DE2043942B2 - Verfahren zur herstellung von vorgespannten glasplatten - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von vorgespannten Glasplatten, wobei die Glasplatten einer Vorspannbehandlungsstufe unterworfen werden, indem sie auf eine Temperatur in Nähe ihres Erweichungspunktes erhitzt und die erhitzten Glasplatten von ihrer Oberfläche her rasch gekühlt werden.

Vorgespannte Glasplatten verfügen über eine erhöhte mechanische Festigkeit und werden in der Regel eingesetzt, wenn die zu verglasenden Flächen groß sind oder nennenswerte, von außen einwirkende Belastungen zu erwarten sind. Vorgespannte Glasplatten werden beispielsweise vielfach zur Verkleidung von Gebäudefassaden verwendet.

Es wurde nun festgestellt, daß vorgespannte Glasplatten nach geraumer Zeit nach ihrer bestimmungsgemäßen Montage bisweilen spontan ohne Einwirken einer äußeren Kraft brechen. Wenn auch derartige spontane Brüche vorgespannter Glasplatten nicht allzu häufig auftreten, stellen derartige Glasbrüche eine erhebliche Gefahrenquelle dar, insbesondere dann, wenn die zu spontanen Brüchen neigenden, vorgespannten Glasplatten zur Verglasung großflächiger Fenster oder als Fassadenverkleidung von Gebäuden verwendet werden.

Es wird in diesem Zusammenhang auf einen Bericht mit dem Titel »Bruch bei Wandverkleidung aus gehärtetem Glas« (Originaltitel: »Fracture of toughened glass wall cladding») von E. R. Ballantyne, l.C. 1. Haus, Melbourne, 1961, Bezug genommen. Nach diesem Berijht wurden vorgespannte Glasplatten zur Verkleidung der Außenwände des l.C. I.-Hauses in der Nicholson Street in Melbourne, Australien, verwendet. Nachdem die Glasplatten etwa zwei Jahre lang an der Fassade des Gebäudes befestigt waren, traten die ersten Spontanbrüche der Glasplatten auf. Man glaubte ursprünglich, daß die ohne eine äußere Krafteinwirkung aufgetretenen Spontanbrüche Einzelfälle darstellen. Nachdem jedoch in der Folgezeit die Spontanbrüche in großem Umfang zunahmen, wurde deutlich, daß die Spontanbrüche der Glasplatten nicht auf zufällige Einzelfälle beschränkt waren. Die geborstenen Glasplatten fielen auf die Straße und verletzten dabei Passanten erheblich.

Es gab ursprünglich keine F.rklärung für die in zunehmendem Ausmaß auftretenden Spontanbrüchc der vorgespannten Glasplatten. I-'rst eine aufwendige und umfangreiche Untersuchung der Glasplatten ergab, daß die Spontanbrüche auf kleine, im Glas eingeschlossene Steinchen mit einem messingartigen metallischen Glanz zurückzuführen sind. Mikroskopische Untersuchungen und Röntgenbcugungsbilder brachten zutage, daß die den Spontanbruch hervorrufenden Steinchen au·, Nickelsuiiid (NiS) bestehen.

40

45

55 Nickelsulfid tritt in zwei kristallographischen Formen auf, von denen die eine Form durch das oc-NiS mit einer hexagonalen Nickel-Arsen-Struktur und die andere Form durch das /3-NiS mit einer rhomboedrischen Gestalt dargestellt wird. Eine vorbestimmte Menge eines a-NiS nimmt ein geringeres Volumen ein als die gleiche Menge des 0-NiS. Die Nickelsulfidsteinchen, welche den Spontanbruch der Glasplatten verursachten hatten die kristallographische Form des /J-NiS. mit rhomboedrischer Gestalt.

Es wird angenommen, daß die Entstehung von Nickelsulfidsteinchen im Glas auf entsprechende Verunreinigungen in der Glasschmelze und die Verwendung von nickelhaltigen Werkzeugen bei der Behandlung der Schmelze und der Verarbeitung des Glases zurückzuführen ist. Wenn die Glasschmelze mit einer Temperatur von etwa 1000⁰C plötzlich abgeschreckt wird. entstehen im wesentlichen Nickelsulfide der metastabilen α-Form. Wenn die Glasplatte während des Gebrauches einer Wärmeeinwirkung, beispielsweise einer intensiven Sonnenbestrahlung ausgesetzt ist, geht die metastabile Λ-Form des Nickelsulfids ganz allmählich in die stabile /3-Form über. Die Umwandlung von der Λ-Form zur /3-Form ist mit einer Vergrößerung des Volumens des Nickelsulfidsteinchens verbunden, so daß das Glas rings um ein Nickeisulfidsteinchen neben der bereits in der gehärteten Scheibe existierenden Spannung noch einer zusätzlichen Beanspruchung ausgesetzt ist. Unter diesen Umständen tritt daher bereits ohne ein Einwirken von äußeren Kräften ein spontaner Bruch der Glasplatten ein. Andere, üblicherweise in Glasplatten auftretende Einschlüsse, wie Chromit, Gasblasen, Salzblasen oder andere Fremdstoffteilchen fuhren nicht zu einem Spontanbruch der Glasplatten.

Die nicht vorhersehbaren und zeitlich nicht vorherbestimmbaren Spontanbrüche von Glasplatten könnten theoretisch dadurch verhindert werden, daß die in nicht allzu großem Umfang auftretenden Glasplatten mit Nickelsulfidsteinchen aus der laufenden Produktion ausgesondert und beseitigt werden. Die Nickeisulfidsteinchen sind jedoch sehr klein und liegen in einer Größenordnung von 0,3 bis 0,05 mm, so daß eine Bedienungsperson an einem Sichtstand die Sulfidsteinchen in der Glasplatte mit bloßem Auge kaum wahrnehmen kann. Zur einwandfreien Feststellung der Sulfidsteinchen sind Mikroskope oder Rentgenapparate erforderlich, die jedoch sehr teuer sind und eine der Produktionsgeschwindigkeit angepaßte rasche Untersuchung der Glasplatten nicht möglich machen.

Es war daher die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung von vorgespannten Glasplatten zu schaffen, bei welchem unter Berücksichtigung wirtschaftlicher Gesichtspunkte die aus der Produktion hervorgehenden Glasplatten frei von der Gefahr eines Spontanbruches sind.

Dies wird gemäß der Erfindung dadurch erreicht, daß man die Glasplatten nach der Vorspannbehandlung innerhalb eines Temperaturbereiches von 100 bis 380 C während wenigstens eines Gesamtzeilraumes /V gehalten werden, der die folgende Gleichung erfüllt.

dll

worin T die Temperatur in "C bei einem gegebenen Zeitpunkt, H die Zeit in Minuten, bei weicher 7

innerhalb des Bereiches von 100 bis 380⁰C liegt, bedeutet, und dadurch der Kristallübergang und die begleitende Volumenänderung von jeglichen, gegebenenfalls in den Glasplatten vorhandenen Nickelsulfidverunreinigungen beschleunigt wird, wodurch veranlaßt wird, daß die solche Nickelsulfidverunreinigungen enthaltenden Glasplatten während der Verarbeitung spontan brechen, und auf diese Weise Glasplatten, bei welchen spontane Brüche zu erwarten sind, von den brauchbaren vorgespannten Glasplatten abgetrennt werden.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die Glasplatten nach der Vorspannbehandlung über eine der vorstehenden Gleichung entsprechende Zeitspanne auf einer Temperatur zwischen 100 bis 380°C gehalten. Diese der Vorspannbehandlung nachgeschaltete Wärmebehandlung zerstört die mit Nickelsulfidsteinchen versehenen Glasplatten, so daß am Ende der Produktionsstraße nur noch Glasplatten ankommen, die keine Nickelsulfidsteinchen mehr aufweisen. Das erfindungsgemäße Verfahren gewährleistet daher, daß bei den aus dem Verfahren hervorgehenden Glasplatten die Gefahr von nicht vorhersehbaren Spontanbrüchen beseitigt ist. Darüberhinaus ist das erfindungsgemäße Verfahren äußerst wirtschaftlich, da trotz der Sonderbehandlung der Glasplatten zur Verhinderung der Entstehung von Glasplatten mit einer Neigung zu Spontanbrüchen eine kontinuierliche Herstellung der Glasplatten mit üblicher Geschwindigkeit möglich ist. Das erfindungsgemäße Verfahren ist auch mit verhältnismäßig billigen Vorrichtungen durchführbar, wodurch das zu investierende Kapital zur Herstellung von vorgespannten Glasplatten ohne die Gefahr eines Spontanbruches entsprechend herabgesetzt werden kann. Schließlich ist das erfindungsgemäße Verfahren von der subjektiven Beurteilung einer zur Kontrolle angesetzten Bedienungsperson unabhängig.

Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen von vorgespannten Glasplatten, bei welchem die besondere Wärmebehandlung zur Verhinderung der Entstehung von Glasplatten mit einer Neigung zu Spontanbrüchen auch vor der Vorspannbehandiung vorgenommen werden kann. Dieses Verfahren zeichnet sich dadurch aus, daß die Glasplatten vor der Vorspannbehandlung innerhalb eines Temperaturbereiches von 100 bis 380⁰C während wenigstens eines Gesamtzeitraumes Hgehalten werden, der die folgende Gleichung erfüllt.

ti

10- ™ dH = 1,

worin Γ die Temperatur in °C bei einem gegebenen Zeitpunkt, H die Zeit in Minuten, bei welcher T innerhalb des Bereiches von 100 bis 380⁰C liegt, bedeutet und dadurch der Kristallübergang und die begleitende Volumenänderung von jeglichen, gegebenenfalls in den Glasplatten vorhandenen Nickelsulfidverunreinigungen beschleunigt wird, wodurch veranlaßt wird, daß die solche Nickelsulfidverunreinigungen enthaltenden Glasplatten während der Verarbeitung spontan brechen, und auf diese Weise Glasplatten, bei welchen spontane Brüche zu erwarten sind, von den brauchbaren vorgespannten Glasplatten abgetrennt werden.

Auch bei diesem Verfahren lassen sich die vorstehend angegebenen, vorteilhaften Wirkungen und Ergebnisse erzielen.

Die vorstehend aufgezeigten erfindungsgemäßen Verfahren sind sehr wandelbar und lassen sich ohne Schwierigkeit in einem sehr breiten Umfang den verschiedensten Betriebsbedingungen anpassen. In s diesem Zusammenhang kann die Dauer der besonderen Wärmebehandlung zur Verhinderung der Entstehung von Glasplatten mit einer Neigung zu Spontanbrüchen durch eine entsprechende Wahl der Temperatur verkürzt oder verlängert werden. Dies macht eine gute

ίο Anpassung an die Durchsatzgeschwindigkeiten in den üblichen Verfahrensstufen möglich. Besonders zweckmäßige Kombinationen von Temperatur und Dauer der besonderen Wärmebehandlung sind in den Ansprüchen angegeben.

is Bei einer Abwandlungsform der erfindungsgemäßen Verfahren werden die Glasplatten nach der Vorspannbehandlung und nach der besonderen Wärmebehandlung zur Verhinderung der Entstehung von Glasplatten mit einer Neigung zu Spontanbrüchen noch einer

:o weiteren Wärmebehandlung unterworfen, bei welcher die Glasplatten mindestens einmal 10 bis 300 see lang in einem Ofen mit 300 bis 950°C rasch erhitzt werden. Diese weitere Wärmebehandlung stellt eine Belastungsprobe der durch die beiden vorhergehenden Behändes lungsstufen hindurchgelaufenen Glasplatten dar. Die Glasplatten, deren Bruch in den beiden ersten Behandlungsstufen eingeleitet aber noch nicht vollständig zu Ende gebracht wurde, werden im Rahmen dieser Belastungsprobe in jedem Fall vernichtet, so daß die die

w Belastungsprobe verlassenden Glasplatten eine Gewähr für einwandfreie Qualität ohne jegliche Gefahr eventueller Spontanbrüche geben.

Die besondere Wärmebehandlung zur Verhinderung der Entstehung von Glasplatten mit einer Neigung zu Spontanbrüchen wird im nachstehenden kurz Alterungsbehandlung genannt. Diese Alterungsbehandlung beschleunigt die Umwandlung des Nickelsulfids von der «-Form zur /?-Form, wodurch aufgrund der Volumenzunahme des jS-NiS im Bereich des Nickelsulfidsteinchens hohe Spannungen entstehen, wodurch kleine Risse entstehen oder bereits entstandene Risse zunehmen.

Das Erhitzen in der A'teningsstufe muß bei einer Temperatur zwischen 100 und 380°C für die in den vorstehenden Gleichungen angegebene Dauer erfolgen.

Wenn die Temperatur niedriger als 100⁰C ist, verläuft der Übergang des Nickelsulfids von der α-Form zur /J-Form nur schleppend, wobei es unmöglich ist, eine vorgespannte Glasplatte mit einem Einschluß aus Nickelsulfid zu brechen. Temperaturen über 38O⁰C

verursachen keinen Übergang des Nickelsulfids von der Λ-Form zur jS-Form.

