DE2065245B2 - Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit einem pn-übergang - Google Patents
Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit einem pn-übergangInfo
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N gallium phosphide Chemical compound [Ga]#P HZXMRANICFIONG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 7
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims 4
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 claims 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 claims 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 claims 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 claims 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 claims 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/02387—Group 13/15 materials
- H01L21/02392—Phosphides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/02543—Phosphides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02576—N-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02579—P-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02581—Transition metal or rare earth elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02623—Liquid deposition
- H01L21/02625—Liquid deposition using melted materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02623—Liquid deposition
- H01L21/02628—Liquid deposition using solutions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/065—Gp III-V generic compounds-processing
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S148/00—Metal treatment
- Y10S148/119—Phosphides of gallium or indium
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S252/00—Compositions
- Y10S252/95—Doping agent source material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
3 4
richtung über den Kchtemittierenden PN-Übergang auf der P-Seite des PN-Übergangs 31 erzeugt wird,
durchlaufen, verstanden. Diese Verhältnisgröße wird Von hauptsächlichem Interesse sind daher die Duzuweilen
als sogenannter »äußerer Quantenwirkungs- tierungskonzentrationen innerhalb einer Materialtiefe
grad« der Vorrichtung bezeichvvt und ist größer als von 10 μm auf beiden Seiten des Übergangs 31. Wie
der tatsächliche Eoergtewirkungsgrad, und zwar an- 5 aus der Figur hierzu hervorgeht, weist ein Ausfühnähernd
um das Verhältnis zwischen der Bandlücken- rungsbeispie! einer Elektrolumhieszenz-Vorrichtung
energie und der Photonenenergie. Für Vorrichtungen mit hohem Wirkungsgrad im Bereich des PN-Überder
hier beschriebenen Art ist der Quantenwirkungs- gangs eine Te-Konzentration in dem N-leitenden Magrad
in der Größenordnung von 20% größer als der terial von 0,9 · 10" Atome pro cm8, eine Zn-Konzentatsächliche
Energiewirkungsgrad. μ tration in dem P-leiteaden Material von 3,5 · 1017
Die Erfindung wird mit ihren weiteren Einzelheiten Atome pro cm3 und eine O-Konzentration in dem
an Hand der Zeichnung näher erläutert; die Figur P-leitenden Material von 1,5 · 10" Atome pro cm8 auf.
zeigt ein Diagramm zur Darstellung der Konzentra- Die Dotierungskonzentrationen in größerer Ent-
tion der ve-^Jiiedenen Dotierstoffe in einer Elektro- fernung von dem PN-Übergang beeinflussen den Wir-
lumineszenz-Vorrichtuag mit hohem Wirkungsgrad 15 kungsgrad der erfindungsgemäßen Vorrichtung nur
als Funktion der räumlichen Lage innerhalb der Vor- sekundär. Da das in der Nähe des Übergangs erzeugte
richtung (Dotiemngsprofil), wobei die Donatorkon- Licht vor dem Austritt aus der Vorrichtung den ent-
zentrationen oberhalb der Abszisse und die Akzeptor- fernteren Materialbereich unter Umständen mehrfach
konzentrationen unterhalb der Abszisse wiedergegeben durchlaufen muß, wird der Wirkungsgrad durch eine
sind. ao Absorptionswirkung des vom Übergang entfernteren
