DE19954335A1 - Fluorierte Harze mit einer Oberfläche mit hoher Benetzbarkeit - Google Patents
Fluorierte Harze mit einer Oberfläche mit hoher BenetzbarkeitInfo
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft fluorierte Harze, die eine hydrophile Oberfläche aufweisen. DOLLAR A Durch die vorliegende Erfindung werden fluorierte Harze mit hoher Benetzbarkeit bereitgestellt, indem der Mittellinien-Rauigkeitsdurchschnittswert der fluorierten Harzoberfläche auf mehr als 0,1 mum erhöht und ein hydrophiler Dünnfilm auf der Oberfläche mit der erhöhten Rauigkeit gebildet werden, wobei ein Mittellinien-Rauigkeitsdurchschnittswert von mehr als 0,1 mum beibehalten bleibt. DOLLAR A Mit ihrer Eigenschaft einer hohen Benetzbarkeit sind die fluorierten Harze der vorliegenden Erfindung dazu befähigt, eine hohe Hydrophilie sogar nach verlängertem Ausgesetztsein an die Atmosphäre beizubehalten. Auch können diese behandelten fluorierten Harze auf verschiedenen Gebieten, einschließlich eines Gebiets, das Biokompatibilität erforderlich macht, sowie auf einem Gebiet, das permeable Membranen oder Filter betrifft, angewandt werden.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft fluorierte Harze, die eine
hydrophile Oberfläche aufweisen. Insbesondere betrifft die
vorliegende Erfindung fluorierte Harze, die eine hohe
Hydrophilie sogar bei verlängertem Einsatz beibehalten und
eine hohe Benetzbarkeit aufweisen, und zwar als Ergebnis der
Bildung eines dünnen Films einer hydrophilen Substanz auf der
Oberfläche mit erhöhter Oberflächenrauigkeit.
Fluorierte Harze sind allgemein bekannt als Polymere, die
hauptsächlich aus den Elementen Kohlenstoff und Fluor
zusammengesetzt sind. Im allgemeinen schließen bekannte
fluorierte Harze Polytetrafluorethylen (PTFE), fluoriertes
Ethylenpropylen(FEP)-Copolymer, Perfluoralkylvinylether(PFA)-
Polymer und Polychlortrifluorethylen (PCTFE) und dgl. ein.
Fluorierte Harze sind durch Inertheit, thermische Stabilität,
Hydrophobie, einen niedrigen Reibungskoeffizient und eine
niedrige Haftung gekennzeichnet. Während solche Eigenschaften
die Vorteile fluorierter Harze darstellen, könnten sie
allerdings auch von Nachteil sein, wenn es darauf ankommt,
den Rahmen der Anwendungsgebiete für die entsprechenden Harze
zu erweitern.
Beispielsweise sind verschiedene Formen fluorierter Harze auf
einem Gebiet entwickelt worden, das deren Biokompatibilität
erforderlich macht, wegen deren chemischer Inertheit und
äußerst niedrigen Reaktivität ist die entsprechende
Entwicklung aber nur sehr eingeschränkt gewesen.
Während sich fluorierte Harze mit niedriger
Oberflächenenergie außerdem auf dem Gebiet permeabler
Membranen oder Filter dazu eignen, zur Permeation von
Flüssigkeiten mit niedriger Oberflächenspannung verwendet zu
werden, eignen sie sich nicht zur selektiven Permeation von
Flüssigkeiten mit hoher Oberflächenspannung (<50 dyn/cm).
Ferner ist PTFE bezüglich seiner Anwendungsmöglichkeiten für
Membranen von Zellkulturen intensiv untersucht worden, das
niedrige Haftungsvermögen zwischen Oberflächen aus PTFE, die
eine niedrige Oberflächenenergie aufweisen, ist aber
problematisch gewesen.
Obwohl umfängliche Untersuchungen zur Modifizierung der
physikalischen Eigenschaften der Oberfläche fluorierter Harze
durch vielfältige Forschungsarbeiten unternommen worden sind,
sind diesbezüglich bis heute keine genügend guten Ergebnisse
erzielt worden.
