DE2000209C3 - Verfahren zum Entfernen einer bei Glühbehandlung gebildeten, komplexe Oxide enthaltenden Schicht von der Oberfläche von Kupferlegierungen - Google Patents
Verfahren zum Entfernen einer bei Glühbehandlung gebildeten, komplexe Oxide enthaltenden Schicht von der Oberfläche von KupferlegierungenInfo
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Description
die als Legierungszusätze 0,5 bis 12% Aluminium
und/oder 0,5 bis 5% Silicium enthalten.
Als erste Reinigungslösung kann eine beliebige wäßrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von über
10 und vorzugsweise von 11 bis 14 verwendet werden
Im allgemeinen ist Natronlauge als Alkalilösung bevorzugt, jedoch lassen sich auch andere Alkalilösungen,
wie Lethiumhydroxidlösungen oder Kalilauge ohne weiteres verwenden. Die wäßrige Alkalilösung soll
auf einer Temperatur im Bereich von 38°C bis zu ihrem Siedepunkt, vorzugsweise zwischen 7l°C und
ihrem Siedepunkt, gehalten werden. Vorzugsweise beträgt die Tauchdauer 5 Sekunden bis I Minute.
Für die zweite Behandlungsstufe kann eine beliebige Mineralsäurelösung verwendet werden, sofern »5
deren Säurestärke der einer 3- bis 50volumenprozentigen H2SO4-Lösung äquivalent ist. Schwefelsäure
ist bevorzugt. Beispiele anderer geeigneter Säuren sind Salpeter- und Salzsäure. Bevorzugte Lösungen besitzen
eine Säurestärke, die der einer 5- bis 20volumprozentigen H2SO4-Lösung entspricht. Die Mineralsäurelösung
wird vorzugsweise auf einer Temperatur von 51 bis 80°C gehalten. Die Behandlungsdauer beträgt
vorzugsweise 5 Sekunden bis 1 Minute. Bei Behandlungszeiten von mehr als etwa 5 Minuten erhält
man in einigen Fällen eine unerwünschte Verfärbung, was zwar mit Rücksicht auf die Verkäuflichkeit der
Legierungen unerwünscht ist, aber keinen Einfluß auf die Lot- oder Plattierbarkeit hat, da trotzdem eine
wirksame Reinigung erfolgt.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform besitzt daher die verwendete wäßrige Alkalilösung einen
pH-Wert von 11 bis 14, und die zu reinigende Oberfläche wird 5 Sekunden bis 1 Minute in die Alkalilösung
und dann 5 Sekunden bis 1 Minute in eine wäßrige Mineralsäurelösung getaucht, deren Säurestärke
einer 5- bis 20vo!umenprozentigen H2SO4-Lösung
entspricht.
Auch kann es zweckmäßig sein, die verwendete Säurelösung durch einen Zusatz von 7,5 bis 60 g
Natriumdichromat/Liter Lösung zu modifizieren, ins-
besondere wenn die Glühbehandlung unter Luftzutritt erfolgte.
Die Beispiele erläutern die Erfindung.
Es werden folgende Legierungen behandelt:
Tabelle 1
Tabelle 1
Legierung Zusammensetzung
A Aluminium 9,5%; Eisen 3,8%; Rest im we
sentlichen Kupfer
B Aluminium 2,8%; Silicium 1,8%; Kobalt
0,4%; Phosphor 0,1%; Rest im wesentlichen Kupfer
C Zink 22,7%; Aluminium 3,4%; KobaltO.4%;
Rest im wesentlichen Kupfer.
Die Einzelheiten der erfindungsgemäßen Behandlung sind in Tabelle II zusammengestellt.
Das sogenannte »Luftglühen« wird wie folgt durchgeführt:
Die Legierung wird innerhalb einiger Minuten auf 5930C erhitzt und 2 Stunden bei dieser Temperatur
gehalten. Dann kühlt man die Legierung durch Herausnehmen aus dem Glühofen auf Raumtemperatur ab.
In das Innere des Glühofens kann dabei Luft eintreten.
Die sogenannte »Bell-Glühung« betrifft ein Glühverfahren,
bei dem ein Blech aus der Legierung in einen geschlossenen Glühofen eingesetzt wird. Dann
wird die Luft durch eine Atmosphäre, die durch Verbrennen von Kohlenwasserstoffen erzeugt wird, verdrängt.
Der Ofen wird anschließend mehrere Stunden auf eine Temperatur von etwa 593° C erhitzt und über
mehrere Stunden auf Temperatur gehalten, worauf er im Laufe von mehreren Stunden langsam auf eine
Temperatur abgekühlt wird, bei der er geöffnet werden kann, ohne daß dadurch übermäßig starke Oxydation
hervorgerufen wird.
Legierung
A
A
| Legierung | pH 11 | pH 14 |
| B | Kp. | Kp. |
| NaOH — | 12 Vol.-% | 12 Vol.-% |
| Temp. — | 660C | 660C |
| H2SO4 — | Tauchzeit je 30 Sek. | |
| Temp. — | NaOH- | |
| Temp. — | ||
| H2SO4 — | ||
| Temp. — |
Legierung
C
C
Luft-Glühung
1. Reinigungsbad
2. Reinigungsbad
Bell-Glühung
1. Reinigungsbad
2. Reinigungsbad
Band-Glühung
1. Reinigungsbad
2. Reinigungsbad
NaOH — pH 11
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp.-660C
Tauchzeitje30Sek.
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp.-660C
Tauchzeitje30Sek.
NaOH — pH 13
Ter.ip. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp.-660C
Ter.ip. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp.-660C
Tauchzeitjel5Sek.
NaOH — pH 14
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temip. — 660C
Tauchzeitje5Sek.
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temip. — 660C
Tauchzeitje5Sek.
Tauchzeit je 15 Sek.
NaOH — pH 14
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp. —660C
Tauchzeit je 5 Sek.
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp. —660C
Tauchzeit je 5 Sek.
LiOH — pH 12
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp. — 660C
Tauchzeit je 30 Sek.
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
Temp. — 660C
Tauchzeit je 30 Sek.
NaOH — pH 14
Temp. — Kp.
H2SO4-12 Vol.-%
+ 30 g/Liter Na-Dichromat
Temp. — 660C
Tauchzeit je 15 Sek.
NaOH — pH 14
Temp. — Kp.
H2SO1-12 Vol.-%
Temp. —660C
Tauchzeitje5Sek.
Temp. — Kp.
H2SO1-12 Vol.-%
Temp. —660C
Tauchzeitje5Sek.
Bei der sogenannten »Band-Glühung« wird ein Band kontinuierlich durch einen beispielsweise mit
Gasbrennern oder durch Widerstandsheizung erhitzten Ofen hindurch geführt, wobei im Glühofen
eine durch Verbrennen von Propan zwecks Verbrauchs des vorhandenen Sauerstoffs erzeugte Gasatmosphäre
herrscht. Die Transportgeschwindigkeit des Bandes wird dabei so eingestelh, daß die Verweilzeit im
Ofen ausreichend lang ist, um das Band auf die gewünschte Temperatur, im vorliegenden Fall auf
5930C, zu bringen.
Bei der unter Luftzutritt (Luftglühen) geglühten Legierung C soll bei kurzen Behandlungszeiten besser
Lithiumhydroxidlösung verwendet werden. Außerdem wird bei der einer Bell-Glühung unterworfenen Legierung
C zweckmäßig die modifizierte Zusammensetzung des Säuretauchbades angewendet, d. h. ein
Säurebad mit einem Zusatz von 7,5 bis 60 g Natriumdichromat/Liter.
Es wurde festgestellt, daß nach der vorstehend beschriebenen Reinigungsbehandlung alie Legierungen
erfolgreich gelötet werden können. Zum Vergleich sei angemerkt, daß keine dieser Legierungen vor dem
Reinigen gelötet werden konnte.
Die Wirksamkeil der vorstellend beschriebenen Reinigung wird unter Anwendung kapazitiver Oberflächenmessungen
vor und nach dem Reinigen genau aufgezeigt. Dabei findet man, daß das erfindungsgemäße
Reinigungsverfahren die Oberflächenkapazität, d. h. einen mit der Dicke der bei der Glühbehandlung
gebildeten Oxidschicht und der Lösungsdoppelschichtstärke zusammenhängenden Parameter,
bis auf einen Wert erhöht, der für das alleinige Vorhandensein der durch das Eintauchen des Testkörpers
in die bei der Kapazitätsmessung verwendete Elektrolytlösung erzeugten Oberflächendoppelschicht-Kapazität
kennzeichnend ist. Beispielsweise war eine Probe aus der Legierung C vor dem Reinigen von
einem Oxidfilm bedeckt, dessen Dicke aufgrund der Kapazitälsmessungen zu 88 A errechnet werden
konnte. Nach dem Reinigen betrug die Stärke von Oxid- und Doppelschichtäquivalent 4,8 Λ. Durch
eine diese Doppelschicht berücksichtigende Korrektur wird jeder Gesamtwert, der unter 8 A liegt, auf eine
reale Oxidschichtdicke von 0 verringert. Somit zeigt ίο die Kapazitätsbrücke effektiv, daß die Oberfläche
gereinigt ist. Dieses Ergebnis wird durch den Löttest bestätigt.
Es wurden Legierungsproben (3% Al, 2% Si, Rest Kupfer) unterschiedlichen Glühbehandlungen unterworfen
und dann gemäß dem Stand der Technik bzw. gemäß der Erfindung gereinigt. Um einen
möglichst exakten Vergleich zu ermöglichen, wurde
so die Behandlung mit der Alkalilösung 30 Sekunden
und die Säurebehandlung über 10 Minuten erstreckt. Anschließend wurde die Beschaffenheit der Oberfläche
untersucht. Es zeigte sich, daß sich bei einem Lölversuch die nicht vollständig erfolgte Entfernung
der Oxidschicht sofort darin zu erkennen gab, daß
das Lötmetall kleine Kügelchen bildete, welche an
der Oberfläche der Legierungsprobe nicht hafteten.
Eine gute Benetzung der Metalloberfläche durch das
Lötmetall wurde nur bei der erfindungsgemäß be-
handelten Probe Nr. 3 und der nicht geglühten und daher keine Oxid-Oberflächenschicht aufweisenden
Probe Nr. 4 beobachtet.
Die gemäß den Stufen 1 und 2 der US-PS 27 26 970 behandelte Probe konnte gleichfalls nicht gelötet
werden. Vielmehr war hierfür noch die Anwendung des dritten Behandlungsbades mit einem Gehalt an
einer Thio-, einer Bor- und einer Alkylarylsulfatverbindung erforderlich.
Kupferlegierung, Typ 638 (3% Aluminium, 2% Silicium)
Oxidationsbedingungen (an Luft)
Temp., Zeit
°C
Temp., Zeit
°C
Reinigungslösung
Temperatur Zeit
während der Reinigungsbehandlung
Zustand nach der
Reinigungsbehandlung
Reinigungsbehandlung
1 gemäß Stand der
600
| 2 | gemäß Stand der Technik |
800 |
| 3 | gemäß Erfindung | 600 |
| 4 | gemäß Erfindung (ohne Oxidschicht) |
— |
| 5 | entspricht Arbeits weise von US-PS 27 26 970 |
600 |
| 6 | entspricht Probe 3 (aber: alkalisches Reinigungsbad bei Zimmertemp.) |
600 |
| 7 | nur zum Vergleich | 600 |
| 8 | nur zum Vergleich | 800 |
Min. 12% H2SO4 Zimmertemp. 10 Min.
Min. 12% H2SO4 Zimmertemp. lOMin.
Min. pH 14 NaOH Siedetemp.(82cC)30Sek.
12% H2SO4 Zimmertemp. lOMin.
— pH 14 NaOH Siedetemp.(82°C)30Sek.
12% H2SO4 Zimmertemp. lOMin
Min. pH 14 NaOH Zimmertemp. 30Sek.
10% H2SO4+ Zimmertemp. 10Min.
10% HNO3
10% HNO3
Min. pH 14 NaOH Zimmertemp. 3ÖSek.
12% H2SO4 Zimmertemp. lOMin.