Eine Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit dem in Materialbereichs nachteilig beeinflußt Da freie Lader
Figur gezeigten Dotierungsprofil wurde durch Ab- dungsträger rotes Licht absorbieren, kann die Vorrichscheidung
einer P-leitenden Schicht aus Zn- oder O-do- tung derart ausgebildet werden, daß die Dotierungstiertem
Galliumphosphid aus der flüssigen Phase auf konzentration bei wachsender Entfernung von dem
einem Substrat hergestellt Das Substrat wurde seiner- as PN-Übergang abnimmt Unter diesem Gesichtspunkt
seits durch Abscheidung einer N-leitenden Schicht aus ist es für eine Vorrichtung mit hohem Wirkungsgrad
Te-dotiertem Galliumphosphid aus der flüssigen Phase günstig, wenn — wie im Falle des N-leitenden Subauf
einem N-leitenden, aus einer Lösung gezüchteten strats — eine dünne Schicht (etwa 10 μπι) aus stark
Substrat mit schwacher Te-Dotierung gewonnen. Te-dotiertem Galliumphosphid (etwa 2 · 1018 Atome
Gemäß dem Profilabschnitt 34 steigt die Te-Konzen- 30 pro cm8) auf einem schwach dotierten Substrat abgetration
in der N-leiienden Schicht bis zu einem Wert schieden und eine P-leitende Zone entsprechend einer
von 0,9 · 1018 Atome pro cm* am PN-Übergang an, engen Annäherung an die Kompensation von Zn
während die Netto-Akzeptorkonzentration gemäß Pro- durch O möglichst stark mit Zn und O dotiert wird,
filabschnitt 32 einen Wert von 0,42 · 1018 Atome pro Auf diese Weise kann im Interesse einer wirkungscms
(bei einem Anfangswert von 0,4 · 1018 Atome pro 35 vollen Injektion im Bereich des Übergangs 31 auf der
cm*) besitzt. Die Messung an einer Vergleichsvorrich- N-Seite eine hohe Elektronenkonzentration, bezogen
tung ohne O-Dotierung ergibt eine Zn-Konzentration auf die Löcher der P-Seite, erzielt werden. Gleichgemäß Profilabschnitt 33, welche bei einem Wert von zeitig ergibt sich eine hohe Konzentration an Zn-O-0,58
· 1018 Atome pro cm8 beginnt. Hieraus errechnet Paaren, welche im Interesse einer wirkungsvollen
sich eine O-Donatorkonzentration der Ga2O3- und 40 Lichtemission günstig ist In dem von dem Übergang
O-dotierten Vorrichtung zu 0,16 · 1018 Atome pro cm8. entfernten Material ist die Konzentration an freien
Da die charakteristischen Weglängen für die Elek- Ladungsträgern und damit die Lichtabsorption gering,
tronen- und Löcher-Transportprozesse für Gallium- An Stelle der vorstehend angegebenen Materialien
phosphid in der Größenordnung von 1 bis 4 μπι liegen, kann das Substrat auch mit anderen Donatoren als
liefert das Material innerhalb einer Tiefe von 10 μπι 4s Tellur dotiert werden, beispielsweise mit Schwefel,
auf der N-Seite des PN-Übergangs 31 den größten Teil Selen, Silicium oder Zinn. Ferner kommt als Quelle
der injizierten Elektronen, während der größte Anteil für die O-Dotierung außer Ca2O3 unter anderem auch
des emittierten Lichtes in einer Materialtiefe von 10 ^m ZnO in Betracht
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- nut denen keine Emission von sichtbarem Licht verPatentanspruch: bunden ist Für eine wirksame GaP-Elektrolumines-zenz-Vorrichtung ist ajso sowohl die wirksame In-Jllektrolumineszenz-Vorrichtung mit einen» PN- jektion von Elektronen in die P-Zone als auch die An-Übergang, welche eine epitaktisch auf einem N-lei- S Wesenheit von Sauerstoff-Akzeptorkomplexen ausreitenden Galliumphosphid-Substrat aulgewachsene chender Konzentration in der Injektionszone eriorder-P-leitende GaUiumphosphid-Schicht aufweist, wo- lieh.