In US 4 548 867 sind z. B. fluorierte Harzprodukte offenbart,
die verbesserte Oberflächeneigenschaften aufweisen, wie dies
durch entsprechende Steigerung der Benetzbarkeit,
Bedruckbarkeit und des Haftungsvermögens nach Behandlung der
fluorierten Harze mit einem Niedrigtemperaturplasma aus einem
organischen stickstoffhaltigen Gas belegt würde
US 4 946 903 offenbart eine Erfindung, wobei die
Oberflächenenergie fluorierter Harze mittels RF
(Radiofrenquenz)-Entladung erhöht wird, wobei Fluor auf der
Oberfläche durch Wasserstoff oder Sauerstoff substituiert
wird. Die gemäß der obigen Patente hergestellten fluorierten
Harze haben jedoch ein ausreichendes Eigenschaftsniveau
bezüglich der Benetzbarkeit nicht erreicht.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, fluorierte
Harze bereitzustellen, die eine erhöhte Oberflächenrauigkeit
bei Bildung dünner Filme aus einer hydrophilen Substanz
aufweisen, um hohe Benetzbarkeit zu erhalten und Hydrophilie
sogar nach verlängertem Ausgesetztsein an die Atmosphäre
beibehalten.
Durch die vorliegende Erfindung werden fluorierte Harze
bereitgestellt, die eine hohe Benetzbarkeit aufweisen, und
zwar durch Erhöhung des Mittellinien-
Rauigkeitsdurchschnittswertes der fluorierten Harzoberfläche
auf mehr als 0,1 µm und durch Bildung eines hydrophilen
dünnen Films auf der Oberfläche mit erhöhter Rauigkeit, wobei
der Mittellinien-Rauigkeitsdurchschnittswert von größer als
0,1 µm beibehalten bleibt.
Fig. 1 ist eine Rasterelektronenmikroskop-Fotografie einer
Polytetrafluorethylen(PTFE)-Oberfläche nach Behandlung der
Oberfläche mit einem Ionenstrahl zur Erhöhung der
Oberflächenrauigkeit.
Fig. 2 ist eine Rasterelektronenmikroskop-Fotografie einer
fluorierten Ethylenpropylen(FEP)-Copolymer-Oberfläche nach
Behandlung der Oberfläche mit einem Ionenstrahl zur Erhöhung
der Oberflächenrauigkeit.
Fig. 3 ist eine Rasterelektronenmikroskop-Fotografie einer
Perfluoralkylvinylether(PFA)-Copolymer-Oberfläche nach
Behandlung der Oberfläche mit einem Ionenstrahl zur Erhöhung
der Oberflächenrauigkeit.
Fig. 4 ist ein Diagramm, worin die Änderung des
Kontaktwinkels von Wasser zu eine hydrophile Oberfläche
aufweisendem PTFE gegen die Zeit aufgetragen ist.
Die Oberflächenrauigkeit fluorierter Harze übt einen
signifikanten Effekt auf die überlegene Benetzbarkeit einer
Oberfläche aus und spielt eine wichtige Rolle zur
Verbesserung des Haftungsvermögens fluorierter Harze und auf
deren Oberfläche gebildeter hydrophiler Dünnfilme.
Demnach erfolgt in der vorliegenden Erfindung die Bildung
hydrophiler Dünnfilme zur Steigerung der Benetzbarkeit der
fluorieren Harze. Bevor dies aber eintritt, wird die
Oberflächenrauigkeit erhöht, und diesbezüglich ist ein Wert
von über 0,1 µm Mittellinien-Rauigkeitsdurchschnittswert der
obigen fluorierten Harze bevorzugt. Darüber hinaus ist es
besonders bevorzugt, einen Mittellinien-Rauigkeitsdurch
schnittswert der fluorierten Harze von 0,13 µm zu erhalten.
In diesem Zusammenhang bedeutet der Mittellinien-
Rauigkeitsdurchschnittswert (nachfolgend bezeichnet als Ra)
eine als numerischer Wert ausgedrückte Oberflächenrauigkeit,
die wie folgt definiert ist:
N: Probenzahl
Xi: Oberflächenhöhe
Xa: Durchschnittsoberflächenhöhe
Xi: Oberflächenhöhe
Xa: Durchschnittsoberflächenhöhe
Demnach zeigt eine Erhöhung von Ra eine Erhöhung der
Oberflächenrauigkeit an. Zur derartigen Erhöhung der
Oberflächenrauigkeit werden physikalische Verfahren wie
Plasmaätzung, Ionenstrahlätzung, Korona-Behandlung,
Flammbehandlung und Oberflächenpolierung oder ein chemisches
Ätzverfahren unter Verwendung von Chemikalien angewandt.
Nach Erhöhung der Oberflächenrauigkeit durch die obigen
Verfahren wird die Bildung eines dünnen Films aus hydrophilen
Substanzen durchgeführt.
Diesbezüglich bedeutet der Begriff Hydrophilie die Neigung
bzw. Tendenz, eine starke Affinität zu Wasser aufzuweisen.
Somit ist im Falle von Feststoffen deren Kontaktwinkel mit
bzw. zu Wasser ziemlich klein.
In der vorliegenden Erfindung ist es zur Bildung dünner Filme
ratsam, die hydrophilen Substanzen aus Metallen,
Keramikmaterialien und hydrophilen Polymeren sowie aus deren
Mischungen oder Kompounds auszuwählen, von denen alle einen
Kontaktwinkel zu Wasser von weniger als 90° aufweisen.
Verfahren wie Plasmapolymerisation, Ionenstrahlabscheidung,
Spritzabscheidung, Elektronenstrahlabscheidung und chemische
Dampfabscheidung oder plasmaverstärkte chemische
Dampfabscheidung können zur Bildung eines dünnen Films
(Dünnfilms) auf den Oberflächen der fluorierten Harze
angewandt werden.
Diesbezüglich führt die Bildung einer dickeren Filmschicht
zum Absinken der geometrischen Oberflächenrauigkeit der
Harzoberfläche, wogegen die Bildung einer extrem dünnen
Filmschicht eine nur geringe Benetzbarkeit wegen
unzureichender Bedeckung der Oberflächen mit einem solchen
Dünnfilm ergibt. Somit muss die hydrophile dünne Filmschicht
so gebildet werden, daß Ra größer als 0,1 µm auch nach der
Bildung des hydrophilen Dünnfilms ist.
Infolge der oben beschriebenen Maßnahme zur Erhöhung der
Oberflächenrauigkeit ist die Benetzbarkeit des dünnen Films,
der dann auf der fluorierten Harzoberflächen ausgebildet
wird, überlegen gegenüber der Benetzbarkeit eines allgemeinen
hydrophilen dünnen Films, und zwar wegen der verbesserten
Benetzbarkeit als Ergebnis geometrischer Effekte auf die
Oberfläche, welche ihrerseits durch die Bildung des
hydrophilen dünnen Films herbeigeführt werden, wobei die
Oberflächenrauigkeit der fluorierten Harze beibehalten
bleibt. Insbesondere gilt, daß Kontalctwinkel für Substanzen
mit Kontaktwinkeln zu Wasser von weniger als 90° in dem Maße.
absinken, wie die Oberflächenrauigkeit ansteigt, und
Kontaktwinkel für Substanzen mit Kontaktwinkeln zu Wasser von
größer als 90° in dem Maße ansteigen, wie die
Oberflächenrauigkeit ansteigt. Durch Anwendung eines solchen
Phänomens ergeben sich fluorierte Harze mit überlegener
Benetzbarkeit aus einer Erhöhung der geometrischen Rauigkeit
und der anschließenden Bildung hydrophiler dünner Filme auf
der Oberfläche, auf der die Dicke der hydrophilen Dünnfilme
so angepasst ist, daß sie die Oberflächenrauigkeit stützt.
Während Wasser-Kontaktwinkel für herkömmliche fluorierte
Harze 100 bis 140° betragen, beträgt der Wasser-Kontaktwinkel
für fluorierte Harze gemäß der vorliegenden Erfindung mit
einem darauf ausgebildeten hydrophilen Dünnfilms 0°, was eine
sehr hohe Benetzbarkeit anzeigt. Ausserdem gibt es keinen
Hinweis auf ein entsprechendes Absinken der Benetzbarkeit,
bei Ausgesetztsein an die Atmosphäre im Zeitablauf (siehe
Fig. 4).
Ferner können, gemäß der vorliegenden Erfindung,
Oberflächenrauigkeit und Typen der hydrophilen Dünnfilme
modifiziert werden, um den Grad der Benetzbarkeit der
Oberflächen der fluorierten Harze zu steuern, weil er ja
dadurch bewerkstelligt wird.
Im folgenden werden Beispiele angegeben, um die Erfindung in
weiterem Detail zu erläutern, welche jedoch in keiner Weise
den Rahmen der Erfindung einschränken.
3 cm × 4 cm × 0,02 cm Polytetrafluorethylen (PTFE) wurde in
ein Ultraschallgerät, enthaltend Isopropylalkohol, getaucht
und 1 h lang gereinigt, bevor es gründlich mit Stickstoffgas
getrocknet wurde.
Das PTFE, das gereinigt und getrocknet worden war, wurde in
eine Ionenstrahl-Behandlungskammer gegeben, die dann auf
einen Druck von 10-5 Torr mit einer Vakuumpumpe evakuiert
wurde. Die PTFE-Oberfläche wurde mit einem 200 eV Argon-
Ionenstrahl in einer Menge von 5 × 107 Einheiten/cm2
Ionenstrahlmittel bestrahlt, um eine PTFE-Probe mit erhöhter
Oberflächenrauigkeit zu erzeugen.
Die PTFE-Probe mit erhöhter Oberflächenrauigkeit wurde dann
in eine Plasmakammer gegeben, die dann mit einer Vakuumpumpe
auf einen Druck von 10-4 Torr evakuiert wurde. Durch einen
Gas-Einlaß wurde Argongas in die Kammer mit einer gesteuerten
Geschwindigkeit geleitet, um einen konstanten Druck von 100
mTorr zu ergeben, und es wurde dann ein Argon-Plasma als
Ergebnis der Aufbringung einer RF-Elektroenergie von 100 W
auf die Elektrode erzeugt, auf deren Spitze das PTFE gelegt
wurde. Mit einem Mischungsverhältnis von 1 : 5 wurden dann
Tetraethoxysilan(TEOS)- und Sauerstoffgase in die Kammer
durch den Gas-Einlaß eingeleitet und mit Argon bei einem
konstanten Innendruck von 120 mTorr vermischt. Ein
plasmaverstärktes chemisches Dampfabscheidungs(PECVD)-
Verfahren wurde durchgeführt, um auf diese Weise eine
Filmdicke von 15 nm zu erhalten.
Wie oben beschrieben, wurde durch die Betriebsbedingungen der
Ionenstrahlätzung die PTFE-Probe mit der erhöhten
Oberflächenrauigkeit und dem neu gebildeten hydrophilen
Dünnfilm auf Basis von Silizium mit einer Dicke von 15 nm auf
ihrer Oberfläche hergestellt.
Die PTFE-Probe wurde mit der gleichen Verfahrensweise wie in
Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, daß die PTFE-
Oberfläche mit einem 600 eV Argon-Ionenstrahl in einer Menge
von 1017 Einheiten/cm2 Ionenstrahlmittel bestrahlt und ein
Dünnfilm mit einer Dicke von 45 nm gebildet wurden.
Die PTFE-Probe wurde mit der gleichen Verfahrensweise wie in
Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, daß die PTFE-
Oberfläche mit einem 1000 eV Argon-Ionenstrahl in einer Menge
von 1017 Einheiten/cm2 Ionenstrahlmittel bestrahlt und ein
Dünnfilm mit einer Dicke von 90 nm gebildet wurden.
Die PTFE-Probe wurde mit der gleichen Verfahrensweise wie in
Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, daß mit einem 1000 eV
Argon-Ionenstrahl in einer Menge von 1018 Einheiten/cm2
Ionenstrahlmittel bestrahlt und ein Dünnfilm mit einer Dicke
von 400 nm gebildet wurden.
3 cm × 4 cm × 0,02 cm PTFE wurde in ein Ultraschallgerät,
enthaltend Isopropylalkohol, getaucht und 1 h lang gereinigt,
bevor es gründlich mit Stickstoffgas getrocknet wurde.
