DE19952932C1 - LED-Weißlichtquelle mit breitbandiger Anregung - Google Patents
LED-Weißlichtquelle mit breitbandiger AnregungInfo
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Abstract
Eine Weißlichtquelle mit einer UV-/blau emittierenden Halbleiter-LED (1) und einer mit Phosphor-Partikeln (6) versehenen Umhüllungsmasse (5) wird mit mehreren lichtemittierenden Zonen versehen, die innerhalb einer Schichtstruktur auf einem gemeinsamen Substrat (10; 20) aufgebracht sind, wobei die Emissionsmaxima der lichtemittierenden Zonen durch unterschiedliche Wahl der Zusammensetzung oder der Schichtdicke des Halbleitermaterials energetisch gegeneinander verstimmt sind.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine LED-Weißlichtquelle
nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Insbesondere be
trifft die vorliegende Erfindung eine LED-Weißlichtquelle mit
einer Halbleiter-LED auf der Basis von GaN oder InGaN, die
zumindest teilweise von einer Umhüllung aus einem transparen
ten Material umgeben ist, in welchem eine Konvertersubstanz
zur mindestens teilweisen Wellenlängenkonversion des von der
LED emittierten Lichts enthalten ist, wobei die LED eine
Mehrzahl von lichtemittierenden Zonen aufweist, durch die ein
relativ breitbandiges Lichtemissionsspektrum energetisch
oberhalb des Emissionsspektrums der Konvertersubstanz erzeugt
wird.
Ein derartiges Bauelement ist beispielsweise aus der Offenle
gungsschrift DE 38 04 293 A1 bekannt. Darin ist eine Anord
nung mit einer Elektrolumineszenz- oder Laserdiode beschrie
ben, bei der das von der Diode abgestrahlte Emissionsspektrum
mittels eines mit einem phosphoreszierenden, lichtwandelnden
organischen Farbstoff versetzten Elements aus Kunststoff zu
größeren Wellenlängen hin verschoben wird. Das von der Anord
nung abgestrahlte Licht weist dadurch eine andere Farbe auf
als das von der Leuchtdiode ausgesandte Licht. Abhängig von
der Art des dem Kunststoff beigefügten Farbstoffes lassen
sich mit ein und demselben Leuchtdiodentyp Leuchtdiodenanord
nungen herstellen, die in unterschiedlichen Farben leuchten.
In vielen potentiellen Anwendungsgebieten für Leuchtdioden,
wie z. B. bei Anzeigeelementen im Kfz-Armaturenbereich, Be
leuchtung in Flugzeugen und Autos und bei vollfarbtauglichen
LED-Displays, tritt verstärkt die Forderung nach Leucht
diodenanordnungen auf, mit denen sich mischfarbiges Licht,
insbesondere weißes Licht, erzeugen läßt.
In der WO 98/12757 A1 ist eine wellenlängenkonvertierende
Vergußmasse für ein elektrolumineszierendes Bauelement mit
einem ultraviolettes, blaues oder grünes Licht aussendenden
Körper auf der Basis eines transparenten Epoxidharzes be
schrieben, das mit einem Leuchtstoff, insbesondere mit einem
anorganischen Leuchtstoffpigmentpulver mit Leuchtstoffpigmen
ten aus der Gruppe der Phosphore, versetzt ist. Als bevorzug
tes Ausführungsbeispiel wird eine Weißlichtquelle
mit einer strahlungsemittierenden Halbleiter-LED
auf der Basis von GaN, GaInN, GaAlN oder GaInAlN mit einem
Emissionsmaximum zwischen 420 nm und 460 nm und einem Leucht
stoff beschrieben, der so gewählt ist, daß eine von dem Halb
leiterkörper ausgesandte blaue Strahlung in komplementäre
Wellenlängenbereiche, insbesondere blau und gelb, oder zu ad
ditiven Farbtripeln, z. B. blau, grün und rot, umgewandelt
wird. Hierbei wird das gelbe bzw. das grüne und rote Licht
von den Leuchtstoffen erzeugt. Der Farbton (Farbort in der
CIE-Farbtafel) des solchermaßen erzeugten weißen Lichts kann
dabei durch geeignete Wahl des oder der Leuchtstoffe hin
sichtlich Mischung und Konzentration variiert werden.
Ebenso offenbart die WO 98/54929 A2 ein sichtbares Licht
emittierendes Halbleiterbauelement mit einer UV-/Blau-LED,
welche in einer Vertiefung eines Trägerkörpers angeordnet
ist, deren Oberfläche eine lichtreflektierende Schicht auf
weist und mit einem transparenten Material gefüllt ist, wel
ches die LED an ihren Lichtaustrittsseiten umgibt. Zur Ver
besserung der Lichtauskopplung weist das transparente Materi
al einen Brechungsindex auf, der niedriger als der Brechungs
index der lichtaktiven Region der LED ist.
In der US 5,851,905 A und in der JP 0100022525 A ist jeweils ein
LED-Chip mit gestapelten Quantentöpfen beschrieben, die der
art verschiedene Emissionswellenlängen aufweisen, dass der
Chip weißes Licht aussendet.
Die bisher bekannten Weißlichtquellen der beschriebenen Art
weisen jedoch den Nachteil auf, daß die spektrale Lichtemis
sionskurve der Weißlichtquellen noch nicht optimal ist, so
daß der physiologisch-optische Eindruck einer Weißlichtquelle
vielfach nicht hinreichend gegeben ist. Dies liegt nicht etwa
an den verwendeten Leuchtstoffen als vielmehr daran, daß bei
der Wellenlängenkonversion der energetische Abstand zwischen
absorbiertem Photon und emittiertem Photon nicht beliebig
verkleinert werden kann. Aus diesem Grund entsteht ein spek
trales Loch in der Emissionskurve. In Fig. 3 ist die spektra
le Emissionskurve einer von der Firma Hewlett-Packard kommer
ziell erhältlichen Weißlichtquelle mit der Produktbezeichnung
HLMP-CW15/16 dargestellt, welche eine InGaN-LED und eine Ver
gußmasse mit roten und grünen Phosphorpartikeln verwendet. In
der Emissionskurve ist das Emissionsmaximum der LED mit A be
zeichnet, während die Emissionsmaxima des Leuchtstoffs mit B1
und B2 bezeichnet sind. Ein derartiges Emissionsspektrum
kommt regelmäßig dadurch zustande, daß von der von der LED
emittierten Lichtstrahlung stets nur ein Anteil in dem Kon
versionsmaterial absorbiert und in Licht größerer Wellenlänge
konvertiert wird. Durch den physikalisch bedingten energeti
schen Abstand zwischen A und B1 entsteht das spektrale Loch,
durch welches der Blauanteil des Spektrums signifikant redu
ziert ist.
Dieses Problem könnte durch Anordnung eines zusätzlichen LED-
Bauelements mit einem Emissionsmaximum im blauen Wellenlän
genbereich gelöst werden. Diese Lösung ist jedoch unbefriedi
gend, da sie mit einem erheblichen Mehraufwand an Material
und Fertigungszeit verbunden ist, da nicht nur ein weiteres
Halbleiterbauelement hergestellt werden muß, sondern in der
zu fertigenden Weißlichtquelle eigens kontaktiert und ver
drahtet werden muß.
Es ist dementsprechend Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine Weißlichtquelle der beschriebenen Art derart weiterzu
bilden, daß das von ihr emittierte Lichtspektrum im Sinne ei
nes verbesserten optisch-physiologischen Weißlicht-Eindrucks
verbessert wird. Insbesondere ist es Aufgabe der vorliegenden
Erfindung, eine verbesserte Weißlichtquelle anzugeben, bei
der das emittierte Lichtspektrum einen möglichst gleichmäßi
gen Intensitätsverlauf aufweist.
Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale des
Patentanspruchs 1 gelöst.
Dementsprechend beschreibt die vorliegende Erfindung eine
Weißlichtquelle mit einer Halbleiter-LED, eine die LED zumin
dest teilweise umgebenden Umhüllung aus einem transparenten
Material, in welchem eine Konvertersubstanz zur mindestens
teilweisen Wellenlängenkonversion des von der LED emittierten
Lichts enthalten ist, wobei die LED mindestens zwei licht
emittierende Zonen aufweist, die derart geformt sind, daß die
Maxima ihrer Emissionsspektren energetisch gegeneinander ver
stimmt sind und oberhalb des Emissionsspektrums der Konver
tersubstanz liegen, und die ferner in einer Hauptabstrahl
richtung der LED derart hintereinander angeordnet sind, daß
die Photonenenergie des Emissionsmaximums in Richtung auf die
Lichtaustrittsseite zunimmt.
Durch diese Reihenfolge der lichtemittierenden Zonen wird
verhindert, daß in den kurzwellig emittierenden Zonen die
langwelligeren Photonen wieder absorbiert werden. Durch die
Erfindung wird somit das bei Weißlichtquellen gemäß dem Stand
der Technik vorhandene spektrale Loch gefüllt. Dies kann
durch eine einzige zusätzliche lichtemittierende Zone oder
auch durch eine größere Anzahl zusätzlicher lichtemittieren
der Zonen herbeigeführt werden, die sich energetisch oberhalb
des ersten Emissionsmaximums der Konvertersubstanz an dieses
anschließen. Die lichtemittierenden Zonen sind auf einem ge
meinsamen Substrat und zwischen zwei äußeren elektrischen
Kontaktschichten angeordnet, so daß sie mit einer gemeinsamen
Spannungsquelle verbunden werden können.
In einer ersten Ausführungsform weist die LED genau einen
pn-Übergang auf und die lichtemittierenden Zonen sind durch
eine entsprechende Anzahl von Ein- oder Mehrfach-Quantentrog
schichten unterschiedlicher Dicke und/oder unterschiedlicher
Materialzusammensetzung geformt. Die energetische Verschie
bung zwischen den Emissionsmaxima ergibt sich in dieser Aus
führungsform aus der Verschiebung des untersten Leitungsban
des und des obersten Valenzbandes bei Variation der Dicke
und/oder der Materialzusammensetzung in den Quantentrog
schichten. In dem einfachsten denkbaren Ausführungsbeispiel
sind zwei lichtemittierende Zonen dadurch gebildet, daß zwei
Einfach-Quantentrogschichten aus InGaN unterschiedlicher Dic
ke und/oder unterschiedlicher Indium-Konzentration jeweils
zwischen zwei Schichten mit größerem Bandabstand eingebettet
und hintereinander angeordnet sind.
