DE19857979A1 - Vakuumkammer - Google Patents
VakuumkammerInfo
- Publication number
- DE19857979A1 DE19857979A1 DE1998157979 DE19857979A DE19857979A1 DE 19857979 A1 DE19857979 A1 DE 19857979A1 DE 1998157979 DE1998157979 DE 1998157979 DE 19857979 A DE19857979 A DE 19857979A DE 19857979 A1 DE19857979 A1 DE 19857979A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- frame structure
- vacuum chamber
- functional units
- flange
- pvd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
Vakuumkammern werden für die verschiedensten im Unterdruckbereich ablaufenden verfahrenstechnischen Prozesse benötigt. Hierzu gehören Trocknung, Schmelzen, Oberflächenbehandlung, PVD- und CVD-Beschichtungsverfahren, Ätzen und diverse andere Plasmaprozesse in vielen Bereichen des Maschinenbaus, der Chemie und der Elektrotechnik und Mikroelektronik. DOLLAR A Erfindungsgemäß besteht eine Vakuumkammer aus einer aus Profilen formschlüssig gefertigten Rahmenstruktur, an die auf planaren Platten basierende Funktionsmodule angeflanscht werden. Dies erlaubt eine hohe Modularität und Flexibilität bei kurzen Fertigungszeiten und geringen Kosten.
Description
Vakuumkammern werden für die verschiedensten im Unterdruckbereich ablaufen
den verfahrenstechnischen Prozesse benötigt. Hierzu gehören Trocknung, Schmel
zen, Oberfächenbehandlung, PVD- und CVD- Beschichtungsverfahren, Ätzen und
diverse andere Plasmaprozesse in vielen Bereichen des Maschinenbaus, der Che
mie und der Elektrotechnik und Mikroelektronik.
Vakuumkessel müssen gasdicht aufgebaut werden. Bei den meisten Anwendungen
sind die Anforderungen so hoch, daß Dichtungssysteme ohne T-Stöße verwendet
werden müssen. Aus diesem Grunde werden Vakuumkessel entweder aus Platten
und/oder Rohrteilen formschlüssig, zum Beispiel durch Schweißen, oder aus
Vollmaterial gefertigt, zum Beispiel durch Fräsen.
Diese Herstellungsverfahren sind sehr kostenintensiv und erlauben auch bei der
Verwendung vieler Flanschanschlüsse nur eine eingeschränkte Modularität und
Flexibilität. Wünschenswert wäre es, ein modulares System zu haben, dessen
Komponenten kostengünstig gefertigt werden können.
Erfindungsgemäß wird dies realisiert, indem aus Profilen eine Rahmenstruktur (1)
formschlüssig, zum Beispiel durch Schweißen, hergestellt wird. Diese Rahmen
struktur ist unabhängig von der Anwendung des Gesamtsystems und kann kosten
günstig auch in kleinen Serien hergestellt werden.
An diese Rahmenstruktur werden Funktionsmodule (2) angeflanscht. Diese Funkti
onsmodule basieren im wesentlichen auf ebenen Platten, die mit den entsprechen
den prozeßtechnischen Ausrüstungen versehen sind. Durch diese Planarität lassen
sich die Funktionsmodule ebenfalls kostengünstig herstellen und leicht modifizie
ren.
Das Gesamtsystem entsteht flexibel und modular durch Zusammenfügen mehrerer
Funktionsgruppen mit der Rahmenstruktur. Dies führt zu kostengünstigen Syste
men, die sehr schnell erstellt werden können und modifizierbar bleiben.
Claims (6)
1. Vakuumkammer, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammer aus einer aus Pro
filmaterial formschlüssig gefertigten Rahmenstruktur besteht, an der verschie
dene Funktionseinheiten angeflanscht werden.
2. Anordnung und Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Flansche zwischen der Rahmenstruktur und der Funktionseinheiten im wesent
lichen plan sind.
3. Anordnung und Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Funktionseinheiten auf der Basis weitgehend planer Platten aufgebaut sind.
4. Anordnung und Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in
der Vakuumkammer oberflächentechnische Prozesse durchgeführt werden.
5. Anordnung und Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in
der Vakuumkammer Plasmaprozesse durchgeführt werden.
6. Anordnung und Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
durch eine Auswahl verschiedenartiger Funktionskomponenten eine modulare
Anlagenkonzeption realisiert wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998157979 DE19857979A1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Vakuumkammer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1998157979 DE19857979A1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Vakuumkammer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19857979A1 true DE19857979A1 (de) | 2000-06-21 |
Family
ID=7891250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1998157979 Withdrawn DE19857979A1 (de) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Vakuumkammer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19857979A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007057644A1 (de) * | 2007-11-28 | 2009-06-04 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer auf Rahmenbasis für Beschichtungsanlagen |
WO2010083856A1 (de) * | 2009-01-21 | 2010-07-29 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer für beschichtungsanlagen und verfahren zum herstellen einer vakuumkammer für beschichtungsanlagen |
GB2508912A (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-18 | Mantis Deposition Ltd | Vacuum chamber for processing semiconductor wafers |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4026174A1 (de) * | 1989-08-16 | 1991-02-21 | Qpl Ltd | Vorrichtungen zum vacuumaufdampfen |
DE4335841C1 (de) * | 1993-10-20 | 1995-06-01 | Siemens Nixdorf Inf Syst | Vakuumadapter |
DE19613282A1 (de) * | 1996-04-03 | 1997-10-09 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen |
-
1998
- 1998-12-16 DE DE1998157979 patent/DE19857979A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4026174A1 (de) * | 1989-08-16 | 1991-02-21 | Qpl Ltd | Vorrichtungen zum vacuumaufdampfen |
DE4335841C1 (de) * | 1993-10-20 | 1995-06-01 | Siemens Nixdorf Inf Syst | Vakuumadapter |
DE19613282A1 (de) * | 1996-04-03 | 1997-10-09 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007057644A1 (de) * | 2007-11-28 | 2009-06-04 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer auf Rahmenbasis für Beschichtungsanlagen |
WO2010083856A1 (de) * | 2009-01-21 | 2010-07-29 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer für beschichtungsanlagen und verfahren zum herstellen einer vakuumkammer für beschichtungsanlagen |
CN102292149A (zh) * | 2009-01-21 | 2011-12-21 | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) | 用于涂覆设备的真空腔以及用于制造用于涂覆设备的真空腔的方法 |
DE102009007897A1 (de) * | 2009-02-08 | 2010-08-12 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | Vakuumkammer für Beschichtungsanlagen und Verfahren zum Herstellen einer Vakuumkammer für Beschichtungsanlagen |
GB2508912A (en) * | 2012-12-14 | 2014-06-18 | Mantis Deposition Ltd | Vacuum chamber for processing semiconductor wafers |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102008064169B4 (de) | Wägezelle | |
DE9407482U1 (de) | Funktionseinrichtung für eine Vakuumanlage für die Behandlung von scheibenförmigen Werkstücken | |
DE3508004A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum reinigen von formen | |
DE4009090A1 (de) | Verfahren zur herstellung von mehrschichtigen siliziumstrukturen | |
DE102004008598B4 (de) | Verfahren für den Betrieb einer Inline-Beschichtungsanlage | |
EP0095583B1 (de) | Membranstapeleinheit für Mehrkammerprozesse | |
DE19857979A1 (de) | Vakuumkammer | |
DE60122161T2 (de) | Modulares ozon herstellungssystem | |
DE2629548A1 (de) | Dichtungsanordnung | |
DE4326239C2 (de) | Tablettier-, Dragier- oder Granuliermaschine, insbesondere Rundlauf-Tablettenpresse | |
DE1292627B (de) | Verfahren zum Trennen von Ionengemischen in Fluessigkeiten | |
DE19747574A1 (de) | Verfahren zur Ermittlung realisierbarer Konfigurationen von Bearbeitungsanlagen | |
DE2542296C2 (de) | Vorrichtung zur Anreicherung von Uranisotopen nach dem Trenndüsenverfahren | |
Klingenberg | Die Tate-Vermutungen für Hilbert-Blumenthal-Flächen | |
DE2134377A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ab scheiden dunner Schichten mittels Kathodenzerstäubung auf Metallwerkstucken | |
DD221401A1 (de) | Verfahren zur oberflaechenstrukturierung beliebiger materialien | |
DE20101996U1 (de) | Vorrichtung zur Laserbearbeitung von Werkstücken | |
DE10203295B4 (de) | Lager- oder Antriebsvorrichtung mit beschichteten Elementen | |
DE2247579C3 (de) | Verfahren zum Befestigen von Aufdampfmasken auf Halbleiterscheiben für Solarzellen | |
DE102005025101B3 (de) | Vorrichtung zur Reinigung von Innenräumen in Vakuumkammern | |
EP0963599B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von substratoberflächen | |
DE931718C (de) | Anordnung fuer ein Reihenklemmensystem in elektrischen Niederspannungs-Schalteinheiten, z. B. Schalttafeln | |
DE102012000397B4 (de) | Vorrichtung mit einem Befestigungsmittel in einer Vakuumbehandlungsanlage | |
DE19941399A1 (de) | Reinigung von Stencilmasken mit Hilfe einer durch Maskenöffnungen hindurchtretenden Gasströmung | |
DE3810851A1 (de) | Verfahren zur herstellung von formteilen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |