DE2037261A1 - Integrierte Festkörper Schaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Integrierte Festkörper Schaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
Arbeitsstelle für Molekularelektronik, 808 Dresden, Königsbrücker Landstraße 159, Haus 137
Integrierte Festkörper-Schaltungsanordnung und Verfahren
zu ihrer Herstellung
Die Erfindung betrifft eine integrierte Schaltungsanordnung, bei der ein plattenförmiger Halbleiterkörper eine Vielzahl
gegeneinander isolierter Funktionsbereiche, z. B. Dioden, Transistoren oder auch Schaltkreise, enthält, die an zwei
gegenüberliegenden Seiten des Halbleiterkörpers in diesem
angeordnet sind·
Unter "integrierter Festkörper-Schaltungsanordnung" soll
folgend eine Vielzahl, vorzugsweise untereinander gleicher Funktionsbereiche verstanden werden, die auf zwei gegenüberliegenden Seiten des Halbleiterkörpers in dieses eingebracht
sind, und zwar unabhängig davon, ob nach Herstellung aller Funktionsbereiche der Halbleiterkörper in körperlich kleinere Einheiten (Chips) geteilt wird oder nicht· Der Begriff
"Chip" ist deshalb hier auch als Bezeichnung für eine kleinere Einheit eines ungeteilten plattenförmigen Halbleiterkörpers aufzufassen·
Es sind Festkörper-Schaltungsanordnungen und Verfahren zu
deren Herstellung in großer Zahl bekannt, bei denen im wesentlichen »it Hilfe von Maskierungs- und Diffusionstechniken eine Vielzahl von Funktionsbereichen auf einer Seite
eines Halbleiterkörpers eingebracht sind bzw* werden.
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Solchermaßen ausgestaltete Festkörper-Schaltungsanordnungen bzw· Verfahren zu deren Herstellung lassen die Rückseite des
plattenförmigen Halbleiterkörpers völlig ungenutzt, wenn einmal von rückseitig angeordneten Kontakten abgesehen wird.
Bekanntlich ist nun aber nur ein mehr oder minder großer Teil aller auf einen ^lattenföraiigen Halbleiterkörper gleichzeitig
hergestellten Funktionsbereiche brauchbar, so daß die theoretisch mögliche Ausbeute bei bekanntermaßen hergestellten
Festkörper-Schaltungsanordnungen durch den entstehenden Ausschuß weiter gesenkt wird» Dadurch entstehen hohe Herstellungskosten
und unwirtschaftliche Preise·
Zur Vermeidung dessen wurde eine integrierte Halbleiterschaltung
mit mehreren in einem plattenförmigen Halbleiterkörper aus eigenleitendem oder hochohmigem Halbleitermaterial
angeordneten, kapazitätsarm gegeneinander isolierten^ störstellenleitenden
Kristallbereichen vom ersten Laitfähigkeitstyp,
in die jeweils die gewünschten Schaltelemente eingebracht sind, geschaffen9 wobei die gegenseitige Isolation
der störstellenleitenden Kristallbereiche durch die Kombination einer oder mehrerer eigenleiteBaer Halbleiterzonen mit
einer oder mehreren störstellenleiten&en Halbleiter&onen
vom zweiten Leitfähigkeitstyp bewirkt wird» Mach einer besonderen
Ausführung sind die Schaltelemente bildenden Halbleiterzonen in die störstellenleitenden Kristallbereiche
von entgegengesetzten Seiten des Halbleiterkörpers her eindiffundiert. Damit ist zwar die Anordnung von Funktionsbereichen
in zwei Seiten plattenförmiger Halbleiterkörper bekannt, sie stützt sich jedoch auf den Einsatz eigenleitender
oder hochohmiger Halbleitermaterialien und soll dazu dienen, die einzelnen Funktionsbereiche besser als bekannt gegeneinander zu isolieren· Dazu sind die Funktionsbereiche der
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einen Seite gegenüber denen der anderen so gegeneinander
versetzt, daß istoer zwischen zwei Funktionsbereichen der
einen Seite nur ein Funktionsbereich auf der anderen Seite liegt·
Die statistische Verteilung guter und fehlerhafter Funktionsbereiche auf eines plattenförmigen Halbleiterkörper
zeigt nun aber, daß mittels dieser räumlichen Verteilung der Funktionsbereiche eine optimale Ausbeute nicht erreicht
wird.