Wenn die Alterungsbehandlung nach der Vorspannbehandlung vorgenommen wird, gilt für die Dauer der Alterungsbehandlung die nachfolgende Gleichung:

η

10

dH ^

Die Alterungsbehandlung nach der Vorspannbehandlung ist in verschiedenen Ausführungsformen möglich. Bei einer ersten Ausführungsform wird die Heiztemperatur während der gesamten Dauer der Alterungsbehandlung konstant gehalten.

In diesem Fall läßt sich die vorstehend angegebene Gleichung (I) folgendermaßen wiedergeben:

10- ψ H = 1 .

In der nachfolgenden Tabelle I sind die bevorzugten Bedingungen für die beschleunigte Umwandlung des Nickelsulfids von der \-Form /ur/}-Form bei konstanter Temperatur angegeben.

Tabelle 1

Heiztcmperaiur	Zeh
( Q	(Minuten)
100	320 und darüber
150	45 und darüber
200	18 und darüber
250	10 und darüber
300	7 und darüber
300	5 und darüber

Bei einer zweiten Ausführungsform schwankt die Heiztemperatur zwischen 100 und 380^cC während der kontinuierlich durchgeführten Alterungsbehandlung. In diesem Fall ist die Temperatur eine Funktion der Zeit, so daß sich die Temperatur durch den Ausdruck T= f (H) wiedergeben läßt. Die vorstehende Gleichung (I) läßt sich sodann in folgender Weise wiedergeben:

Il

dH >

Man erhält die tatsächliche Heizzeit durch Integrieren dieser Gleichung. Falls die Temperaturänderung kompliziert ist und die Lösung der vorstehenden Gleichung auch nach dem Annäherungsverfahren nicht möglich ist. kann die Berechnung auf der Basis von

10

250

IH/ > 1

erfolgen, worin W/eine beliebige Zeiteinheit und 77die Temperatur bei AHi\si. Wenn die Zeit der Alterungsbehandlung durch diese Summierung bestimmt wird, ist es zweckmäßig, eine Minute als Minimaleinheit für AH zu wählen. Zweckmäßige Bedingungen liegen beispielsweise dann vor, wenn die Glasplatte über 10 Minuten auf Temperaturen zwischen 250 und 380⁰C oder über 320 Minuten auf Temperaturen zwischen 250 und 38O⁰C oder über 320 Minuten auf Temperaturen zwischen 100 und 150⁰C erhitzt wird.

Bei einer dritten Ausführungsform liegt die Heiztemperatur eine bestimmte Zeitspanne entweder unter oder über dem Bereich von 100 bis 38O⁰C während der Alterungsbehandlung, während die Temperatur während der übrigen Zeit der Alterungsbehandlung im Bereich zwischen 100 und 380° C liegt. In diesem Fall läßt sich die obige Gleichung (I) wie folgt wiedergeben:

In diesem Fall wird jedoch lediglich die Zeit berücksichtigt, bei welcher die Temperatur im Bereich zwischen 100 und 380⁰C liegt. Es ist daher bei dem erfindungsgemäßen Verfahren nicht erforderlich, daß die Temperatur ununterbrochen während des Alterungsvorganges im Bereich zwischen 100 und 380⁰C liegt, sondern es kommt lediglich auf die Summe der

Zeiträume an. in welchen die Temperatur im Bereich zwischen 100 und 380°C liegt. Das vorgespannte Glas sollte nicht auf einmal langer als 10 Minuten bei einer Temperatur über 380 C gehalten werden. Wenn das vorgespannte Glas langer als 10 Minuten über einer Temperatur von 38O⁰C gehalten wird, wird ein Teil lios Nickelsulfids in die a-Form umgewandelt, so daß die mit der Alterungsbehandlung beabsichtigte Umwandlung des Nickelsulfids in die/3-Form nicht erreicht wird.

Bei einer vierten Ausführungsform wird eine Glasplatte von ihrer Erweichungstemperatur rasch auf 300 bis 200⁰C abgekühlt und anschließend auf eine Temperatur im Bereich zwischen 100 und 380C gebracht und auf dieser Temperatur eine Zeitdauer gehalten, welche durch die nachstehend angegebene Gleichung bestimmt ist:

K)

dH > 1 .

Die Alterungsbehandlung nach der Vorspannbehandlung läßt sich in gewöhnlichen Gasofen, elektrischen Öfen, Heißluftöfen und Salzbadofen durchführen, in denen das Glas gleichmäßig auf die angegebene Temperatur erhitzt wird.

Die Alterungsbehandlung bewirkt eine Umwandlung des (X-NiS in das ein größeres Volumen aufweisendes 0-NiS.

Hierdurch ergeben sich in der Glasplatte Spannungen, die zu einem Bruch der mit Nickelsulfidsteinchen versehenen Glasplatten führen. Obgleich sämtliche Glasplatten mit Nickelsulfidsteinchen in der Alterungsstufe Risse bekommen, ist es bisweilen möglich, daG diese Risse nicht zum vollständigen Bruch der Glasplatte führen. Es ist daher zweckmäßig, eine weitere Behandlungsstufe vorzusehen, in welcher der in der Alterungsstufe eingeleitete Bruch der Glasplatte zu Ende geführt wird.

In dieser weiteren Behandlungsstufe wird die in der vorgespannten Glasplatte verbliebene Zugspannung vorübergehend erhöht, um den in der Alterungsstufe eingeleiteten Bruch der Glasplatten zu Ende zuführen Die vorübergehende Erhöhung der Zugspannung läßi sich beispielsweise dadurch erreichen, daß auf die vorgespannte Glasplatte ein Biegemoment ausgeübi oder die Glasplatte an beiden Enden mit einer großer Kraft gezogen wird. Dies läßt sich beispielsweise dadurch erreichen, daß die Glasplatte an ihrei Oberfläche rasch erhitzt wird, so daß eine Temperatur differenz zwischen der Oberfläche und dem Inneren dei Glasplatte auftritt. Die rasche Erwärmung der Glasplat te läßt sich am einfachsten dadurch erreichen, daß die vorgespannte Glasplatte in einen Heizofen gegeber wird, in welchem eine Temperatur zwischen 300 unc 950° C. vorzugsweise zwischen 300 und 700° C herrscht.

Die Glasplatte muß aus dem Ofen entfernt werden bevor die Oberflächentemperatur der Glasplatte der Spannungspunkt des Glases erreicht, so daß di< Vorspannung des Glases nicht verloren geht Di( Verweilzeit der Glasplatte im Heizofen hängt von dei Größe der Glasplatte und von der Heizkapazität de: Ofens ab. Die Verweilzeit liegt jedoch im allgemeinen ii der Größenordnung von 10 bis 300 see.

Auch wenn die Alterungsbehandlung nach dei Vorspannbehandlung eine gewisse Verringerung dei Vorspannung bewirkt, hat die Alterungsbehandlunj nach der Vorspannbehandlung den großen Vorteil, dal

609 542/22

die während der Vorspannbehandlung entstandene ungleichmäßige Vorspannung ausgeglichen und eine vorgespannte Glasplatte mit einer gleichmäßig verteilten Vorspannung erzielt wird.

Wenn die Alterungsbehandlung der Glasplatten zur Umwandlung des Nickelsulfids in die /J-Form vor der Vorspannbehandlung durchgeführt wird, wird die Glasplatte bei einer Temperatur zwischen 100 und 380 C für die durch die nachfolgende Gleichung bestimmte Zeitdauer gehalten:

10

54(1

IH

Die Alterungsbehandlung vor der Vorspannbehandlung umfaßt verschiedene Ausführungsformen. Bei einer ersten Ausführungsform werden die Glasplatten für eine durch die vorstehende Gleichung bestimmte Zeitdauer auf einer konstanten Temperatur im Bereich «wischen 100 und 380^cC gehalten. Bei einer zweiten Ausführungsform schwankt die Temperatur der Glasplatten im Bereich zwischen 100 und 380⁰C. Bei einer dritten Ausführungsform werden die Glasplatten eine bestimmte Zeitspanne der Alterungsbehandlung auf einer Temperatur unter oder über dem Bereich von 100 bis 380⁹C und die restliche Zeit der Alterungsbehandlung auf einer Temperatur innerhalb dieses Bereiches gehalten.

In Tabelle Ii sind bevorzugte Bedingungen angegeben, wenn die Alterungsbehandlung vor der Vorspannbehandlung bei einer konstanten Temperatur durchgeführt wird. Diese Bedingungen entsprechen den Gleichungen:

10

H)

540
7

JH >

H > 1

Tabelle II

Temperatur
(⁰Q

Zeit
(Minuten)

100	mehr als 250 000
150	mehr als 4000
200	mehr als 500
250	mehr als 120
300	mehr als 60
330	mehr als 60
370	mehr als 60

ho

Bei der Herstellung von Glasplatten wird die Glasschmelze in die Form einer kontinuierlichen Bahn gebracht und beim Durchgang durch einen Kühlofen vorgespannt Die Alterungsbehandlung vor der Vor-Spannbehandlung gemäß der Erfindung kann im Zuge dieser Vorspannbehandlung erfolgen. Es ist zweckmäßig, die Glasplatten mindestens 100 Minuten lang in der Weise bei einer Temperatur im Bereich zwischen 380 und 200°C zu halten, daß die Bedingung der Gleichung 6-(II) erfüllt wird. "

Dieser Temperaturbereich ist nicht auf den Bereich zwischen 380 und 200° C beschränkt, sondern kann auch

im Bereich zwischen J80 und 100" C liegen. Wenn di< Temperatur unter 200''C liegt, wird die Dauer dei Alterungsbehandlung übermäßig lang und die Behänd lung läßt sich nicht günstig im Kühlofen ausführen.

Die Alterungsbehandlung vor der Vorspunnbehand lung kann in verschiedenen Heizölen, wie gewöhnlicher Gasöfen, elektrischen Öfen, Heißluftöfen. Salzbadöfer und Ölbadöfen erfolgen.

Die Glasplatten werden nach der Alterungsbehandlung der Vorspannbehandlung zugeführt. Die Glasplat ten werden in der Stufe der Vorspannbehandlung raser und gleichmäßig auf eine Temperatur in der Gegend de; Erweichungspunktes erhitzt und an ihrer Oberfläche rasch abgekühlt. In der Regel wird Luft mit Raumtemperatur gegen die beiden Oberflächen der erhitzter Glasplatten geblasen.

Die aus der Stufe der Alterungsbehandlung austretenden Glasplatten können entweder mit der in dieser Stufe herrschenden Temperatur der Vorspannbehandlung zugeführt oder vor der Zufuhr zur Vorspannbehandlung auf Raumtemperatur abgekühlt werden.

Bei der herkömmlichen Herstellung von vorgespannten Glasplatten werden die Glasplatten int Hilfe von Heizöfen rasch und gleichmäßig auf eine Temperatur in der Gegend des Erweichungspunktes des Glases erhitzt und anschließend rasch abgekühlt. Die Verweilzeit der Glasplatte im Heizofen ist verhältnismäßig kurz und beträgt im allgemeinen einige Minuten, höchstens 10 Minuten. Beispielsweise werden die einer Vorspannbehandlung zu unterziehenden Glasplatten in der Regel 5 Minuten lang bei einer Temperatur zwischen 400 und 500⁰C gehalten. Wenn diese Daten in die nachstehende Formel

10 -

54(1
T

für dtp nor Λα*· y^~^„ ~u-u~ Ii ,_ i:~~--,j^ ai + o

--. \ .^, „,_, \ wi spaunucnanulung iicgcnui- .-in«.

rungsbehandlung eingesetzt werden, ergibt sich ein Wert unter 0,3. Nach der erfindungsgemäßen Lehre ist jedoch ein Wert von mindestens 1 erforderlich, wenn Glasplatten entstehen sollen, bei denen nicht die Gefahr eines Spontanbruches auftritt.

Auch wenn die mit einer Vorspannung zu versehenden Glasplatten nach dem Erreichen ihrer Erweichungstemperatur zwischen 450 und 550⁰C wieder auf Raumtemperatur abgekühlt werden, ist die Verweilzeit der Glasplatten im Temperaturbereich zwischen 380 und 100° C wesentlich kürzer als die beim erfindungsgemäßen Verfahren geforderte Zeit, in welcher die Glasplatten zur Verhinderung von Spontanbrüchen im Temperaturbereich zwischen 100 und 380⁰C gehalten werden müssen.

Beispielsweise beträgt beim Fließverfahren die Verweilzeit der Glasplatte im Kühlofen im Temperaturbereich zwischen 100 und 380° C etwa 15 bis 60 Minuten. Bei derartig kurzen Verweilzeiten tritt jedoch kein ausreichender Übergang des Nickelsulfids von der α-Form in die j3-Form auf.

In Tabelle III sind die durchschnittlichen Abkühlgeschwindigkeiten von Glasplatten in einem Temperaturbereich von 380 bis 100°C beim Fließverfahren sowie die Werte angegeben, die man erhält, wenn man die Daten des Fließverfahrens in die nachstehende Formel

Jl

(I

10-

dH

gemäß der Erfindung für eine Alterungsbehandlung vor

der Vorspannbehandlung einsetzt. Die Tabelle Hl zeigt, daß alle Werte beträchtlich unter 1 liegen. Die üblichen Verfahren zur Vorspannbchandlung von Glasplatten sind daher nicht in der Lage, vorgespannte Glasplatten /u erzeugen, bei denen die Gefahr von unvorhersehbaren Spontanbrüchen beseitigt ist.