Das PTFE, das gereinigt und getrocknet worden war, wurde in
eine Plasmakammer gegeben, die dann mit einer Vakuumpumpe auf
einen Druck von 10-4 Torr evakuiert wurde. Durch einen Gas-
Einlaß wurde Sauerstoffgas in die Kammer mit einer
gesteuerten Geschwindigkeit geleitet, um einen konstanten
Druck von 30 mTorr zu ergeben, worauf ein Sauerstoff-Plasma
als Ergebnis der Aufbringung einer RF-Elektroenergie von 60 W
auf die Elektrode erzeugt wurde, auf deren Spitze das PTFE
gelegt wurde. Das neu erzeugte Sauerstoff-Plasma wurde auf
die Oberfläche des PTFE 3 min lang geätzt, und als Ergebnis
wurde eine PTFE-Probe mit erhöhter Oberflächenrauigkeit
erhalten.
Die obige PTFE-Probe mit der erhöhten Oberflächenrauigkeit
wurde in eine Spritzkammer gegeben, die dann mit einer
Vakuumpumpe auf einen Druck von 10-6 Torr evakuiert wurde.
Durch den Gas-Einlaß wurde Argongas in die Kammer mit einer
gesteuerten Geschwindigkeit geleitet, um einen konstanten
Druck von 5 × 10-3 Torr zu ergeben. RF-Spritzen wurde
initiiert, indem eine RF-Elektroenergie von 300 W auf die
Elektrode aufgebracht wurde, auf deren Spitze das SiO2-
Spritzziel gelegt wurde. Es wurde bis zu einer Dicke der auf
die PTFE-Oberfläche aufgebrachten SiO2-Schicht von 30 nm
mittels Rotation der auf dem Substrat angebrachten PTFE-Probe
mit einer Geschwindigkeit von 10 Upm gespritzt, um eine
einheitliche Dicke des abgeschiedenen Dünnfilms zu erhalten.
Durch die Betriebsbedingungen der obigen Ätzung im
Sauerstoffplasma wurde die PTFE-Probe mit der erhöhten
Oberflächenrauigkeit und dem neu gebildeten hydrophilen
Dünnfilm auf Basis von Silizium mit einer Dicke von 30 nm auf
ihrer Oberfläche hergestellt.
Die PTFE-Probe mit einer SiO2-Dicke von 50 nm wurde mit dem
gleichen Verfahren wie in Beispiel 5 hergestellt, mit der
Ausnahme, daß die PTFE-Oberfläche mit: dem Sauerstoff-Plasma
30 min lang geätzt und die PTFE-Probe mit der erhöhten
Oberflächenrauigkeit und einer SiO2-Dicke von 50 nm mit dem
RF-Spritzen erzeugt wurden.
3 cm × 4 cm × 0,02 cm PTFE wurden in ein Ultraschallgerät,
enthaltend Isopropylalkohol, gegeben und 1 h lang gereinigt,
bevor es gründlich mit Stickstoffgas getrocknet wurde.
Mit Sandpapier (#220, #400, #2000) wurde das PTFE dann
gerieben, um eine rauere Oberfläche zu erhalten und dadurch
die PTFE-Probe mit erhöhter Oberflächenrauigkeit zu erzeugen.
Die PTFE-Probe mit der erhöhten Oberflächenrauhigkeit wurde
in eine Plasmakammer gegeben, die dann mit einer Vakuumpumpe
auf einen Druck von 10-4 Torr evakuiert wurde. Durch einen
Gas-Einlaß wurde Argongas in die Kammer mit einer gesteuerten
Geschwindigkeit geleitet, um einen konstanten Druck von 100
mTorr zu ergeben, und es wurde dann Argon-Plasma als Ergebnis
der Aufbringung einer RF-Elektroenergie von 100 W auf die
Elektrode erzeugt, auf deren Spitze das PTFE gelegt wurde.
Mit einem Mischungsverhältnis von 1 : 5 wurden dann
Hexamethyldisiloxan- und Sauerstoffgase in die Kammer durch
den Gas-Einlaß geleitet und mit Argon bei einem konstanten
Innendruck von 120 mTorr vermischt. Ein plasmaverstärktes
chemisches Dampfabscheidungsverfahren wurde durchgeführt, um
einen Dünnfilm mit einer Dicke von 1000 nm zu erhalten.
Durch die Verfahrensbedingungen der obigen Oberflächenpo
lierung wurde die PTFE-Probe mit erhöhter Oberflächenrau
igkeit und dem neu gebildeten hydrophilen Dünnfilm auf Basis
von Silizium mit einer Dicke von 1000 nm auf ihrer Oberfläche
hergestellt.
Eine fluorierte Ethylenpropylen(FEP)-Probe wurde mit dem
gleichen Verfahren wie in Beispiel 3 hergestellt, mit der
Ausnahme, daß ein FEP-Copolymer eingesetzt wurde.
Eine Perfluoralkylvinylether(PFA)polymer-Probe wurde mit dem
gleichen Verfahren wie in Beispiel 3 hergestellt, mit der
Ausnahme, daß PFA eingesetzt wurde.
Die oben beschriebenen Beispiele von Oberflächenrauigkeits
modifikationen fluorierter Harze sind in Fig. 1 bis 3
gezeigt.
Nach Eintauchen eines 3 cm × 4 cm × 0,02 cm PTFE in ein
Ultraschallgerät, enthaltend Isopropylalkohol, und nach
Reinigen 1 h lang, bevor mit Stickstoffgas getrocknet wurde,
wurde als Ergebnis die entsprechende PTFE-Probe hergestellt.
Die entsprechende Probe wurde mit dem gleichen Verfahren wie
in Vgl.Bsp. 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß ein FEP-
Copolymer eingesetzt wurde.
Die entsprechende Probe wurde mit dem gleichen Verfahren wie
in Vgl.Bsp. 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß ein PFA-
Polymer eingesetzt wurde.
Die PTFE-Probe aus Vgl.Bsp. 1 wurde in eine
Ionenstrahlbehandlungskammer gegeben, die dann mit einer
Vakuumpumpe auf einen Druck von 10-5 Torr evakuiert wurde.
Nachdem die PTFE-Oberfläche durch deren Bestrahlung mit einem
Argon-Ionenstrahl von 1000 eV in einer Menge von 1017
Einheiten/cm2 Ionenstrahlmittel geätzt worden war, wurde Luft
in die Kammer eingeleitet, und es wurde die PTFE-Probe mit
einer erhöhten Oberflächenrauigkeit als Ergebnis hergestellt.
Die PTFE-Probe aus Vgl.Bsp. 1 wurde in eine
Ionenstrahlbehandlungskammer gegeben, die dann mit einer
Vakuumpumpe auf einen Druck von 10-5 Torr evakuiert wurde.
Nach Ätzung der PTFE-Oberfläche durch deren Bestrahlung mit
einem Argon-Ionenstrahl von 1000 eV in einer Menge von 1018
Einheiten/cm2 Ionenstrahlmittel wurde Luft in die Kammer
geleitet, und es wurde die PTFE-Probe mit einer erhöhten
Oberflächenrauigkeit als Ergebnis hergestellt.
3 cm × 4 cm × 0,02 cm PTFE wurde in ein Ultraschallgerät,
enthaltend Isopropylalkohol, getaucht und 1 h lang gereinigt,
bevor es gründlich mit Stickstoffgas getrocknet wurde.
Die PTFE-Probe wurde dann in eine Plasmakammer gegeben, die
dann mit einer Vakuumpumpe auf einen Druck von 10-4 Torr
evakuiert wurde. Durch den Gas-Einlaß wurde Sauerstoffgas in
die Kammer mit einer gesteuerten Geschwindigkeit geleitet, um
einen konstanten Druck von 30 mTorr zu ergeben, und es wurde
dann ein Sauerstoff-Plasma als Ergebnis der Aufbringung einer
RF-Elektroenergie von 60 W auf die Elektrode erzeugt, auf
deren Spitze das PTFE gelegt wurde. Das neu erzeugte
Sauerstoff-Plasma wurde auf die Oberfläche des PTFE 30 min
lang geätzt, um die PTFE-Probe mit einer erhöhten
Oberflächenrauigkeit herzustellen.
3 cm × 4 cm × 0,02 cm PTFE wurde in ein Ultraschallgerät,
enthaltend Isopropylalkohol, getaucht und 1 h lang gereinigt,
bevor es gründlich mit Stickstoffgas getrocknet wurde.
Mit Sandpapier (#220, #400, #2000) wurde das PTFE gerieben,
um eine rauere Oberfläche zu erhalten und dadurch die PTFE-
Probe mit einer erhöhten Oberflächenrauigkeit zu erzeugen.
Die PTFE-Probe aus Vergleichsbeispiel 1 wurde in eine
Plasmakammer gegeben, die dann mit einer Vakuumpumpe auf
einen Druck von 10-4 Torr evakuiert wurde. Durch den Gas-
Einlaß wurde Argongas in die Kammer mit einer gesteuerten
Geschwindigkeit geleitet, um einen konstanten Druck von 100
mTorr zu ergeben, und es wurde dann ein Argon-Plasma als
Ergebnis der Aufbringung einer RF-Elektroenergie von 100 W
auf die Elektrode erzeugt, auf deren Spitze das PTFE gelegt
wurde. Mit einem Mischungsverhältnis von 1 : 5 wurden
Tetraethoxysilan- und Sauerstoffgase dann in die Kammer durch
den Gas-Einlaß geleitet und mit Argon bei einem konstanten
Innendruck von 120 mTorr vermischt. Ein plasmaverstärktes
chemisches Dampfabscheidungsverfahren wurde durchgeführt, um
das PTFE mit einem hydrophilen Film mit einer Dicke von 15 nm
zu erhalten, ohne vorab die Oberflächenrauigkeit erhöht zu
haben.
Die entsprechende PTFE-Probe wurde mit dem gleichen Verfahren
wie in Beispiel 1 erhalten, mit der Ausnahme, daß ein
hydrophiler Dünnfilm mit einer Dicke von 200 nm gebildet
wurde.
Mit einem Kraftfeld-
Mikroskop (AFM) (Kernkraftfeld-Mikroskop) wurde die
Oberflächenrauigkeit einer jeden aus den Beispielen 1 bis 9
und den Vergleichsbeispielen 1 bis 9 hergestellten Probe im
Bereich von 10 µm × 10 µm gemessen. In Tabelle 1 sind die
Messergebnisse der Oberflächenrauigkeit der fluorierten Harze
vor der Oberflächenbehandlung, die Oberflächenrauhigkeit nach
der Oberflächenbehandlung zur Steigerung der
Oberflächenrauigkeit und die Oberflächenrauigkeit nach der
Abscheidung des hydrophilen Dünnfilms auf den fluorierten
Harzoberflächen mit der erhöhten Oberflächenrauigkeit
angegeben.
Mit dem CAM-Film-Modell, hergestellt
von Tantec Co., wurden die Kontaktwinkel von aus Beispielen 1
bis 9 und Vgl.Bsp. 1 bis 9 hergestellten PTFE-, FEP- und PFA-
Polymer-Proben gegenüber Wasser 24 h nach deren Herstellung
gemessen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 angegeben.
Ein Silicon-Klebemittel wurde auf 2
Probenstücke aus Beispiel 3 (mit der Maßgabe, daß die Größe
des Testspecimen 5 mm × 60 mm beträgt.) und aus Vgl.Bsp. 1
(mit der Maßgabe, daß die Größe des Testspecimen 5 mm × 60 mm
beträgt) aufgebracht. Nach Härtung des Klebemittels bei 60°C
in einem Ofen 24 h lang wurde die Haftungsstärke mit einem
Spannungstestgerät bestimmt. Das verwendete Klebemittel war
Silicone Adhesive 732 von Dow Cornind Co. Die Testergebnisse
sind in der folgenden Tabelle 3 angegeben:
Wie in Tabelle 1 gezeigt, wurden für die Beispiele 1 bis 9
der vorliegenden Erfindung die Oberflächen der fluorierten
Harze so behandelt, daß Ra größer als 0,1 µm wurde, und es
wurde dann der hydrophile Dünnfilm so abgeschieden, daß die
geometrischen Strukturen der Oberflächen beibehalten blieben
und dadurch der Endwert von Ra ebenfalls größer als 0,1 µm
wurde.
In den Fällen von Beispielen 1 bis 9, in denen Ra größer als
0,1 µm ist, wie in Tabelle 2 gezeigt, wurde bestätigt, daß
die Kontaktwinkel gegenüber Wasser weniger als 20° betrugen.
Im Gegensatz dazu, erwiesen sich in den Fällen der
Vergleichsbeispiele 1 bis 3, in denen eine
Oberflächenbehandlung und die Abscheidung eines hydrophilen
Dünnfilms nicht erfolgten, die Kontaktwinkel gegenüber Wasser
als größer als 100°. Darüber hinaus erhöhten sich in den
Vergleichsbeispielen 4 bis 7, in denen es nur eine Erhöhung
der Oberflächenrauigkeit gab, die jeweiligen Kontaktwinkel
gegenüber Wasser gegenüber denjenigen der Vergleichsbeispiele
1 bis 3 drastisch.