Min. ohne Reinigungsbehandlung
Min. ohne Reinigungsbehandlung
Min. ohne Reinigungsbehandlung
noch komplexe Oxide
vorhanden
vorhanden
noch komplexe Oxide
vorhanden
vorhanden
Oxidschicht vollständig u. schnell
J entfernt
J entfernt
\ keine Oxidschicht
/ vorhanden
/ vorhanden
noch komplexe Oxide
vorhanden
vorhanden
noch komplexe Oxide
vorhanden
vorhanden
nicht lötbar
Claims (7)
1. Verfahren zum Entfernen einer bei Glüh- kaiischen Beizbehandlung gebildete diinkelgefärbte
behandlungen gebildeten, komplexe Oxide ent- 5 Schicht entfernbar sein. Auch wird über saure Glanzhaltenden
Schicht vcn der Oberfläche von ins- beiden berichtet. Diese Maßnahmen betreffen aber
besondere aluminiumhaltigen Kupferlegierungen, nicht das speziell bei geglühten Kupferlcgierungen
dadurch gekennzeichnet, daß die zu auftretende Problem, welches auf der Bildung komreinigende
Oberfläche zuerst mindestens 2Se- plexer Oxide enthaltender Oberflächenschichten beruht,
künden in eine wäßrige Aikalilösung mit einem io Weiterhin ist es aus der FR-PS 13 69 257 bekannt,
pH-Wert von über 10 bei einer Temperatur von stark alkalischen Reinigungslösungen, die Phosphate
38°C bis zum Siedepunkt der Alkalilösung und und Gluconsäurederivate enthalten, auch noch kleine
dann 2 Sekunden bis 5 Minuten bei 24 bis 94°C Mengen der Verbindung 2-Mercaptobenzothiazol zuin
eine wäßrige Mineralsäurelösung getaucht zusetzen, um die Reinigungswirkung bei Bottichen,
wird, deren Säurestärke der einer 3- bis 50vo!umen- 15 Kesseln und Rohrleitungen in Molkereien und Bierprozentigen
H2SO4-Lösung äquivalent ist. brauereien zu erhöhen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn- Schließlich wird in der US-PS 27 26 970 eine wäßrige
zeichnet, daß die Temperatur der Alkalilösung Lösung von Natriumthiosulfat, Natriumtetraborat
mindestens etwa 710C beträgt. und einem Alkylarylsulfonat beschrieben, welche in
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch 20 der letzten Stufe einer dreistufigen Verfahrensabfolge
gekennzeichnet, daß die Temperatur der Säure- eingesetzt wird, um die Oberflächen von Kupferlösung
zwischen 51 und 8O0C liegt. legierungen gut lötbar zu machen. Dabei wird in der
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch ersten Stufe mit einer alkalischen Reinigungslösung
gekennzeichnet, daß in der Aikalilösung Lithium- und in der zweiten Stufe mit einer sauren Reinigungshydroxid
und/oder Natriumhydroxid verwendet 25 lösung behandelt. Die Erfahrung hat jedoch gezeigt,
wird. daß es mittels dieser Maßnahmen nicht zuverlässig
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gelingt, die störenden Oxidschichten von der Obergekennzeichnet, daß als Säurelösung Schwefel- fläche von Kupferlegierungen zu entfernen und damit
säure verwendet wird. glühbehandelte Kupferlegierungen gut lötbar zu
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch 3° machen.
gekennzeichnet, daß die verwendete Säurelösung Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe läßt
7,5 bis 60 g Natriumdichromat/Liter enthält. sich aber überraschenderweise durch eine zweistufige
7. Verfahren nach Anspruch 2 und 3, dadurch Behandlung lösen, wobei in den einzelnen Verfahrensgekennzeichnet,
daß die verwendete wäßrige stufen ganz spezifische Bedingungen angewendet Alkalilösung einen pH-Wert von 11 bis 14 besitzt, 35 werden. .
und die zu reinigende Oberfläche 5 Sekunden bis Das erfindungsgemäße Verfahren zum Entfernen
1 Minute in die Alkalilösung und dann 5 Sekunden einer bei Glühbehandlungen gebildeten, komplexe
bis 1 Minute in eine wäßrige Mineralsäurelösung Oxide enthaltenden Schicht von der Oberfläche von
getaucht wird, deren Säurestärke einer 5- bis insbesondere aluminiumhaltigen Kupferlegierungen
20volumenprozentigen HaSO4-Lösung entspricht. 4° ist dadurch gekennzeichnet, daß die zu reinigende
Oberfläche zuerst mindestens 2 Sekunden in eine wäßrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von über
— 10 bei einer Temperatur von 38°C bis zum Siedepunkt
der Alkalilösung und dann 2 Sekunden bis 5 Minuten 45 bei 24 bis 94°C in eine wäßrige Mineralsäurelösung
Zahlreiche Kupferlegierungen, insbesondere die- getaucht wird, deren Säurestärke der einer 3- bis
jenigen, die Aluminium enthalten, bilden bei einer 50volumenprozentigen H2SO4-Lösung äquivalent ist.
Glühbehandlung an der Oberfläche komplexe Oxide, Vorzugsweise wird zwischen den beiden Reinigungs-
die mit den herkömmlichen Verfahren zur Reinigung stufen und nach der letzten Reinigungsstufe eine
von Kupfer nur schwer zu entfernen sind. 50 herkömmliche Spülung mit Wasser oder ein Ab-
Beispielsweise bildet eine aus etwa 66% Kupfer, blasen mit Luft durchgeführt.
1,55% Aluminium, 1'% Eisen und als Rest im wesent- Das Verfahren der Erfindung eignet sich sowohl
liehen aus Zink bestehende Kupferlegierung beim zum kontinuierlichen Reinigen von Bändern als auch
Glühen ein Oxid, das bei Anwendung üblicher Reini- zum absatzweisen Reinigen von Formteilen,
gungsmethoden nicht zuverlässig entfernt werden 55 Die mit komplexen Oxiden, wie Aluminiumoxid, kann. Das Metall kann wegen der nicht entfernbaren Oxide vom Spinelltyp, z. B. Kupferaluminat und Oxidrestschicht nicht reproduzierbar gelötet oder Zinkaluminat, oder Nickeloxide, bedeckte Oberfläche elektroplattiert werden. der Kupferlegierung kann nach der erfindungs-
gungsmethoden nicht zuverlässig entfernt werden 55 Die mit komplexen Oxiden, wie Aluminiumoxid, kann. Das Metall kann wegen der nicht entfernbaren Oxide vom Spinelltyp, z. B. Kupferaluminat und Oxidrestschicht nicht reproduzierbar gelötet oder Zinkaluminat, oder Nickeloxide, bedeckte Oberfläche elektroplattiert werden. der Kupferlegierung kann nach der erfindungs-
Derarjtige komplexe Oxide, welche bei aluminium- gemäßen Behandlung erfolgreich gelötet und elektrohaltigen
Kupferlegierungen auch Oxidkomponenten 60 plattiert werden, da die bei dem Glühvorgang gevom
Spinelltyp enthalten können, geben überdies bildeten Oxide praktisch vollständig entfernt werden.
Anlaß zu übermäßig starkem Formwerkzeugverschleiß Diese Entfernung der Oxidschicht kann messend ver-
und zu Fehlern während der Verarbeitungsverfahren. folgt werden, z. B. anhand des Gewichtsverlustes je
So wurde in der Monographie von S t r a s c h i 11 Zeiteinheit. Dabei zeigt sich eine überraschend hohe
»Neuzeitliches Beizen von Metallen« (1962) empfohlen, 65 Ablösungsgeschwindigkeit der Oxidschicht,
reines Aluminium mit ungefähr 20prozentiger Natron- Das Verfahren der Erfindung läßt sich mit Erfolg
reines Aluminium mit ungefähr 20prozentiger Natron- Das Verfahren der Erfindung läßt sich mit Erfolg
lauge bei Temperaturen über 8O0C zu beizen, an- auf beliebige Kupferlegierungen anwenden. Besonders
schließend mit kaltem Wasser abzubeizen und dann zweckmäßig ist das Verfahren bei Kupferlegierungen,
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78941769A | 1969-01-06 | 1969-01-06 | |
| US78941769 | 1969-01-06 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2000209A1 DE2000209A1 (de) | 1970-07-23 |
| DE2000209B2 DE2000209B2 (de) | 1977-01-27 |
| DE2000209C3 true DE2000209C3 (de) | 1977-09-15 |
Family
ID=
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