In einer zweiten Ausführungsform sind die lichtemittierenden
Zonen der LED durch eine entsprechende Anzahl von pn-Über
gängen gebildet. Dabei können die pn-Übergänge aus Volumenma
terial unterschiedlicher Materialzusammensetzung, d. h. bei
spielsweise unterschiedlichem Indium-Anteil in der Material
kombination InGaN, gebildet sein. Die pn-Übergänge können je
doch auch ihrerseits jeweils eine Ein- oder Mehrfach-Quanten
trogschicht enthalten und die Quantentrogschichten verschie
dener pn-Übergänge können dabei verschiedene Dicken und/oder
Materialzusammensetzungen aufweisen. Jeweils benachbarte pn-
Übergänge können in besonders einfacher Weise durch eine me
tallische Kontaktschicht, wie eine Lotschicht, miteinander
elektrisch verbunden sein. Es können jedoch die benachbarten
pn-Übergänge auch dadurch monolithisch integriert werden, in
dem sie durch extrem niederohmige np-Tunnelübergänge vonein
ander getrennt sind, die aus einer n+-dotierten Schicht und
einer unmittelbar angrenzenden p+-dotierten Schicht bestehen,
wobei die n+-dotierte Schicht sich an das n-Gebiet des einen
pn-Übergangs anschließt und die p+-dotierte Schicht sich an
das p-Gebiet des anderen pn-Übergangs anschließt, und die n+-
bzw. p+-Dotierungskonzentration derart gewählt ist, daß sich
im Betrieb ein relativ niedriger elektrischer Widerstand des
Tunnelübergangs ergibt. Diese Art des Verbindens zweier pn-
Übergänge ist an sich im Stand der Technik bekannt (z. B. von
der Ziel, et al., "Appl. Phys. Lett." 41, S. 500, 1982) und
soll daher an dieser Stelle nicht weiter erörtert werden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der zwei Ausführungs
formen in Verbindung mit den Zeichnungen näher erläutert. Es
zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht einer erfindungsgemäßen
Weißlichtquelle gemäß einer ersten Ausführungsform
mit vergrößert dargestelltem Halbleiterschichtauf
bau;
Fig. 2 eine Querschnittsansicht einer erfindungsgemäßen
Weißlichtquelle gemäß einer zweiten Ausführungsform
mit vergrößert dargestelltem Halbleiterschichtauf
bau;
Fig. 3 ein Emissionsspektrum einer konventionellen, kom
merziell erhältlichen Weißlichtquelle;
Fig. 4 ein Beispiel für ein Emissionsspektrum einer erfin
dungsgemäßen Weißlichtquelle.
In einer erfindungsgemäßen Weißlichtquelle gemäß Fig. 1 ist
eine UV-/blau emittierende Halbleiter-LED 1 mittels eines
elektrisch leitenden Verbindungsmittels, z. B. ein metalli
sches Lot oder ein leitfähiger Klebstoff wie Leitsilber mit
seinem Rückseitenkontakt auf einem ersten elektrischen An
schluß 2 befestigt. Der Vorderseitenkontakt ist mittels eines
Bonddrahtes 9 mit einem zweiten elektrischen Anschluß 3 ver
bunden.
Die freien Oberflächen der Halbleiter-LED 1 und Teilbereiche
der elektrischen Anschlüsse 2 und 3 sind unmittelbar von ei
ner gehärteten, wellenlängenkonvertierenden Vergußmasse 5 um
schlossen. Diese kann beispielsweise zu 80-90 Gew.-% aus
Epoxidharz bestehen und Leuchtstoffpartikel 6 aus YAG:Ce zu ≦
15 Gew.-% enthalten, wobei im übrigen weitere Bestandteile,
wie Haftvermittler, Verarbeitungshilfsmittel, Hydrophobier
mittel, mineralische Diffusoren sowie Thixotropiermittel,
enthalten sind.
Im rechten Teilbild der Fig. 1 ist der Halbleiterschichtauf
bau der LED 1 vergrößert und im Detail dargestellt. Auf einem
n-dotierten GaN-Substrat 10 werden durch ein Wachstumsverfah
ren, wie MOCVD (metallorganische Gasphasenepitaxie) oder MBE
(Molekularstrahlepitaxie) Halbleiterschichten aus InGaN mit
wechselndem Indium-Anteil mit dem Ziel der Herstellung zweier
Einfach-Quantentrogschichten aufgewachsen. Die Bandlücke des
Materials InxGa1-xN nimmt mit steigendem Indium-Anteil X ab.
Zunächst wird eine nominell undotierte InGaN-Barriereschicht
11 mit relativ kleinem Indium-Anteil x aufgewachsen. Darauf
wird eine InGaN-Quantentrogschicht 12 mit relativ großem In
dium-Anteil x und einer Dicke d1 aufgebracht. Auf diese Quan
tentrogschicht 12 folgt eine weitere InGaN-Barriereschicht
13. Durch die Quantentrogschicht 12 wird somit eine erste
lichtemittierende Zone gebildet, deren Emissionsmaximum so
wohl durch ihre Dicke als auch durch ihren Indium-Anteil so
wie den Indium-Anteil der Barriereschichten bestimmt wird.
Auf die Barriereschicht 13 wird nun eine weitere InGaN-
Quantentrogschicht 14 mit einem relativ hohem Indium-
Anteil x und einer Dicke d2 < d1 aufgebracht. Auf diese wird
wiederum eine InGaN-Barriereschicht 15 relativ kleinen Indium-
Anteils x aufgewachsen, worauf eine p-dotierte GaN-
Kontaktschicht 16 die Halbleiterschichtenfolge abschließt.
Somit wird die zweite lichtemittierende Zone durch die InGaN-
Quantentrogschicht 14 gebildet. Die Quantentrogschichten 12
und 14 können denselben Indium-Anteil aufweisen. In diesem
Fall weist die obere Quantentrogschicht 14 durch den größeren
Abstand zwischen dem untersten Leitungsband und dem obersten
Valenzband das energetisch höhere Emissionsmaximum als die
Quantentrogschicht 12 auf. Für die Feinabstimmung der energe
tischen Verschiebung zwischen den Quantentrogschichten 12 und
14 kann jedoch auch zusätzlich der Indium-Anteil variiert
werden. So kann z. B. in dem anderen Extrem auch die Dicke
beider Quantentrogschichten 12 und 14 identisch sein, jedoch
die energetische Verstimmung allein durch die unterschiedli
che Indium-Konzentration herbeigeführt werden. Die den licht
aktiven Abschnitt der Schichtstruktur bildenden Schichten 11
bis 15 sind nominell undotiert.
Dadurch daß die Quantentrogschicht 12 mit der kleineren Pho
tonen-Energie des Bandabstands unten angeordnet ist, gelangt
das von ihr emittierte Licht durch die einen höheren Bandab
stand aufweisenden darüberliegenden Schichten nahezu verlust
los in die die LED 1 umgebende Konversionsmasse 5.
In Fig. 4 ist beispielshalber ein Emissionsspektrum darge
stellt, wie es durch eine Weißlichtquelle gemäß Fig. 1 er
zielt werden kann. In diesem Emissionsspektrum taucht die von
der Quantentrogschicht 12 emittierte Lichtstrahlung als eine
weitere Linie A2 auf. Dieser Anteil des Emissionsspektrums
wird durch Strahlung der Quantentrogschicht 12 gebildet, die
das Konversionsmaterial 5 passiert hat, ohne in den Phosphor-
Partikeln 6 konvertiert zu werden. Durch die Linie A2 wird
somit das spektrale Loch in dem Emissionsspektrum geschlos
sen, wodurch eine gleichmäßigere Intensitätsverteilung des
Emissionsspektrums herbeigeführt wird.
Auf diese Weise können auch mehr als zwei Quantentrogschich
ten übereinander angeordnet werden, wobei stets darauf zu
achten ist, daß die Lichtstrahlung einer unteren Quantentrog
schicht nicht durch darüberliegendes Halbleitermaterial ab
sorbiert wird. Die Bandlücke der Quantentrogschichten muß so
mit in Wachstumsrichtung der Halbleiterschichtstruktur konti
nuierlich größer werden, was bedeutet, daß die Schichtdicke
kleiner werden muß und/oder der Indium-Anteil kleiner werden
muß.
Es können auch in der Fig. 1 die Einfach-Quantentrogschichten
12 und 14 jeweils durch Mehrfach-Quantentrogschichten ersetzt
werden, innerhalb derer die Schichtdicke und der Indium-
Anteil konstant bleibt. Dementsprechend können dann auch mehr
als zwei Mehrfach-Quantentrogschichten angeordnet werden.
In Fig. 2 ist ein Beispiel für eine zweite Ausführungsform
der erfindungsgemäßen Weißlichtquelle im Querschnitt darge
stellt. In dieser Ausführungsform sind beispielhaft zwei pn-
Übergänge 21 und 26 vertikal übereinander geschichtet und
durch einen n+p+-Tunnelübergang 25 elektrisch miteinander
kontaktiert. Der Tunnelübergang 25 besteht aus zwei hochdo
tierten n+- bzw. p+-Schichten (~ 1020 cm-3), von denen die n+-
Schicht an das n-Gebiet des einen benachbarten pn-Übergangs
anschließt und die p+-Schicht an das p-Gebiet des anderen be
nachbarten pn-Übergangs anschließt. Jeder pn-Übergang weist
eine aktive, lichtemittierende und intrinsische Schicht 23
bzw. 28 auf.
Im einzelnen wird auf ein n-dotiertes GaN-Substrat 20 eine n-
dotierte InGaN-Schicht 22, eine p-dotierte InGaN-Schicht 24,
der n+p+-Tunnelübergang 25, eine n-dotierte InGaN-Schicht 27
und schließlich eine p-dotierte InGaN-Schicht 29 aufgewach
sen. Zwischen den Schichten 22 und 24 bzw. 27 und 29 befinden
sich die lichtaktiven Zonen 23 bzw. 28, die entweder bei Ver
wendung von Volumen-pn-Übergängen durch die Raumladungszonen
zwischen den n- und p-Schichten oder durch eigens aufgebrach
te Einfach- oder Mehrfach-Quantentrogschichten gebildet sein
können. Falls die pn-Übergange 21 und 26 aus Volumenmaterial
gebildet sind, muß die energetische Verstimmung zwischen den
lichtaktiven Zonen 23 und 28 über den Indium-Anteil einge
stellt werden. Das bedeutet, daß die lichtaktive Zone 28 ei
nen geringeren Indium-Anteil aufweist. Im Falle der Verwen
dung von Volumenmaterial können auch die jeweils angrenzenden
Schichten 22, 24 bzw. 27, 29 denselben Indium-Anteil wie die
lichtaktiven Zonen 23 bzw. 28 aufweisen. Im Falle der Verwen
dung von Einfach- oder Mehrfach-Quantentrogschichten wird auf
die Ausführungen bezüglich der ersten Ausführungsform verwie
sen.
Es ist darauf zu achten, daß der n+p+-Tunnelübergang 25 aus
einem Material mit ausreichend hohem Bandabstand, z. B. GaN,
gewählt wird, so daß keine Absorption der Lichtstrahlung der
lichtaktiven Zone 23 stattfindet.
Gewünschtenfalls können auch mehr als zwei pn-Übergänge über
einander geschichtet und jeweils durch n+p+-Tunnelübergänge
elektrisch miteinander kontaktiert werden.
Der Vorteil der Verwendung von hochdotierten Tunnelübergängen
liegt darin, daß somit die gesamte Halbleiter-LED 1 gemäß der
zweiten Ausführungsform monolithisch hergestellt und somit in
einem Wachstumsdurchgang hergestellt werden kann. Alternativ
dazu kann jedoch auch vorgesehen sein, daß die pn-Übergänge
flächig miteinander verlötet oder auf andere Weise durch eine
metallische Kontaktschicht miteinander elektrisch kontaktiert
werden.
Auch mit einer Ausführungsform gemäß Fig. 2 kann ein Emissi
onsspektrum entsprechend Fig. 4 herbeigeführt werden.
Die Erfindung ist gemäß der Fig. 1 und 2 anhand einer SMD
(surface mounted design)-Bauform beschrieben worden, wobei
sie jedoch ebenso in einer sogenannten Radialdiode verwirk
licht werden kann.
1
Halbleiter-LED
2
elektrischer Anschluß
3
elektrischer Anschluß
5
Umhüllung
6
Konvertersubstanz
8
Grundgehäuse
9
Bonddraht
10
GaN-Substrat
11
InGaN-Barriereschicht
12
InGaN-Quantentrogschicht
13
InGaN-Barriereschicht
14
InGaN-Quantentrogschicht
15
InGaN-Barriereschicht
16
GaN-Kontaktschicht
20
n-dotiertes GaN-Substrat
21
pn-Übergang
22
InGaN-Schicht
23
lichtaktive Zone
24
p-dotierte InGaN-Schicht
25
n+
p+
-Tunnelübergang
26
pn-Übergang
27
n-dotierte InGaN-Schicht
28
lichtaktive Zone
29
p-dotierte InGaN-Schicht
Claims (10)
1. Weißlichtquelle, mit
- - einer Halbleiter-LED (1),
- - einer die LED (1) zumindest teilweise umgebenden Umhüllung (5) aus einem transparenten Material, in welchem eine Kon vertersubstanz (6) zur mindestens teilweisen Wellenlängen konversion des von der LED (1) emittierten Lichts enthalten ist,
- - die LED (1) mindestens zwei lichtemittierende Zonen auf weist, die derart ausgeführt sind, daß
- - die Maxima ihrer Emissionsspektren energetisch gegenein ander verstimmt sind und oberhalb des Emissionsspektrums der Konvertersubstanz (6) liegen,
- - und die ferner in Hauptabstrahlrichtung der LED (1) der art hintereinander angeordnet sind, daß die Energie des Emissionsmaximums in Richtung auf die Lichtaustrittsseite der LED (1) zunimmt.
2. Weißlichtquelle nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - die LED (1) genau einen pn-Übergang aufweist und die lich temittierenden Zonen durch eine entsprechende Anzahl von Ein- oder Mehrfach-Quantentrogschichten (12, 14) unter schiedlicher Dicke und/oder unterschiedlicher Materialzu sammensetzung ausgeführt sind.
3. Weißlichtquelle nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - die lichtemittierenden Zonen der LED (1) durch eine ent sprechende Anzahl von pn-Übergängen (21, 26) gebildet sind.
4. Weißlichtquelle nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
- die pn-Übergänge (21, 26) aus Volumenmaterial unterschied
licher Materialzusammensetzungen gebildet sind.
5. Weißlichtquelle nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - mindestens einer der pn-Übergänge (21, 26) eine Ein- oder Mehrfach-Quantentrogschicht enthält.
6. Weißlichtquelle nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - die pn-Übergänge (21, 26) jeweils eine Ein- oder Mehrfach- Quantentrogschicht enthalten,
- - und die Quantentrogschichten verschiedener pn-Übergänge verschiedene Dicken und/oder verschiedene Materialzusammen setzungen aufweisen.
7. Weißlichtquelle nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - jeweils benachbarte pn-Übergänge (21, 26) durch n+p+-Tun nelübergänge (25) miteinander kontaktiert sind, die aus ei ner n+-dotierten Schicht und einer unmittelbar angrenzenden p+-dotierten Schicht bestehen, wobei die n+-dotierte Schicht sich an das n-Gebiet des einen pn-Übergangs (26) anschließt und die p+-dotierte Schicht sich an das p-Gebiet des anderen pn-Übergangs (21) anschließt, und die n+- bzw. p+-Dotierungskonzentration derart gewählt ist, daß sich im Betrieb ein relativ niedriger elektrischer Widerstand des Tunnelüberangs ergibt.
8. Weißlichtquelle nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - jeweils benachbarte pn-Übergänge (21, 26) durch eine metal lische Kontaktschicht, wie eine Lotschicht, miteinander elektrisch verbunden sind.
9. Weißlichtquelle nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
- - die Halbleiter-LED (1) auf der Basis von GaN oder InGaN aufgebaut ist.
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