichnungszeit kann die erforderliche Übertragungsbandbreite
verringert werden. Die Nachleuchtdauer der bei der Schaltung nach F i g. 3 verwendeten
Leuchtbildschirme kann gegenüber sonsi verwendeten Leuchtbildschirmen verringert werden
so daß eine hohe Bildfolge möglich ist
Da die Abmessungen der Bildwiedergabevorrichtungen duTch die Kosten für den Halbleiterköroei
begrenzt sind, ist es günstig, Bildwiedergabevorrich
tungen ohne Direktbetrachtung des Halbleiterkörper! vorzusehen. Eine derartige Bildwiedeigabevorrich-
tung zeigt Fig.4. Der dort dargestellte Kolben 15(
einer Vakuumröhre enthält einen herkömmlicher Leuchtbildschirm 151. Die Elektronenquelle ist ein«
Photokathode 152, deren Elektronenverteilup-i mit
tels nicht dargestellter Fokussierungselemente auf dem
Leuchtbildschirm 151 abgebildet wird. Die Photokathode 152 wird zusammen mit der Ladungsübertragungsvorrichtung
153 betrieben, welche eine Ausführungsform nach F i g. 1 oder 2 sein kann. Das Licht-Ausgangssignal der Vorrichtung 153 wird
auf der Photokathode 152 mit Hilfe eines Linsensystems 154 abgebildet. Bei dieser Ausführungsform
braucht das von der Vorrichtung 153 emittierte Licht nicht im sichtbaren Spektralbereich zu liegen, was
beispielsweise bei der Verwendung von Galliumarsenid als Werkstoff für den Halbleiterkörper der erfindungsgemäßen
Ladungsübertragungsvorrichtungen der Fall ist. Im Vergleich zu den bekannten Fernsehbildröhren
vermeidet die in F i g. 4 dargestellte Wiedergabevorrichtung ein aufwendiges Elektronenstrahl-Abtastsystem,
wodurch neben einer Verringerung der Herstellungskosten auch eine bessere BiId-
auflösung infolge geringerer momentaner Stromdichten ermöglicht ist.
Die zur Herstellung der erfindungsgemäßen Ladungsübertragungsvorrichtungen
erforderlichen
Halbleiterwerkstoffe sind aus der Technologie der
Elektrolumineszenzdioden bekannt. Ein bevorzugter Werkstoff ist Galliumarsenid auf Grund seines hohen
Wirkungsgrades. Für die Isolierschicht kommen Siliziumdioxid oder Kombinationen von Siliziumdioxid
ίο mit Siliziumnitrid oder Aluminiumoxid in Betracht.
Als Elektrodenwerkstoff können Gold, Aluminium oder dotiertes Silizium Anwendung finden. Eine hergestellte
Ladungsübertragungsvorrichtung nach dei Erfindung enthielt ein Halbleiterkörper aus Galliumarsenid
und eine Isolierschicht aus Siliziumdioxid mit einer Dicke zwischen 1000 und 2000 A. Die aus
Gold hergestellten Elektroden wiesen eine Dicke zwischen 0,1 bis einige μπι auf.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen 409 586/2
Claims (3)
1. Ladungsübertragungs vorrichtung mit einem halbierenden Ladungsspeichermedium, das einen S
Bereich zum Einbringen einer steuerbaren Menge von Ladungsträgern eines vorgegebenen Leitungstyps
in das Ladungsspeichermedium aufweist, wobei auf dem Ladungsspeichermedium eine Isolierschicht und auf dieser eine Anzahl
von Elektroden angebracht sind, dadurch gekennzeichnet, daß das Ladungsspeicherniedium
zur Wiedergabe eines Lichtbildes mit lumineszenten Eigenschaften versehen ist, daß die Ladungsträger gemäß einem dem Licht- »5
bild entsprechenden Ladungsmuster speicherbar sind und daß eine Einrichtung (107, 134) zur
Herbeiführung einer gleichzeitigen Kombination der gespeicherten Ladungsträger mit Ladungsträgern
des entgegengesetzten Leitungstyps unter ao Aussendung des dem gespeicherten Ladungsmuster
entsprechenden Lichtbildes vorgesehen ist.
2. Ladungsübertragungsvorrichtung nach Anspruch 1. wobei das Ladungsspeichermedium
einen Halbleiterkörper umfaßt, der zumindest teilweise mit einer dünnen Isolierschicht bedeckt
ist, auf deren Oberfläche die Elektroden angeordnet sind, und wobei die Übertragung der am Eingang
des Ladungsspeichermediums erzeugten Minoritätsladungsträger in der Weise erfolgt, daß
sich bei sequentieller Spannungsbeaufschlagung der Elektroden unterhalb der Elektroden Verarmungsbereiche
ausbilden, dadurch gekennzeich net, daß der Halbleiterkörper (100) elektroluminiszentes
Material enhält und daß eine Hinrichtung (107) zur gleichzeitigen Abschaltung der
Spannung von allen Elektroden vorgesehen ist, wobei durch den dabei erfolgenden Zusammenbruch
der Verarmungsbereiche die Kombination der in den Verarmungsbereichen gespeicherten
Ladungsträger mit Majoritätsträgern unter Aussendung eines Ausgangssignals in Form von
Licht erfolgt.
3. Ladungsübertragungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei der das Ladungsspeichermedium
eine Halbleiterscheibe aufweist, welche einen blockförmigen Teil des einen Leitungstyps sowie
eine Vielzahl von örtlich getrennten und entsprechend viele pn-Übergänge bildenden Pereichen
des entgegengesetzten Leitungstyps enthält, bei der ferner auf der Oberfläche der Halbleiterscheibe
eine dielektrische Schicht aufgebracht ist und jedem pn-übergang eine Elektrode zugeordnet
ist und bei der die Elektroden abwechselnd mit jeweils einer von zwei Anschlußleitungen verbunden
sind, die an eine zweiphasige Quelle zur abwechselnden Spannungsbeaufschlagung der
Elektroden angeschlossen sind, wobei durch die abwechselnde Spannungsbcaufschlagung der
Elektroden eine Umkehr des Leitungstyps der Minoritätsladungsträger unterhalb der Elektroden
und damit eine sequentielle Übertragung der an der ersten Elektrode erzeugten Ladungsträger
zwischen den pn-Übergängen erfolgt, dadurch gekennzeichnet, daß das Ladungsspeichemiedium
eine elektroluminiszente Halbleiterscheibe ist und daß eine Einrichtung (134) zur gleichzeitigen Beaufschlagung
der Anschlußleitungen mit einer Lesespannung vorgesehen ist, wodurch alle pn-Übergänge in Durchlaßrichtung vorgespanm
und die übertragenen Ladungsträger in der blockförmigen Teil der Halbleiterscheibe zur Rekombination
und Elektroluminiszenz injizier!
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