Es ist Zweck der Erfindung« eine integrierte Festkörper-Schaltungsanordnung und ein Verfahren zu deren Herstellung
vorzuschlagen, die/das unter Anwendung an sich bekannter
rige Herstellungskosten und Preise abzielt·
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine integrierte Festkörper-Schaltungsanordnung und ein Verfahren zu deren
Herstellung vorzuschlagen, mit deren Hilfe das Halbleiterausgangsmaterial weitestgehend ausnutzbar ist· ErfindungsgemäE wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der plattenförmige Halbleiterkörper auf zwei einander gegenüberliegenden
Flachen eine Vielzahl von Funktionsbereichen aufweist, die derart zueinander zentriert sind, daß jedes Chip auf zwei
gegenüberliegenden Seiten je einen Funktionsbereich aufweist·
näher erläutert werden« In der zugehörigen Zeichnung zeigen
unbeschadet -der tatsächlichen Größen- und Maßstabsverhältnisse:
Fig« 1: den plattenförmigen Halbleiterkörper mit Darstellung einer möglichen Verteilung schlechter und
guter Funktionsbereiche,
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Fig. 2: einen Schnitt im Linienzug des Durchmessers der
Fig. 1 in prinzipieller Darstellung,
Fig. 3: eine mögliche Ausführung der Einzelheit L nach
Fig. 2.
Ein plattenförmiges Substrat 91, in dem hier gewählten Beispiel
von scheibenförmiger Gestalt, ist beidseitig mit je einer Epitaxieschicht 92; 93 versehen« Diese sind durch je
eine Oxidschicht 12 abgedeckt, die Chips bildende Ritzgitter 10; 11 aufweisen. Die starke Umrandungslinie in Fig.
zeigt die Chips A 4 bis H 5, die durch die Begrenzungslinie des Halbleiterkörpers 9 nicht angeschnitten und damit für
die weiteren Betrachtungen interessant sind»
Jedes dieser Chips enthält sowohl in der Epitaxieschicht wie in der Epitaxieschicht 93 einen Funktionsbereieh, der
beispielsweise wie D 392; D 393 nach Fig. 3 ausgestaltet sein kann. Mit 9 ist das beidseitig mit Epitaxieschichten 92;
93 versehene Substrat 91, in das bereits alle Funktionsbereiche eingebracht sind, bezeichnete Fig. 1 zeigt beispielhaft
die statistische Verteilung guter bzw. unbrauchbarer Funktionsbereiche auf einem erfindungsgemäßen Halbleiterkörper
9. Dabei bedeutet ein χ einen guten Funktionsbereich in der Epitaxieschicht 92, ein ο einen solchen in der Epitaxieschicht
93. Aus dem in Fig. 2 dargestellten Schnitt ist erkennbar, daß bei herkömmlichen Herstellungsverfahren
in 8 Chips D 1 bis D 8 nur 5 gute Funktionsbereiche, nämlich dann, wenn diese in die Epitaxieschicht 92, und nur 3 gute
Funktionsbereiehe vorhanden sind, wenn diese in die Epitaxieschicht
93 eingebracht sind. Durch die beidseitige Anordnung der Funktionsbereiche auf je einem Chip steigt aber im Falle
der Fig. 2 die Zahl der guten konventionell ausnutzbaren Funktionsbereiche auf 7 Stück an. Bis auf Chip D 6 enthält
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jedes andere wenigstens einen guten Funktionsbereich. Für die beispielsweise in Fig. 3 vergrößert gezeigte Einzelheit
L bedeutet dies, daß die Funktionsbereiche D 293 und D 492 sowie die auf einem Chip gelegenen D 392 und D 393
brauchbar sind.