Ausserdem war der Wasser-Kontaktwinkel, obwohl dieser für
Vergleichsbeispiel 8, worin die Abscheidung eines hydrophilen
Dünnfilms erfolgte, ohne vorher die Oberflächenrauigkeit zu
erhöhen, niedriger als diejenigen in den Vergleichsbeispielen
1 bis 7 war, immer noch größer als der Wasser-Kontaktwinkel
für die Beispiele 1 bis 9.
Bezüglich Vergleichsbeispiel, worin der Ra-Wert der
Oberfläche 0,13 µm nach der Oberflächenbehandlung betrug,
ergab sich wegen der Bildung eines dicken hydrophilen
Dünnfilms ein Absinken bei der endgültigen
Oberflächenrauigkeit, und der entsprechende Wasser-
Kontaktwinkel war größer als diejenigen für die Beispiele 1
bis 9.
Wie durch diese Ergebnisse aufgezeigt, ist ein
Oberflächenverhalten mit hoher Benetzbarkeit erhältlich,
indem die Oberflächenrauigkeit erhöht und der hydrophile
Dünnfilm auf der Oberfläche abgeschieden werden. Ferner
bleibt, auch nach der Abscheidung des hydrophilen Dünnfilms,
der Wert von Ra oberhalb 0,1 µm als Kriterium beibehalten.
Ferner weist, wie in Tabelle 3 gezeigt, das fluorierte Harz
von Beispiel 3 mit hoher Benetzbarkeit, verglichen mit dem
von Vergleichsbeispiel 1, ein überlegenes
Oberflächenhaftungsvermögen auf.
Fluorierte Harze der vorliegenden Erfindung, die
Oberflächeneigenschaften einer hohen Benetzbarkeit und einer
Befähigung zur Beibehaltung hoher Hydrophilie sogar bei
verlängertem Ausgesetztsein an die Atmosphäre aufweisen,
können auf einem Gebiet, das Biokompatibilität erforderlich
macht, und auf verschiedenen weiteren Gebieten, angewandt
werden, die den Einsatz permeabler Membranen oder Filter
einschließen.
Claims (6)
1. Fluoriertes Harz, das hohe Benetzbarkeit aufweist,
dadurch gekennzeichnet, daß der Mittellinien-
Rauigkeitsdurchschnittswert (Ra) der fluorierten
Harzoberfläche auf mehr als 0,1 µm erhöht und ein
hydrophiler Dünnfilm auf der Oberfläche mit der
erhöhten Rauigkeit gebildet sind, wobei ein
Mittellinien-Rauigkeitsdurchschnittswert (Ra) von
größer als 0,1 µm beibehalten bleibt.
2. Fluoriertes Harz gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das fluorierte Harz einen Wasser-
Kontaktwinkel von weniger als 20° nach der Erhöhung
der Oberflächenrauigkeit und der Bildung des
hydrophilen Dünnfilms auf der Oberfläche davon
aufweist.
3. Fluoriertes Harz gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß Verfahren zur Erhöhung der
Oberflächenrauigkeit ein physikalisches Verfahren wie
Plasmaätzung, Ionenstrahlätzung, Korona-Behandlung,
Flammbehandlung und Oberflächenpolieren oder ein
chemisches Verfahren wie chemische Ätzung mit
Chemikalien einschließen.
4. Fluoriertes Harz gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß Verfahren zur Bildung des
hydrophilen Dünnfilms eine Plasmapolymerisation,
Ionenstrahlabscheidung, Spritzabscheidung,
Elektronenstrahlabscheidung, chemische
Dampfabscheidung oder eine plasmaverstärkte chemische
Dampfabscheidung einschließen.
5. Fluoriertes Harz gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß es einen hydrophilen Dünnfilm aus
Metallen, Keramiken und aus hydrophilen Polymeren
sowie aus deren Mischungen oder Kompounds aufweist,
von denen alle einen Kontaktwinkel zu Wasser von
weniger als 90° aufweisen.
6. Gegenstand, hergestellt mit dem fluorierten Harz
gemäß Anspruch 1.
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