Tabelle IH

Starke dos
C liases

Abkühl-

gesehwindigkeii bei
3KO bis UV) C

I C Minute ι

17.S

12.1

9.7

8.1

6.4

ti

J'

>40

all

0.163
0,240
0,299
O.35X
0.454
O.55X

Fs wurde ein Versuch durchgeführt, um nachzuweisen, daß die nach den erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Glasplatten während des Gebrauches nicht spontan brechen. Zu diesem Zweck wurden Glasplatten mit einer Infrarotlampe mit einer Leistung von 3500 kcal/m²h bestrahlt. Diese Leistung entspricht etwa der fünffachen Sonnenenergie für die Dauer von mindestens 1000 Std. Wenn diese Bestrahlungsenergie auf eine tägliche, normale Sonnenbestrahlung umgerechnet wird, ergibt sich eine Bestrahlungszeit von mindestens 6 Jahren. Die Glasplatten, welche nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt waren, haben diesem Versuch standgehalten. Die Glasplatten dagegen, die nach den herkömmlichen Verfahren hergestellt waren und Nickelsulfidsteinchen enthielten, sind bei diesem Versuch spontan gebrochen. Der vorstehend skizzierte Versuch wird im nachstehenden als Bruchversuch bezeichnet.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird im nachstehenden anhand von Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen zeigt

F i g. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichiung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, bei welchem die Alterungsbehandlung nach der V'orspannbehandlung durchgeführt wird.

F i g. 2 einen Querschnitt durch einen Luhheizofen,

F i g. 3 einen Querschnitt durch einen Raschheizofen und

F i g. 4 einen Querschnitt durch eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindunsgemäßen Verfahrens bei welchem die Alterungsbehandlung vor der Vorspannbehandlung durchgeführt wird.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird im nachstehenden anhand von praktischen Ausführungsbeispielen erläutert.

Beispiel 1

Es wurden drei verschiedene Proben A, B und C von Glasplatten mit einer Dicke von 12 mm und einer für Tafelglas üblichen Zusammensetzung hergestellt.

Die Glasplatten der Probe A enthielten Nickelsulfidsteinchen, welche die Ursache für Spontanbruch sind. Die Probe A umfaßte fünf Glasplatten.

Die Glasplatten der Probe B enthielten kleine

Ursache für einen B umfaßte fünf

Chromitteilchen, welche nicht die
.Spontanbruch sind. Die Probe
Glasplatten.

Die Glasplatten der Probe C enthielten lediglich kleine Glasbläschen. Die Probe C umfaßte 50 Glasplatten.

Die Glasplatten aller dieser drei Proben wurden in einem Heizofen 1 gemäß F i g. 1 auf eine Temperatur zwischen 650 und 700⁰C erhitzt und anschließend in einer Luftkühleinrichtung 2 innerhalb von fünf Minuten auf weniger als 100° C abgekühlt, indem Luft mit Raumtemperatur auf die Oberflächen der Glasplatten geblasen wurde. Die Glasplatten erhielten durch diese Behandlung eine Vorspannung.

Die vorgespannten Glasplatten wurden dann einem Luftheizofen 3 zugeführt, in welchem eine Temperatur von 330°C herrschte. Wie aus F i g. 2 hervorgeht, besitzt der Luftheizofen 3 einen Heißluftkreislauf mit Durchtrittskanälen 7 und 7', die in der Ofenwand 8 vorgesehen sind. In den Durchtrittskanälen 7 und T ist ein Brenner 9 angeordnet. Eine Zuführleitung 10 führt Frischluft zu, die durch den Brenner 9 erhitzt und über den Druchtrittskanal 7' einer Heizkammer 11 zugeführt wird. Ein Teil der Luft in der Hei/kanimer 11 wird durch den Durchtrittskanal 7 zurückgeführt und durch den Brenner 9 von neuem erhitzt. Die erhitzte Luft wird dann erneut der Heizkammer 11 zugeführt, wodurch die Temperatur in der Heizkammer 11 praktisch konstant gehalten wird. Hine Glasplatte 11 wird über einen Einlaß 12 der Heizkammer 11 zugeführt und von einer nicht dargestellten Halteeinrichtung in der Heizkammer 11 gehalten. Wenn eine vorbesiimmte Zeitspanne verstrichen ist, wird die Glasplatte 6 durch einen Auslaß 12' aus der Heizkammer U abgezogen.

Die Temperatur in der Heizkammer 11 bezug 33Ü C. Die Glasplatte 6 wurde 7 Minuten lang in der Heizkammer 11 gehalten. Diese Daten wurden in die nachstehende Formel

tlH

eingesetzt und ergaben einen Wert \on i,2. Dieser Wert erfüllt die Bedingung der Gleichung (1).

Die Glasplatten wurden dann mit Hilfe einer Temperaturregeleinrichtung 4 abgekühlt und anschließend einem Raschheizofen 5 zugeführt, in welchem eine Temperatur von 67O^;C herrschie. Die Glasplatten wurden etwa 45 see lang im Raschheizofen 5 gehalten und anschließend aus dem Ofen entfernt.

Der in Fig. 3 dargestellte Raschheizofen 5 ist ein elektrischer Ofen, der einen elektrischen Heizkörper 13 aus Nichromedraht aufweist und eine doppelte Wand besitzt, um eine Wärmestrahlung oberhalb der vorbe stimmten Temperatur zu vermeiden. Die Innenwand de: Ofens trägt das Bezugszeichen 14, während der EinlaC und Auslaß des Ofens für die Glasplatte 6 mit der Bezugszeichen 12" bzw. 12'" bezeichnet sind.

Bei diesem Beispiel zerbrachen vier der fün Glasplatten der Probe .4 während der Alterungsbe handlung bei 330⁰C im Luftheizofen, während die fünft! Glasplatte im Raschheizofen bei 670^cC brach. Di< Glasplatten der Proben B und C sind während de beiden vorstehend beschriebenen Behandlungsstufei nicht gebrochen. Die Glasplatten der Proben B und ( haben auch dem oben beschriebenen Bruchversuch mi der Bestrahlung durch eine Infrarotlampe standgehaltei und sind nicht spontan gebrochen.

Beispiel 2

Die Vorspannbehandlung wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 ausgeführt Die vorgespannten Glasplatten wurden verschiedenen Alterungsbehand lungen unterworfen, wobei die Bedingungen der Gleichung

250
T

J₁O-

dH > 1

im Luftheizofen erfüllt worden waren, um vorgespannte Glasplatten ohne die Gefahr von Spontanbrüchen herzustellen. Bei diesem Beispiel wurden die Glasplat-

ten nur einer Alterungsbehandlung in der Temperaturregeleinrichtung, nicht jedoch einer Nachbehandlung im Raschheizofen unterworfen. Die unter diesen Bedingungen hergestellten Glasplatten stellten die Probe Cdar.

Es wurden fünf Glasplatten der Probe A nach Beispiel 1 und 10 Glasplatten der Probe Cdieses Beispiels einem Bruchversuch mit einer Bestrahlung durch eine Infrarotlampe ausgesetzt.

Zu Vergleichszwecken wurden auch Alterungsbehandlungen unter Bedingungen vorgenommen, die außerhalb der Definition der vorstehenden Gleichung lagen.

Die Ergebnisse des Beispiels 2 sind in Tabelle IV zusammengestellt.

Tabelle IV

Bedingungen der Ahcrungsbehandlung nach der Vorspannbehandluns;

Heiztemp.	Webverfahren	Heizzeit	JlO :*' JH
		(Gesamtzeit	I)
		in Min. bei	1.1
I C)		100 -380 C)	1.0
HX)	Konstante Temperatur	340	1.0
250	desgl.	K)	1.5
350	desgl.	5	3,5
250—380	Erhitzt mit 13 C Min.	10
150-100	Gekühlt mit	320	2,0 oder mehr
	0.16 C Min.
350 400	Erhitzt auf	15
	380—400 C während
	etwa 30 Sek. während
	eines Zeitraums von
	3 Min.		0.«
400	Konstante Temperatur	5	0.7
90	desgl.	1000	0.7
250	desgl.	7
250 380	Erhitzt mit 30 C Min.	4

Anzahl der spontan Anzahl der spontan

während der Herstellung beim Bruchversuch mit
gebrochenen Glasplatten Infrarotlampe gebrochenen
Glasplatten

Probe A

5
4

0 0 1 0

Probe C

0 0 0 0 0

0 0 0 0

Probe A

0
1
0

Probe (

0 0 0 0 0

0 0

0 0

Be i s ρ i e 1 3

Es wurden fünf Glasplatten der Probe A, fünf Glasplatten der Probe flund 20 Glasplatten der Probe C mit einer Dicke von 15 mm, einer Länge von 2 m und einer Breite von 2 m mit einer gewöhnlichen Zusammensetzung¹ hergestellt. Jede Glaspiaite wurde im Heizofen 1 für die Vorspannbehandlung auf eine Temperatur zw^;schen 650 und 700° C erhitzt und dann in der Luftkühleinrichtung 2 innerhalb von vier Minuten durch Aufblasen vun Luft mit etwa 50°C auf 200^cC abgekühlt. Anschließend wurde Luft mit einer Temperatur von 250"C in die Luftkühleinrichtung 2 eingeführt, wobei die Glasplatten dieser Heißluft etwa 30 Minuten lang ausgesetzt waren. Unter diesen Bedingungen war tier Wert für die Formel

/I

10 ²^" <//■/

3.0, d, h. als 1. so daß die Bedingungen der Gleichung (I) erfüllt waren.

Die Glasplatten der Proben Sund Csind bei dieser Behandlung nicht gebrochen. Eine Glasplatte der Probe A brach spontan nach 10 Minuten, eine Glasplatte nach 12 Minuten und eine weitere Glasplatte nach 15 Minuten.

Sämtliche, die vorstehende Behandlung überstehenden Glasplatten wurden dem Bruchversuch mit der Bestrahlung durch eine Infrarotlampe ausgesetzt. Eine Glasplatte der Probe A brach spontan, während alle übrigen Glasplatten nicht gebrochen sind.

B e i s ρ i e 14

Es wurden verschiedene Proben A. B und C von Glasplatten mit einer Stärke von 12 mm und einer für Tafelglas üblichen Zusammensetzung hergestellt.

Die Glasplatten der Probe A enthielten die zu Spontanbrüchen führenden Nickelsulfidsteinchcn. Die Probe A umfaßte fünf Glasplatten.

Die Glasplatten der Probe B enthielten kleine Chromitteilchen, welche keinen Spontanbruch der Glasplatten auslösen. Die Probe B umfaßte fünf Glasoiatten

Die Glasplatten der Probe C enthielten nur kleine Gasbläschen. Die Probe Cumfaßte 50 Glasplatten.

Die Glasplatten sämtlicher Proben wurden in dem in F i g. 4 gezeigten Heizofen kontinuierlich erhitzt und anschließend innerhalb von 6 Minuten auf etwa 100⁰C abgekühlt, um vorgespannte Glasplatten herzustellen.

Bei dem in Fig.4 gezeigten Heizofen werden die Glasplatten zuerst einer Alterungsbehandlung und anschließend ohne ein Zwischenkühlung einer Vorspannbehandlung unterworfen.

Der in F i g. 4 gezeigte Heizofen besitzt eine Wand 22 aus feuerfester Schamotte und ist in eine Alterungsstufe 21 und eine Vorspannstufe 31 unterteilt. Die Alterungsstufe 21 ist durch Trennwände 28 in drei Heizkammern 36 aufgeteilt. Die Trennwände 28 besitzen Schlitze 27 für den Durchtritt der Glasplatten 29. Jede Heizkammer £6 besitzt einen eigenen Heißluftkreislauf mit in der Ofenwand 22 untergebrachten Durchtrittskanälen 23 lind 23' und einem in den Durchtrittskanälen untergebrachten Brenner 24. Jeder I lcißluftkreislauf weist eine Zuführleitung 25 für Frischluft auf. die durch den Brenner 24 erhitzt und über den Durchtriltskanal 2,3 in die Heizkammer 26 eingeführt wird. Ein Teil der Heißluft in der Heizkammer 26 wird durch den Durehtrttskanal 23' zurückgeführt und erneut durch den Brenner 24 erhitzt und abermals in die Heizkammer 26 eingeführt. Die auf diese Weise zirkulierende Heißluft hält die Temperatur und die Temperaturverteilung in der Heizkammer 26 konstant. Da die einzelnen, nebencinunderliegcnclen Heizkammern 26 der AHerungssiul'e 21 jeweils einen eigenen Heißluft-Kreislauf besitzen, ist es möglich, die Temperatur in den einzelnen liei/kammern unabhängig von den benachbarten Hcizkammcrn zu regeln.

Die Vorspannstufe 31 des Heizofens besitzt cmc Heizkammer 33 und eine Vielzahl von Brennern 24. Die Heizkammer 33 weist einen F.intrittsschlitz 32 und einen •\ustrittsschlitz .32' auf.

Die Glasplatte 29 wird durch einen Hintrittsschlitz 30 der Alterungsstufe 21 des Heizofens zugeführt und durch eine nicht dargestellte Halteeinrichtung zunächst in der ersten Heizkammer 26 gehalten. Wenn die Glasplatte 29 einen vorbestimmten Zeitraum in der eisten Heizkammer 26 verbracht hat, wird die GIa¹,platte allmählich in die zweite und dritte Heizkammer verlagert, wobei die Glasplatte 29 die Stellungen der Glasplatter, 29' und 29" einnimmt. Die am linde der AHerungsstufe angelangte Glasplatte 29" wird durch den Lintriitsschlitz 32 in die Heizkammer 33 der Vorspannstufe 31 eingeführt. Die in der Heizkammer 33 der Vorspannstufe 31 befindliche Glasplatte 29'" wird auf eine Temperatur in der Nähe des Hrweichungspimktes des Glases erhitzt und anschließend durch den Austnttsschlitz 32' abgegeben. Die aus dem Heizofen austretende Glasplatte wird durch eine nicht dargestellte l.ufigeblaseeinrichtung rasch gekühlt.

Hin Teil der Heißluft in ilen Hei/kammem 2h und 33 entweicht durch die Hin- und Auslässe 30, 32 imil 32 . Die entwichene HeilMuli wird ledoch durch die dem Heizofen zugeitihite und durch ;lie Brenner 24 erhitzte 1 'risehluft ersetzt.

Die lemperatur in den llei/kammern 26 der Alterungssmfe 21 betrug 300 C. während die Temperatur in der Heizkammer 33 der Vorspannstufe 31 bei 670 C lag. Die Verweilzeil der Glasplatten in jeder Heizkammer 26 der Ahei ungssuife 21 betrug 22 Minuten. Die Gesamtzeit tier Wärmebehandlung der f"i!:n,nl;iuen in tier Alierungsstulc 21 bei 300 C" betrug somit 66 Minuten. Unter diesen Bedingungen ergibt die Formel

10 T dH

einen Wert von 1.0, womit die Bedingung der Gleichung (II) erfüllt ist.

Zwei der fünf Glasplatten der Probe A mit Nickelsulfidsteinchen sind in der Heizkamrrer 33 der Vorspannstufe 31 und zwei Glasplatten in der dem Heizofen nachgeschalteten Luftgebläseeinrichtung gebrochen. Die fünf Glasplatten der Probe B mit Einschlüssen aus Chromitteilchen und die 50 Glasplat ten der Probe C dagegen sind in den vorstehenden Behandlungsstufen nicht gebrochen. Die Glasplatten der Proben B und C änderten den Zustand ihrer Oberfläche nicht, so daß einwandfreie vorgespannte Glasplatten entstanden.

Die verbliebene Glasplatte der Probe .4 wurde in den Raschheizofen 5 gegeben, um sie dort 200 see lang bei 500⁰C zu halten. Die Glasplatte zerbrach jedoch nach etwa 180 see.

Die 55 Glasplatten der Proben B und C wurden dem vorstehend beschriebenen Bruchversuch mit einer Bestrahlung durch eine Infrarotlampe, einem lang andauernden Versuch mit wechselnder Temperatur zwischen kalt und warm unter 150^c C oder wiederholten Biegeversuchen ausgesetzt. Die 55 Glasplatten der Proben ßund Czeigten keinen spontanen Bruch,

Beispiels

Es wurden wie bei den vorhergehenden Beispielen fünf Glasplatten der Probe ,4. fünf Glasplatten der Probe ßund 50 Glasplatten der Probe ("hergestellt. Die Glasplatten sämtlicher Proben wurden r>6 Minuten lang in einem Heizofen mit 300'C wärmebehandelt. Der Heizofen entsprach der Altcrungsstufe 21 des in F i g. 4 gezeigten Ofens. Die Glasplatten wurden anschließend auf Raumtemperatur abgekühlt und zwei Tage lang bei Raumtemperatur gehalten. Die Glasplatten wurden sodann in einem Heizofen für eine Vorspannbehandiung innerhalb von drei Minuten auf 670'C erhitzt und anschließend innerhalb von 6 Minuten auf 100 C abgekühlt.

Alle fünf Glasplatten der Probe ,4 sind spontan im Heizofen für die Vorspannbehandlung gebrochen. Die übrigen Glasplatten der Proben ßund Γ zeigten selbst bei dem Bruchversuch mit einer Bestrahlung durch eine Infrarotlampe keinen Spontanbruch.

B e i s ρ i e I b

Hs wurden vorgespannte Glasplatten mit HiIIe eines in H i g. 4 gezeigten Heizofens mit einer AHerungsstufe 21 und einer Vorspannstufe 31 hergestellt. Die Mtemngsbehandlung erfolgte somit vor der Vorspann behandlung. Die Alierungsbehandlung wurde unter verschiedenen Bedingungen diiivhgelühri, welche die nachstehende (ileiehung

erlullten.

Die .ms der Vorsp.mnstule 31 auftretenden (

ten wurden gemäß Beispiel 5 gekühlt. Die abgekühlten Glasplatten wurden nicht mehr im Raschheizofen 5 erhitzt.

Bei diesem Beispiel wurden fünf Glasplatten der Probe A und 10 Glasplatten der Probe Cverwendet. Die Glasplatten, die aufgrund der vorstehenden Behandlung nicht gebrochen sind, wurden im oben beschriebenen

Tabelle V

Bruchversuch mit einer Bestrahlung durch eine Infrarotlampe untersucht. ^

Die Ergebnisse des Beispiels 6 sind in der ι abelle V zusammengestellt. In dieser Tabelle sind zu Vergleichszwecken auch Werte für Alterungsbehandlungen angegeben, die außerhalb des erfindungsgemäßen Bereiches liegen.

Bedingungen	100	der Alterungsbehandlung vor	der Vorspannbehandlung	/'»■ T«»	Anzahl der spontan	Herstellung	Anzahl der sp	omun
	3S0			0	während der	Glasplatten	beim Bruchve	rsuch mit
	3S0			1.0	gebrochenen		Infrarotlampe	gebrochenen
				1.1		Probe C	Glasplatten
Heiz		Hei/verfahren	Heizzeit	2.0 oder mehr	Probe A		Probe Λ	Probe C
			I Gesamtzeit in Min. bei	2.0 oder mehr
			100- - ISO O	1.2 oder mehr		0
		Konstante Temperatur	250 0(K)		4	0	1	0
	400	desgl.	60		5	0	0	0
temperatur		Gekühlt mit 1 C Min.	280	0.6	■>	I)	0	I)
<" Ci		Erhitzt mit 1 C Min.	280	0.7	5	0	0	0
loo		Erhitzt mit 10 C Min.	100		4		1	0
370		und gekühlt mit		mehr als 1.2
380	3 C Min.				(1
KM)	Konstante Temperatur	150 000		0	0	5	0
150	desgl.	40		0	0		0
	desgl.	S	0	0		I)
	Jeweils 10 Min. auf	100	4		1	0
100	300 400 C während
}70	etwa 30 Sek. oder
400	weniger erhitzt
J 50		1 licr/u	2 lJlatt Zeichnungen

Claims (17)

•i Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung von vorgespannten Glasplatten, wobei die Glasplatten einer Vorspann- > kehandlungsstufe unterworfen werden, indem sie auf tine Temperatur in Nähe ihres Erweichungspunktes erhitzt und die erhitzten Glasplatten von ihrer Oberfläche her rasch gekühlt werden, dadurch gekennzeichnet, daß man die Glasplatten Bach der Vorspannbehandlung innerhalb eines Temperaturbereiches von 100 bis 38O⁰C während wenigstens eines Gesamtzeitraumes H gehalten »■erden, der die folgende Gleichung erfüllt:

ti

10- ψ JH = 1

worin 7~die Temperatur in ⁰C bei einem gegebenen Zeitpunkt, H die Zeit in Minuten, bei welcher T innerhalb des Bereiches von 100 bis 380⁰C liegt, bedeutet, und dadurch der Kristallübergang und die begleitende Volumenänderung von jeglichen, gegebenenfalls in den Glasplatten vorhandenen Nickel-Sulfidverunreinigungen beschleunigt wird, wodurch veranlaßt wird, daß die solche Nickelsulfidverunreitiigungen enthaltenden Glasplatten während der Verarbeitung spontan brechen, und auf diese Weise Ciasplatten, bei welchen spontane Brüche zu erwarten sind, von den brauchbaren vorgespannten Glasplatten abgetrennt werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennieichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten bei einer Temperatur im Bereich von 250 bis 380⁰C während eines Zeitraumes von insgesamt 10 Minuten oder mehr gehalten werden.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten bei einer Temperatur im Bereich von 100 bis 150⁰C während einer Gesamtzeit von 320 Minuten oder rnehr gehalten werden.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten bei einer Temperatur von 150 bis 250°C während einer Gesamtzeit von 45 Minuten oder mehr gehalten werden.

5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten bei einer konstanten Temperatur im Bereich von 100 bis 380⁰C während dieses Zeitraumes gehalten werden.

6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten bei einer /wischen 100 und 380⁰C variierenden Temperatur während dieses Zeitraumes gehalten werden.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Vorspannung die Glasplatten Iki einer Temperatur außerhalb des Temperaturbereiches von 100 bis 380" C während eines bestimm-•en Intervalls während der kontinuierlichen Halte-■eii und bei einer Temperatur innerhalb des Screichcs von 100 bis 380^cC für den Rest dieser kontinuierlichen Zeit gehalten werden.

8. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennleichnet, daß bei der Stufe der raschen Abkühlung 4k Glasplatten auf eine Temperatur im Bereich von 100 bis 200¹X abgekühlt werden.

35

40

45

9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß weiterhin die folgende Stufe angewandt wird:

C) nach der Haltestufe werden die behandelten Glasplatten mindestens einmal rasch in einem bei einer Temperatur von 300 bis 950⁰C gehaltenen Heizofen während 10 Sekunden bis 300 Sekunden erhitzt

10. Verfahren zur Herstellung von vorgespannten Glasplatten, wobei die Glasplatten einer Vorspannbehandlungsstufe unterworfen werden, indem sie auf eine Temperatur in Nähe ihres Erweichungspunktes erhitzt und die erhitzten Glasplatten von ihrer Oberfläche her rasch gekühlt werden, dadurch gekennzeichnet, daß man die Glasplatten vor der Vorspannbehandlung innerhalb eines Temperaturbereiches von 100 bis 380°C während wenigstens eines Gesamtzeitraumes //gehaiten werden, der die folgende Gleichung erfüllt.

/,0

JH =

worin Tdie Temperatur in ^CC bei einem gegebenen Zeitpunkt, H die Zeit in Minuten, bei welcher T innerhalb des Bereiches von 100 bis 380⁰C liegt, bedeutet, und dadurch der Kristallübergang und die begleitende Volumenänderung von jeglichen, gegebenenfalls in den Glasplatten vorhandenen Nickelsulfidverunreinigungen beschleunigt wird, wodurch veranlaßt wird, daß die solche Nickelsuifidverunreinigungen enthaltenden Glasplatten während der Verarbeitung spontan brechen, und auf diese Weise Glasplatten, bei welchen spontane Brüche zu erwarten sind, von den brauchbaren vorgespannten Glasplatten abgetrennt werden.

11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasplatten vor der Vorspannungsbehandlung bei einer Temperatur im Bereich von 200 bis 300⁰C während 500 Minuten oder mehr gehalten werden.

12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasplatten vor der Vorspannungsbehandlung bei einer Temperatur im Bereich von 300 bis 37O⁰C während 60 Minuten oder mehr gehalten werden.

13. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasplatten vor der Vorspannungsbehandlung bei einer konstanten Temperatur im Bereich von 100 bis 380⁰C während dieses Zeitraumes gehalten werden.

14. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasplatten vor der Vorspannungsbehandlung bei einer zweiten 100 und 380° C variierenden Temperatur während dieses Zeitraumes gehalten werden.

15. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasplatten vor der Vorspannungsbehandlung bei einer Temperatur innerhalb des Temperaturbereiches von 100 bis 380⁰C während eines bestimmten Intervalls während der kontinuierlichen Haltezeit und bei einer Temperatur innerhalb des Bereiches von 100 bis 38O⁰C wahrend des Restes der kontinuierlichen Zeit gehalten werden.

16. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Vorspannungsbehand-

lung die Glasplatten während einer Anlaßbehandlung im Anschluß an ihre Bildung bei einer Temperatur im Bereich von 200 b:s 380° C während mindestens 100 Minuten gehalten werden.

17. Verfahren nach Anspruch 10 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß die folgende Stufe angeschlossen wird:

C) nach der Vorspannungsbehandlung werden die behandelten Glasplatten mindestens einmal rasch in einem bei einer Temperatur von 300 bis 950⁰C to gehaltenen Heizofen während 10 Sekunden bis 300 Sekunden erhitzt.