Die Verteilung brauchbarer bzw» unbrauchbarer Funktionsbe—
reiche nach Fig. 1 zeigt, daß 44 Chips 30 gute Funktionsbereiche
in der Epitaxieschicht 92, nur 23 gute in der Epitaxieschicht
93» aber 38 gute bei beidseitiger Anordnung aufweisen. Die erfindungsgemäße Lösung zeigt nur 6 völlig
unbrauchbare Funktionsbereiche, während es nach der ersten Variante 14, nach der zweiten sogar 21 waren.
Die Vorteile einer integrierten Festkörper-Schaltungsanordnung
nach der Erfindung sind augenfällig· Sie sind es auch hinsichtlich des zu ihrer Herstellung angewandten Verfahrens,
da nur solche technologischen Schritte zur Anwendung gelangen, die bereits aus der Herstellung von Halbleiterbauelementen
zur Verfügung stehen und die hinreichend sicher beherrscht werden.
Darüber hinaus bieten Schaltungsanordnungen nach der Erfindung den Vorteil, daß die beiden in einem Chip enthaltenen
guten Funktionsbereiche verwendet und in einem gemeinsamen Gehäuse montiert werden können.
Überhaupt ist die Verwendung beider guten Funktionsbereiche in einem Gehäuse eine unmittelbar dem Zweck der Erfindung
dienende Maßnahme.
Es versteht sich schließlich von selbst, daß der Begriff "Funktionsbereich" im weitesten Sinne der Bedeutung dieses
Vortes aufzufassen ist und der Gegenstand der Erfindung
nicht durch Verwendung eines bestimmten Halbleitermaterials eingeschränkt wird.
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Claims (1)
- Patentansprüche:Integrierte Festkörper-ochaltungsanordnung mit einer Vielzahl untereinander gleicher und gegeneinander isolierter Funktionsbereiche, die in zwei einander gegenüberliegende Seiten eines plattenförmigen Halbleiterkörpers eingebracht sind, dadurch gekennzeichnet, daß jedem auf einer Seite des Ilalbleiterkörpers angeordneten Funktionsbereich ein solcher auf der anderen Seite gegenüberliegt und beide Funktionsbereiche zumindest grob zueinander zentriert sind·2, Verfahren zum Herstellen integrierter Festkörper-Schaltungsanordnungen nach Anspruch 1» dadurch gekennzeichnet, daß unter Anwendung an sich bekannter technologischer Schritte und Prozesse ein entsprechend vorbereitetes Halbleitersubstrat zunächst auf der einen, sodann auf seiner gegenüberliegenden Seite mit je einer Epitaxieschicht versehen wird, in die anschließend einander gegenüberliegende Funktionsbereiche eingebracht werden.- Hierzu 1 Blatt Zeichnungen -(942/535)109803/1396
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DD14174369 | 1969-08-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2037261A1 true DE2037261A1 (de) | 1971-02-18 |
Family
ID=5481550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702037261 Pending DE2037261A1 (de) | 1969-08-08 | 1970-07-28 | Integrierte Festkörper Schaltungsanordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2037261A1 (de) |
FR (1) | FR2057071B3 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE3840559A1 (de) * | 1987-12-02 | 1989-06-15 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterspeichervorrichtung und herstellungsverfahren |
DE10065664A1 (de) * | 2000-12-29 | 2002-07-11 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Halbleiterspeicheranordnung |
-
1970
- 1970-07-28 DE DE19702037261 patent/DE2037261A1/de active Pending
- 1970-08-07 FR FR7029246A patent/FR2057071B3/fr not_active Expired
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US6603164B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-08-05 | Infineon Technologies Ag | Integrated semiconductor memory configuration |
DE10065664B4 (de) * | 2000-12-29 | 2005-07-28 | Infineon Technologies Ag | Integrierte Halbleiterspeicheranordnung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2057071B3 (de) | 1973-01-12 |
FR2057071A7 (de) | 1971-05-07 |
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