^ bei für die P-Jeitende GaP-Schicht als Donator In der Vergangenheit wurden zahlreiche Unter-' Sauerstoff und als Akzeptor Zink oder Cadmium suchungen auf derartige Elektrolumineszenz-Vonichvorgesehen ist und als Donator für das <laP-Sub- io tungen gerichtet, wobei die Optimierung der Konzenstrat wenigstens ein Element aus der Gruppe S, trationen der Dotierstoffe angestrebt wurde. Zur Ver-Se, Si, So und Te vorgesehen ist, deren mittlere einfachung der Untersuchungsbedingungen sowie zur Konzentration innerhalb eines lOjan tiefen, von Optimierung der Zn- und O-Konzentrationen in dem dem PN-Übergang ausgehenden Bereichs zwischen P-leitenden Material ohne Anwesenheit einer N-lei-0,3 · 1018 und 2 ■ 1018 Atome pro cm3 beträgt, 15 tenden Schicht wurden Photolumineszenzmessungen dadurch gekennzeichnet, daß in der mit Elektroneninjektionen in das Leitfähigkeitsband P-ieitenden GaP-Schicht innerhalb eines 10 μm durch Anregung mit hochenergetrschem Licht durchtiefen, von dem PN-Übergang ausgehenden Be- geführt (USA.-Zeitschrift »Journal of Applied Physics«, reichs die mittlere Konzentration der Donator- Bd. 37 [1966], S. 483 bis 486). Diese Versuche zeigen, atome zwischen 1 · 10" und 9 · 10" Atome pro 20 daß eine optimale Photolumineszenz bei einer Vorcms und die mittlere Konzentration der Akzeptor- richtung erzielt wird, bei der Galliumphosphid mit atome zwischen 2 · 10" und 1 · 1018 Atome pro 1 bis 2 · 1018 Zink- oder Cadmiumatomen je cm' und cm3 hetrSgt mit weniger als 0,8 · 1018 Sauers1offatomen je cm' dotiert ist. Spätere Untersuchungen wurden durch diese95 Ergebnisse stark beeinflußt, wobei die genannten Konzentrationsbereiche als Optimum angesehen wurden. Die optimale Donatorkcnzentration auf der N-SeiteDie Erfindung bezieht sich auf eine Elektrolumines- des PN-Übergangs wird von den beiden folgenden zenz-Vorrichtung der im Oberbegriff des Patenten- gegenläufigen Faktoren beeinflußt. Und zwar ist einerspruchs näher bezeichneten Art. 3° seits für eine wirkungsvolle Elektroneninjektion vonEine derartige Vorrichtung ist bekannt (Journal of der N-Seite des Übergangs eine möglichst hohe Elek-Appüed Physics 39 [1968], S. 2977 bis 2978). tronendichte erwünscht. Andererseits wirkt jedoch beiElektrolumineszenz-Vorrichtungen mit einem PN- zu hoher Elektronenkonzentration das N-leitende Übergang, die hei Strombeaufschlagung in Durch- Material absorbierend für das erzeugte Licht. Diese laßrichtung emittieren, werden bekanntlich für eine 35 Absorption ist für den Wirkungsgrad der Elektro-Reihe von Anwendungszwecken, beispielsweise als lumineszenz-Vorrichtung von außerordentlicher Be-Anzeigelichtquellen oder als Leuchtelemente in grö- deutung, da ein Großteil des erzeugten Lichtes an der fieren Bildwiedergabeeinrichtungen eingesetzt. In der- Oberfläche der Elektrolumineszenz-Vorrichtung nach artigen Elektrolumineszenz-Vorrichtungen erfolgt die innen reflektiert wird und somit die Eiektrolumines-Lichterzeugung auf Grund von Elektronen-Loch-Re- 40 zenz-Vorrichtung vor dem Austritt mehrmals durchkombinationen. quert. Es hat sich gezeigt (USA.-Zeitschrift »SolidEs ist bekannt, daß Galliumphosphid (GaP) ein vor- State Electronics«, Bd. 11 [1968], S. 647 bis 652), daß teilhaftes, im sichtbaren Bereich des Spektrums emittie- die optimale Donatorkon/eniration zwischen 0,3 · 1018 rendes Elektrolumineszen/material ist. Diese Verbin- und 1,0 · 1018 Atome po cm8 innerhalb des N-leitendung zählt zur Klasse der elektrischen Halbleiter mit 45 den Materials liegt. Diese Untersuchungen bezogen indirekter Bandlücke, d. h. daß für eine Elektronen- sich insbesondere auf Tellur als Donator, wobei sich Loch-Rekombination ein drittes Kristallelement, bei- jedoch auch Schwefel und Selen als im wesentlichen spielsweise eine Versetzung, eine Leerstelle, eine Sub- gleichwertige Donatoren erwiesen,
stitution, eine Zwischengitter-Verunreinigung oder Die bei bekannten E'ektrolumineszenz-Vorrichtun-eine andere Abweichung vom vollkommen geordneten 50 gen maximal erzielten Wirkungsgrade liegen zwischen Kristallaufbau vorhanden sein muß. Im Falle von 1 und 2%. Obschon diese Wirkungsgrade gegenüber GaP-Vorrichtungen wird angenommen, daß das für früher erzielten Wirkungsgraden beachtlich größer eine Rekombination mit Emission von Rotlicht er- sind, so stellen sie absolut gesehen noch kein befriediforderliche dritte Kristallelement ein Verunreinigungs- gendes Ergebnis dar.komplex ist, der aus einem Sauerstoffion und einem 55 Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Akzeptorion (meist Zn oder Cd) besteht, welche als Elektrolumineszenz-Vorrichtung der eingangs erwähn-Substitutionselemente im Kristallgitter als nächst- ten Art zu schaffen, welche einen wesentlich erhöhten liegende Nachbarpaare auf der p-Seite des Übergangs Wirkungsgrad aufweist.vorhanden sind. Bei Anlegen eines elektrischen Feldes Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die imin Durchlaßrichtung des PN-Übergangs wird ein 60 Kennzeichen des Patentanspruchs genannten Merkmale Elektron aus der N-Zone in die P-Zone injiziert, wo gelöst.dieses Elektron von dem genannten Komplex einge- Die erfindungsgemäßen Elektrolumineszenz-Vör-fangen wird. Anschließend wird an der gleichen Stelle richtungen weisen einen wesentlich verbesserten Wirein Loch eingefangen, welches unter Emission eines kungsgfad von 4 bis 7% auf.Photons im röten Spektralbereich mit dem Elektron 65 Unter »Wirkungsgrad« wird im vorliegenden Zurekombiniert. Sind jedoch im Injektionsbereich keine sammerthang das Verhältnis zwischen der Anzahl der Komplexe vorhanden, so rekombiniert das Eiektron emittierten Photonen und der Gesamtzahl der Lahn Laufe der Zeit über eine Anzahl anderer Prozesse, dungs träger (Elektronen und Löcher), welche die Vor-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84854669A | 1969-08-08 | 1969-08-08 | |
US23368072A | 1972-03-10 | 1972-03-10 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2065245A1 DE2065245A1 (de) | 1973-04-12 |
DE2065245B2 true DE2065245B2 (de) | 1975-01-02 |
DE2065245C3 DE2065245C3 (de) | 1975-08-07 |
Family
ID=26927146
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2065245*A Expired DE2065245C3 (de) | 1969-08-08 | 1970-08-07 | Elektrolumineszenz-Vorrichtung mit einem pn-Ubergang |
DE2039381A Expired DE2039381C3 (de) | 1969-08-08 | 1970-08-07 | Verfahren zur Herstellung einer epitaktisch auf einem n-leitenden Substrat aus Galliumphosphid gewachsenen p-leitenden Galliumphosphidschicht |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2039381A Expired DE2039381C3 (de) | 1969-08-08 | 1970-08-07 | Verfahren zur Herstellung einer epitaktisch auf einem n-leitenden Substrat aus Galliumphosphid gewachsenen p-leitenden Galliumphosphidschicht |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3690964A (de) |
BE (1) | BE754437A (de) |
DE (2) | DE2065245C3 (de) |
FR (1) | FR2056777A5 (de) |
GB (2) | GB1320043A (de) |
NL (1) | NL152123B (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2175571B1 (de) * | 1972-03-14 | 1978-08-25 | Radiotechnique Compelec | |
US3870575A (en) * | 1972-03-21 | 1975-03-11 | Sony Corp | Fabricating a gallium phosphide device |
US3727115A (en) * | 1972-03-24 | 1973-04-10 | Ibm | Semiconductor electroluminescent diode comprising a ternary compound of gallium, thallium, and phosphorous |
US3859148A (en) * | 1972-12-01 | 1975-01-07 | Bell Telephone Labor Inc | Epitaxial crystal growth of group iii-v compound semiconductors from solution |
US3875451A (en) * | 1972-12-15 | 1975-04-01 | Bell Telephone Labor Inc | Near-infrared light-emitting and light-detecting indium phosphide homodiodes including cadmium tin phosphide therein |
GB1429895A (en) * | 1973-02-12 | 1976-03-31 | Tokyo Shibaura Electric Co | Red-emitting gallium phosphide device automat |
US4017880A (en) * | 1973-02-12 | 1977-04-12 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Red light emitting gallium phosphide device |
US3951699A (en) * | 1973-02-22 | 1976-04-20 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing a gallium phosphide red-emitting device |
US3853643A (en) * | 1973-06-18 | 1974-12-10 | Bell Telephone Labor Inc | Epitaxial growth of group iii-v semiconductors from solution |
DE2346198A1 (de) * | 1973-07-27 | 1975-05-07 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung gelb leuchtender galliumphosphid-dioden |
JPS5137915B2 (de) * | 1973-10-19 | 1976-10-19 | ||
US3915754A (en) * | 1973-11-29 | 1975-10-28 | Honeywell Inc | Growth of gallium phosphide |
JPS531192B2 (de) * | 1974-01-29 | 1978-01-17 | ||
IT1021854B (it) * | 1974-01-31 | 1978-02-20 | Tokyo Shibaura Electric Co | Dispositivo a fosfuro di gallio per emissione di luce rossa |
US4180423A (en) * | 1974-01-31 | 1979-12-25 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing red light-emitting gallium phosphide device |
JPS551717B2 (de) * | 1975-01-29 | 1980-01-16 | ||
US4235191A (en) * | 1979-03-02 | 1980-11-25 | Western Electric Company, Inc. | Apparatus for depositing materials on stacked semiconductor wafers |
JPS6013317B2 (ja) * | 1979-03-19 | 1985-04-06 | 松下電器産業株式会社 | 発光ダイオ−ドの製造方法 |
JP2698891B2 (ja) * | 1992-11-07 | 1998-01-19 | 信越半導体株式会社 | GaP系発光素子基板 |
JP3324102B2 (ja) * | 1993-11-22 | 2002-09-17 | 信越半導体株式会社 | エピタキシャルウェーハの製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL143402B (nl) * | 1964-02-12 | 1974-09-16 | Philips Nv | Halfgeleiderinrichting met een een halfgeleiderlichaam bevattende gestuurde injectierecombinatiestralingsbron. |
US3365630A (en) * | 1965-01-29 | 1968-01-23 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent gallium phosphide crystal with three dopants |
US3462320A (en) * | 1966-11-21 | 1969-08-19 | Bell Telephone Labor Inc | Solution growth of nitrogen doped gallium phosphide |
US3470038A (en) * | 1967-02-17 | 1969-09-30 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent p-n junction device and preparation thereof |
US3647579A (en) * | 1968-03-28 | 1972-03-07 | Rca Corp | Liquid phase double epitaxial process for manufacturing light emitting gallium phosphide devices |
US3592704A (en) * | 1968-06-28 | 1971-07-13 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent device |
US3619304A (en) * | 1968-08-30 | 1971-11-09 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing gallium phosphide electro luminescent diodes |
-
0
- BE BE754437D patent/BE754437A/xx not_active IP Right Cessation
-
1969
- 1969-08-08 US US848546A patent/US3690964A/en not_active Expired - Lifetime
-
1970
- 1970-08-04 GB GB3746470A patent/GB1320043A/en not_active Expired
- 1970-08-04 GB GB5545672A patent/GB1320044A/en not_active Expired
- 1970-08-07 NL NL707011710A patent/NL152123B/xx not_active IP Right Cessation
- 1970-08-07 DE DE2065245*A patent/DE2065245C3/de not_active Expired
- 1970-08-07 FR FR7029349A patent/FR2056777A5/fr not_active Expired
- 1970-08-07 DE DE2039381A patent/DE2039381C3/de not_active Expired
-
1972
- 1972-03-10 US US233680A patent/US3703671A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1320043A (en) | 1973-06-13 |
US3690964A (en) | 1972-09-12 |
DE2065245A1 (de) | 1973-04-12 |
FR2056777A5 (de) | 1971-05-14 |
DE2039381C3 (de) | 1973-10-18 |
US3703671A (en) | 1972-11-21 |
DE2065245C3 (de) | 1975-08-07 |
DE2039381A1 (de) | 1971-02-25 |
BE754437A (fr) | 1971-01-18 |
DE2039381B2 (de) | 1973-03-22 |
NL7011710A (de) | 1971-02-10 |
NL152123B (nl) | 1977-01-17 |
GB1320044A (en) | 1973-06-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |