DE19856797A1

DE19856797A1 - Auskleidematerial für Glasschmelzöfen, Glasschmelzöfen, Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten und Verfahren zum Reinigen des Auskleidematerials

Info

Publication number: DE19856797A1
Application number: DE19856797A
Authority: DE
Inventors: Tsugunobu Murakami; Tadakazu Hidai
Original assignee: NH Techno Glass Corp
Current assignee: Avanstrate Inc
Priority date: 1998-04-27
Filing date: 1998-12-09
Publication date: 1999-10-28
Anticipated expiration: 2018-12-10
Also published as: KR19990081821A; KR100523274B1; US6589475B2; US20020174688A1; DE19856797B4; TW432020B; US6401493B1; US6250111B1

Abstract

Ein Auskleidematerial für Glasschmelzöfen umfaßt Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial, enthaltend Osmium als Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm. Das Auskleidematerial wird für den Teil des Schmelzofens verwendet, der mit geschmolzenem Glas in Kontakt kommt. Der geringe Osmiumgehalt verhindert die Bildung von Bläschen im geschmolzenem Glas, wodurch hochqualitative Glasprodukte bereitgestellt werden.

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Auskleidematerial für Glas schmelzöfen, das hauptsächlich aus Platin oder einer Platinlegierung besteht, auf ein Verfahren zum Reinigen des Auskleidematerials, einen mit dem Auskleidematerial ausgekleideten Glasschmelzofen und ein Verfahren zum Herstellen von Glasprodukten.

Glas ist fehlerhaft, wenn es Steinchen/Knoten, Schlieren und Blasen/ Bläschen enthält. Steinchen sind kristalline Mineralkörper und sie beein trächtigen nachteilig die Transparenz und Festigkeit des Glases. Schlieren sind streifige amorphe Körper und beeinträchtigen nachteilig den Glas brechungsindex, wodurch das durch das Glas gehende Bild verzerrt wird. Blasen beeinträchtigen ebenfalls nachteilig die Transparenz des Glases. Insbesondere bewirken Blasentrümmer an der Oberfläche eines LCD-(Flüssigkristallanzeige)-Substrats offene Schaltkreise. Deshalb sollten LCD-Glasplatten und optische Linsen bzw. Objektive von den oben erwähnten Defekten frei sein.

Es ist bekannt, daß Steinchen aus feinem Pulver aus feuerfestem Material resultieren, wenn Glas in einem Schmelzofen geschmolzen wird, das mit feuerfestem Material ausgekleidet ist, daß Schlieren aus in Glas gelöstem feuerfesten Material resultieren und daß Blasen aus feuerfestem Material in Kontakt mit Glas resultieren. Ein Weg zum Verhindern von Steinchen und Schlieren ist, mit Platin oder einer Platinlegierung auszukleiden. Ein Weg zum Verhindern von Bläschen ist die Aufnahme eines Läuterungs/Fein schmelzmittels in Rohglasmaterialien.

Die oben erwähnten Maßnahmen sind in einem gewissen Umfang erfolg reich. Für Elektronik-Glas (wie etwa LCD-Glas) sind aber selbst ein paar Bläschen nicht tolerabel. Eine vollständige Beseitigung von Bläschen ist selbst in dem Fall unmöglich, daß mit industriellem Platin mit hoher Reinheit (99,95 Gew.-%) ausgekleidet wird, wobei der Rest (0,05 Gew.-%) unvermeidbare Unreinheiten sind. Für eine weitere Verbesserung der Glasqualität sind Gegenmaßnahmen gegen Bläschen unabdingbar.

Trotz ihrer sorgfältigen Untersuchung von involvierten Produktionsanlagen konnten die hiesigen Erfinder die Quelle von Bläschen nicht auffinden. Sie nahmen an, daß die Hauptquelle von Bläschen Platin in Kontakt mit geschmolzenem Glas ist.

Es wurde gefunden, daß industrielles Platin im tatsächlichen Gebrauch hinsichtlich der Restverunreinigungen variiert in Abhängigkeit von seinem Ursprung und der Herstellungscharge und in Abhängigkeit davon, ob es recyceltes Platin enthält oder nicht. Unten ist ein Beispiel von analytischen Daten gegeben.

TABELLE 1

Verunreinigungen (Fremdbestandteile) in industriellem Platin

Palladium (Pd) ist ein stabiles Element und es ist unwahrscheinlich, daß es Bläschen verursacht. Rhodium (Rh) ist ein hinzugefügtes Element zum Vergrößern der Festigkeit von Platin und es ist ebenfalls unwahrscheinlich, daß es Bläschen verursacht. Osmium (Os) ist für Oxidation anfällig, was das Auftreten eines Oxids verursacht, das bei einer niedrigen Temperatur verdampft. Angesichts dessen und seines hohen Gehalts ist es sehr wahrscheinlich, daß Osmium Bläschen verursacht. Iridium (Ir) wird bei 800°C und darüber oxidiert (wenn auch nicht so leicht wie Osmium) und verdampft bei 1000°C und darüber. Angesichts der Tatsache, daß Iridium schon lange als ein Material für Glasschmelztiegel verwendete wurde, ist es allerdings unwahrscheinlich, daß Iridium Bläschen verursacht. Arsen (As) verdampft leicht oder oxidiert leicht unter Bildung flüchtiger Oxide. Allerdings löst es sich leicht in Glas und es ist folglich unwahrscheinlich, daß es Bläschen verursacht.

Dementsprechend haben die hiesigen Erfinder die Beziehung zwischen der Menge an Osmium und der Anzahl von Bläschen experimentell untersucht. Es stellte sich heraus, daß die Zahl an Bläschen umso geringer war, je geringer der Gehalt an Osmium war. Dies Ergebnis führte zur vorliegenden Erfindung.

Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Aus kleidematerial für Glasschmelzöfen bereitgestellt, das Platin oder eine Platinlegierung als Basismaterial umfaßt enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm.

Die Beschränkung des Gehalts an Osmium wie vorstehend ist wirksam, die Anzahl von Bläschen, die sich aus dem Auskleidematerial entwickeln und ins geschmolzene Glas eintreten, zu reduzieren. Für ein hochqualitatives Glas sollte der Gehalt an Osmium bevorzugt nicht mehr als 10 ppm (ppm = parts per million) betragen.

Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Glasschmelzofen bereitgestellt, der wenigstens an einem Teil desselben, der in Kontakt mit geschmolzenem Glas steht, mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist. Das Auskleidematerial umfaßt Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm.

Das Auskleiden der Glasschmelzöfen mit dem Auskleidematerial, welches Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, reduziert die Anzahl von in das geschmolzene Glas eintretenden Bläschen. Für ein hochqualitatives Glas sollte der Gehalt an Osmium bevorzugt nicht mehr als 10 ppm betragen.

Gemäß einer bevorzugten Form umfaßt der Glasschmelzofen einen Schmelztank, in dem Glas-Rohmaterialien geschmolzen werden, einen Läuterungs/Feinschmelz-Tank, in dem geschmolzenes Glas eine Läuterung/ Feinschmelz-Behandlung durchmacht und eine Formungseinheit, in die geschmolzenes Glas gezogen und zu Tafelglas geformt wird. Wenigstens die Formungseinheit ist mit dem Auskleidematerial ausgekleidet. Die Formungs einheit, in der geschmolzenes Glas zu Tafelglas geformt wird, sollte frei von Blasen sein. Da das Auskleidematerial keine Bläschen entwickelt, ermöglicht die Formungseinheit die Herstellung von bläschenfreiem, hochqualitativen Tafelglas.

In einer anderen bevorzugten Form umfaßt der Glasschmelzofen ferner eine hintere Einrichtung (rear facility) zum Homogenisieren, Mischen und Bilden von entschäumtem geschmolzenem Glas. Die hintere Einrichtung kann ebenfalls mit dem Auskleidematerial ausgekleidet sein.

Bevorzugt ist auch der Läuterungs/Feinschmelz-Tank wenigstens teilweise mit dem Auskleidematerial ausgekleidet.

Gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Prozeß zum Herstellen von Glasprodukten bereitgestellt, der die Schritte umfaßt: Läutern/Feinschmelzen geschmolzenen Glases in einem Läuterungs/Fein schmelz-Tank; Homogenisieren des geschmolzenen Glases vom Läuterungs/ Feinschmelz-Tank bei einer vorbestimmten gleichmäßigen Temperatur in einem Homogenisierungstank; und Formen des geschmolzenen Glases vom Homogenisierungstank zu Tafelglas in einer Formungseinheit. Der Läute rungs/Feinschmelz-Tank ist wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenen Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzö fen ausgekleidet, welches Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismate rial enthält, das Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, so daß die Wand während des Läuterns/Fein schmelzens keine Bläschen entwickelt. Der Homogenisierungstank ist wenigstens an einer mit dem geschmolzenen Glas in Kontakt stehenden Wand desselben mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet, welches Material Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial umfaßt, das Osmium als Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, so daß die Wand während der Homogenisie rung keine Bläschen entwickelt. Die Formungseinheit ist wenigstens an einer mit dem geschmolzenen Glas in Kontakt stehenden Wand derselben mit einem Material für Glasschmelzöfen ausgekleidet, welches Material Platin oder Platinlegierung als ein Basismaterial umfaßt, das Osmium als Ver unreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, so daß die Wand während des Formens keine Bläschen entwickelt.

Es können bläschenfreie hochqualitative Glasprodukte erhalten werden, da die Läuterungs/Feinschmelz-, Homogenisierungs- und Formungsschritte in den mit dem Auskleidematerial ausgekleideten Einrichtungen durchgeführt werden, welches Material Osmium in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält.

In einer bevorzugten Form umfaßt das Verfahren ferner den Schritt des Schmelzens von Glas in einem Schmelztank vor dem Läuterungs/Fein schmelz-Schritt. Der Schmelztank kann, vorzugsweise, wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenem Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet sein, welches Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial umfaßt, das Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, so daß die Wand während des Schmelzens keine Bläschen entwickelt.

Bei einer anderen bevorzugten Form umfaßt das Verfahren ferner den Schritt des Mischens des geschmolzenen Glases in einem Mischtank vor dem Formungsschritt. Der Mischtank ist bevorzugt wenigstens an einer in Kontakt mit dem geschmolzenem Glas stehenden Wand desselben mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet, welches Material Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial umfaßt, das Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, so daß die Wand während des Mischens keine Bläschen entwickelt.

Da jeder Schritt des Verfahrens in den Einrichtungen durchgeführt wird, die mit dem Auskleidematerial ausgekleidet sind, das Osmium in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm enthält, können bläschenfreie, hochqualitative Glasprodukte erhalten werden. Höchstvorzugsweise ist der Osmiumgehalt des Auskleidematerials auf weniger als 10 ppm reduziert, so daß Glas produkte von höherer Qualität erhalten werden können.

Gemäß einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Reinigen eines Auskleidematerials für Glasschmelzöfen bereitgestellt, welches den Schritt des Bereitstellens von Osmium enthaltenen Platin oder einer Osmium enthaltenen Platinlegierung umfaßt und den Schritt des Haltens des Osmium enthaltenden Platins oder der Osmium enthaltenden Platinlegierung für eine vorbestimmte Zeitdauer auf einer Temperatur höher als eine Temperatur, bei der Osmiumoxid verdampft, so daß der Gehalt an Osmium wenigstens in einer Oberfläche oder deren Umgebung des Platins oder der Platinlegierung auf 20 ppm oder weniger abnimmt.

Der 20 ppm überschreitende Osmiumgehalt kann reduziert werden, indem das Platin oder die Platinlegierung für Hunderte von Stunden bei 1700°C gehalten wird.

Es werden nun nur als Beispiel gewisse bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung hiernach im Detail beschrieben, wobei auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen wird, in denen:

Fig. 1 ein Diagramm ist, das eine Beziehung zwischen dem Gehalt an Osmium in Platin und der Anzahl von Bläschen zeigt.

Fig. 2 ein schematisches Diagramm ist, das die allgemeine Anordnung eines Glasschmelzofens und einer Glasformungsform gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt.

Fig. 3A und 3B schematische Darstellungen sind, die Bläschen in Glasproben zeigen.

Fig. 4 ein Diagramm ist, das eine Beziehung zwischen der Glastempe ratur und der Glasviskosität in Experiment 1 zeigt.

Fig. 5 ein Diagramm ist, das eine Beziehung zwischen dem Gehalt an Osmium in Platin und der Anzahl von Bläschen in Experiment 2 zeigt.

Fig. 6 ein Diagramm ist, das eine Beziehung zwischen der Glastempe ratur und der Glasviskosität in Experiment 2 zeigt.

Fig. 7 ein Diagramm ist, das Änderungen im Osmiumgehalt über die Zeit zeigt.

Die folgende Beschreibung ist nur von exemplarischer Natur und es ist keineswegs beabsichtigt, daß sie die Erfindung oder ihre Anwendungen oder Verwendungen beschränkt.

In Fig. 1 repräsentiert die Abszisse den Gehalt an Osmium in auf 1150°C und 1300°C erhitztem Platin, während die Ordinate die Anzahl von Blasen (Bläschen) repräsentiert. Es wird bemerkt, daß dann, wenn der Osmiumge halt in einem Bereich von 20 ppm bis 31 ppm fällt, die Anzahl von Bläschen eine für die Produktqualität nicht tolerierbare Grenze erreicht. Dies bedeutet, daß die Bildung von Bläschen unterdrückt werden kann, falls die obere Grenze des Osmiumgehalts auf 20 ppm mit Toleranz gesetzt ist, wie durch Punkte P1 und P2 angedeutet ist.

Fig. 2 zeigt eine kurz als Glasschmelzofen 1 bezeichnete Glasschmelz einrichtung 1 gemäß der vorliegenden Erfindung. Glasschmelzofen 1 umfaßt einen Schmelztank 2, einen Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3, einen Homogenisierungstank 4, einen Mischtank 5 und eine Formungseinheit 6, die in der erwähnten Reihenfolge angeordnet sind. Sie sind innen mit einem Material auf Platinbasis oder Basis einer Platinlegierung gemäß der vorliegenden Erfindung ausgekleidet. Das Auskleidematerial auf Platinbasis wird später erklärt. Das Auskleiden des Schmelztanks kann im Hinblick auf eine Ersparnis von Installationskosten weggelassen werden.

Der hier verwendete Begriff "Platinlegierung" bedeutet insbesondere eine Legierung, die Rhodium enthält, oder eine, die Zirkoniumoxid und Calciumo xid enthält. Das letztere ist sogenanntes verstärktes Platin des homogenen Dispersionstyps.

Glas-Rohmaterialien werden im Schmelztank 2 geschmolzen.

Im Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 wird das vom Schmelztank 2 zugeführte geschmolzene Glas von Bläschen und gelöstem Gas darin befreit, und zwar mittels eines Läuterungs/Feinschmelz-Mittels, das zu den Gas-Rohmateria lien hinzugefügt wird.

Der Homogenisierungstank 4 hält das geläuterte/feingeschmolzene geschmolzene Glas mit oder ohne Kühlung, so daß es durchgehend eine einheitliche Temperatur aufweist.

Im Mischtank 5 wird das geschmolzene Glas (bei einer einheitlichen Temperatur) bewegt, insbesondere gerührt, um Schlieren zu verhindern. Mit der Bezugsziffer 9 ist eine Platin-Bewegungseinrichtung, gegebenenfalls Rühreinrichtung (Platin-Rührwerk) bezeichnet.

Die Formungseinheit 6 formt das geschmolzene Glas durch Ziehen zu Tafelglas.

Diese Schritte werden sequentiell und kontinuierlich in einem Glasschmelzo fen 1 durchgeführt.

In allen Schritten können Bläschen auftreten und werden durch den Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 (der ursprünglich für das Läutern/Fein schmelzen bestimmt ist) entfernt, falls sie im Schmelztank 2 und im Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 gebildet werden. Falls sie aber danach im Homogenisiertank 4, im Mischtank 5, in der Formungseinheit 6, in der Abgabeeinheit 7 und in der Glasformungsform 8 gebildet werden, werden sie allerdings üblicherweise nicht entfernt. Dies wird bei der vorliegenden Erfindung dadurch vermieden, daß wenigstens eine hintere Einrichtung, nämlich der Homogenisiertank 4, der Mischtank 5, die Formungseinheit 6, die Abgabeeinheit 7 und die Glasformungsform 8 mit Platin oder einer Platinlegierung ausgekleidet ist.

Damit der Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 das Läutern/Feinschmelzen leicht durchführen kann, sollte die Anzahl von im Schmelztank 2 und im Läute rungs/Feinschmelz-Tank 3 gebildeten Bläschen bevorzugt so klein wie möglich sein. Hierzu ist es wünschenswert, den Schmelztank 2 und den Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 mit Platin oder einer Platinlegierung auszukleiden, die kaum Bläschen entwickeln.

Mit anderen Worten ist die vorliegende Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte Einrichtung oder die hintere Einrichtung (Homogenisiertank 4 und nachfolgende Installationen) mit Platin oder einer Platinlegierung ausgekleidet sind, die kaum Bläschen entwickeln. Im letzteren Fall können die Einrichtungs/Ausrüstungskosten etwas reduziert sein.

Falls die sich auf Bläschen und Schlieren beziehenden Qualitätsanforderun gen nicht so strikt sind, kann der Homogenisiertank 4 weggelassen sein oder es können der Schmelztank 2 und der Läuterungs/Feinschmelz-Tank 3 miteinander kombiniert sein.

Wie in Fig. 2 gezeigt, geht das durch den Mischtank 5 hindurchgegebene geschmolzene Glas direkt zur Glasformungsform 8, wo es zu geformtem Glas gemacht wird, oder durch die Abgabeeinheit 7 indirekt zur Glasfor mungsform 8.

Es ist wünschenswert, daß Platin oder eine Platinlegierung (die in der vorliegenden Erfindung als das Auskleidungsmaterial für Glasschmelzöfen spezifiziert sind) ferner für die den Schmelztank 2, den Läuterungs/Fein schmelz-Tank 3, den Homogenisiertank 4, den Mischtank 5 und die Formungseinheit 6 miteinander in Reihe verbindenden Verbindungsstücke verwendet wird.

Zu den Glas-Rohmaterialien sind Läuterung/Feinschmelz-Mittel wie Arsenoxid, Antimonoxid, Zinnoxid, Bariumchlorid, Bariumsulfat und Calciumchlorid hinzugefügt, die im geschmolzenem Glas bleiben.

Der oben erwähnte Glasschmelzofen 1 kann Glas jeglicher Zusammen setzung behandeln, wie etwa Aluminiumborsilikat-Glas, Aluminiumsilikat-Glas und alkalifreies Glas (das im wesentlichen kein Alkali enthält, wie etwa alkalifreies Aluminiumsilikat-Glas) behandeln. Sie haben einen höheren Strain-Punkt (Transformationspunkt) als Natronkalk-Silicaglas für Fensterver glasung.

Der Glasschmelzofen 1 der vorliegenden Erfindung kann Elektronik-Glas (etwa wie ein Substrat für eine Flüssigkristallanzeige) und im wesentlichen alkalifreies Aluminiumborsilikat-Glas adäquat behandeln, die nahezu vollständig von Bläschen frei sein müssen.

Er ist ferner geeignet zum Schmelzen und Formen von optischem Glas (einschließlich Wellenleitern, optischen Linsen und optischen Fasern) der oben erwähnten Zusammensetzung, deren Spezifikation hinsichtlich Bläschen pro Einheitsvolumen nicht so strikt ist wie für LCD-Substrate.

Beispiele

Es wurden fünf Experimente wie unten erklärt durchgeführt, um zu demonstrieren, daß das Platin oder die Platinlegierung, die in der vor liegenden Erfindung spezifiziert sind, kaum Bläschen entwickeln.

(1) Laborexperiment mit Teststücken von LCD-Glas.
(2) Laborexperiment mit Teststücken aus optischem Glas.
(3) Test an einem tatsächlichen Glasschmelzofen, wie in Fig. 2 gezeigt.
(4) Test an einem tatsächlichen Glasschmelzofen, wie in Fig. 2 gezeigt.
(5) Reinigung von Platin.

Experiment 1

Glas-Rohmaterialien: Zusammensetzung wie in Tabelle 2 gezeigt.
Platin-Tiegel: 200 ml Kapazität, aus an Osmium als Verunreinigung freiem (durch Emissionsspektroskopieanalyse mit einer Erfassungsgrenze von ca. 1 ppm nicht erfaßbar) Platin-Bullion (Platinbarren) hergestellt.
Schmelztemperatur: 1600°C
Schmelzdauer: 3 Stunden
Läuterungs/Feinschmelz-Temperatur: 1600-1650°C
Glasprobe: Scheibe, etwa 70 mm Durchmesser und etwa 5 mm dick, auf eine saubere Edelstahlplatte gegossen.

TABELLE 2

Platinplatten: Es wurden sechs Proben aus Platin-Bullion präpariert enthaltend verschiedene Mengen an Osmium (1,0; 10,3; 20; 31; 976; 7460 ppm), was durch Emissionsspektroskopieanalyse bestimmt wurde.

Eine zu einem 1 cm Quadrat geschnittene Glasprobe wurde auf der Platinplatte plaziert und für eine Stunde auf 1050°C, 1150°C, 1200°C, 1250°C, 1300°C bzw. 1600°C erhitzt. Es wurde auf sich während dem Erhitzen bildende Bläschen untersucht mittels eines mit einem Videorekorder ausgerüsteten Hochtemperaturmikroskops.

Fig. 3A und 3B zeigen in einer Draufsicht und einer Seitenansicht die Bläschen enthaltenen Glasproben. Fig. 3A zeigt die Glasprobe, die auf einer 1 ppm Osmium enthaltenen Platinplatte auf 1300°C erhitzt wurde. Fig. 3B zeigt die Glasprobe, die auf einer 7460 ppm Osmium enthaltenen Platinplatte auf 1300°C erhitzt wurde.

In diesen Figuren sind Glasproben 11A und 11B, Platinplatten 12A und 12B und Bläschen 13A und 13B gezeigt. Es ist zu vermerken, daß im Falle der Fig. 3A nur ein Bläschen vorliegt, während im Falle der Fig. 3B viele Bläschen vorliegen.

Tabelle 3 zeigt die Ergebnisse des Experiments 1 als Anzahl von während dem Aufheizen pro Stunde pro Einheitsfläche (cm²) der Platinplatte erzeugten Bläschen.

TABELLE 3

Die Daten in Tabelle 3 sind teilweise in Fig. 1 graphisch dargestellt. Es wurde aus Fig. 1 gefunden, daß die Anzahl von Bläschen mit der Zunahme des Gehalts an Osmium in der Platinplatte zunimmt. Und es stellte sich heraus, daß die Bläschen gebildet werden, während das Glas bei hohen Temperaturen in Kontakt mit Platin steht, falls das Platin Osmium als Verunreinigungen enthält.

Es wurde somit experimentell bestätigt, daß ein effektiver Weg zur Verminderung der Anzahl von Bläschen die Verminderung des Gehalts an Osmium im Platin soweit wie möglich ist.

Tabelle 3 oben zeigt ferner die Viskosität des Glases (in Poise) in der rechtesten Spalte. Es ist zu vermerken, daß die Anzahl der Bläschen umso größer und die Viskosität umso kleiner ist, je größer die Temperatur ist. Dies bedeutet, daß mehr Bläschen gebildet werden, wenn die Viskosität abnimmt. Dies legt eine gewisse Beziehung zwischen Viskosität und Bläschenbildung nahe.

Es wird in Betracht gezogen, daß sich Bläschen im geschmolzenem Glas hoher Viskosität sehr langsam bewegen (steigen) und daß folglich kaum neue Bläschen gebildet werden, während Bläschen in geschmolzenem Glas niedriger Viskosität sich leicht bewegen (aufsteigen), was ermöglicht, daß neue Bläschen eines nach dem anderen gebildet werden.

Die Daten in der rechtesten Spalte von Tabelle 3 sind in Fig. 4 graphisch dargestellt, wobei die Glasviskosität (Ordinate) über der Temperatur (Abszisse) dargestellt ist.

Tabelle 3 zeigt, daß bei 1050°C keine Bläschen gebildet werden, falls der Osmiumgehalt nicht mehr als 20 ppm beträgt, daß die Bläschenbildung aber bei 1050°C beginnt, falls der Osmiumgehalt größer als 20 ppm ist.

Dies wird durch einen Pfeil (mit "Bläschenbildung" markiert) bei 1050°C in Fig. 4 angedeutet.

In ähnlicher Weise tritt in Fig. 4 bei 1650°C ein mit "Läutern/Fein schmelzen" markierter Pfeil auf, da diese Temperatur die höchste im gesamten Prozeß ist. Hierzu wird daran erinnert, daß die Temperatur im Läuterungs/Feinschmelz-Tank 1500-1650°C, im Homogenisiertank 1500°C, im Mischtank 1500°C und in der Formungseinheit 1150-1200°C beträgt.

Der weiße Pfeil in Fig. 4 zeigt den Viskositätsbereich (2 × 10² bis 2 × 10⁶ Poise) an, in dem die Bildung von Bläschen wahrscheinlich ist. Falls Platin, das nicht mehr als 20 ppm, bevorzugt nicht mehr als 10 ppm Osmium enthält, für das eine Viskosität in diesem Bereich aufweisende geschmol zene Glas verwendet wird, wäre es dann möglich, die Bildung von Bläschen zu unterdrücken. Umgekehrt ist die Verwendung von Platin mit einem niedrigen Osmiumgehalt für das geschmolzene Glas, das eine Viskosität außerhalb des oben erwähnten Bereiches aufweist, nicht effektiv bei der Unterdrückung von Bläschen, sondern es ist unökonomisch.

Experiment 2

Glas-Rohmaterialien: Zusammensetzung wie in Tabelle 4 gezeigt.
Platintiegel: 200 ml Kapazität, aus an Osmium als Verunreinigung freien (durch Emissionsspektroskopieanalyse mit einer Erfassungsgrenze von ca. 1 ppm nicht erfaßbar) Platin-Bullion (Platinbarren) hergestellt.
Schmelztemperatur: 1350°C
Schmelzdauer: 3 Stunden
Läuterung/Feinschmelz-Temperatur: 1350-1400°C
Glasprobe: Scheibe, etwa 70 mm Durchmesser und etwa 5 mm dick, auf eine saubere Edelstahlplatte gegossen.

TABELLE 4

Platinplatten: Es wurden sechs Proben aus Platin-Bullion präpariert, das verschiedene Mengen an Osmium (1,0; 10,3; 20; 31; 976; 7460 ppm), durch Emissionsspektroskopieanalyse bestimmt, enthielt.

Es wurde eine Glasprobe auf der Platinplatte plaziert und für eine Stunde auf 750°C, 800°C, 900°C, 1000°C, 1200°C oder 1400°C erhitzt. Es wurde auf während des Erhitzens gebildete Bläschen untersucht mittels eines Hochtemperaturmikroskops, das mit einem Videorekorder ausgerüstet war. Die Beobachtungen waren dieselben, wie in den Fig. 3A und 3B gezeigt ist.

Tabelle 5 unten zeigt die Ergebnisse des Experiments 2 hinsichtlich der Anzahl von während einem Erhitzen pro Stunde pro Einheitsfläche (cm²) der Platinplatte gebildeten Bläschen.

TABELLE 5

Die Daten in Experiment 2 (bei Aufheiztemperaturen von 870°C und 1080°C) sind in Fig. 5 graphisch dargestellt, wobei die Abszisse den Osmium gehalt repräsentiert und die Ordinate die Anzahl von gebildeten Bläschen repräsentiert. Es ist zu vermerken, daß die Anzahl von Bläschen eine für die Produktqualität nicht tolerierbare Grenze erreicht, wenn der Osmiumgehalt etwa in den Bereich von 20 ppm bis 31 ppm fällt. Dies legt nahe, daß die Bildung von Bläschen unterdrückt wird, wenn die obere Grenze des Osmiumgehalts auf 20 ppm mit Toleranz gesetzt wird, wie durch Punkte P3 und P4 angedeutet ist.

Es wurde aus Experiment 2 (Fig. 5) gefunden, daß die obere Grenze des Osmiumgehalts 20 ppm, bevorzugt 10 ppm betragen sollte, wie im Falle des Experiments 1 (Fig. 1).

Die Daten in der rechtesten Spalte von Tabelle 5 sind in Fig. 6 graphisch dargestellt, wobei die Glasviskosität (logarithmische Ordinate) über der Temperatur (Abzisse) dargestellt ist.

Tabelle 5 zeigt, daß bei 810°C keine Bläschen gebildet werden, falls der Osmiumgehalt nicht mehr als 10,3 ppm beträgt, daß aber die Bläschenbil dung bei 810°C beginnt, falls der Osmiumgehalt größer als 20 ppm ist.

Dies wird durch einen Pfeil (mit "Bläschenbildung" markiert) bei 810°C in Fig. 6 angedeutet.

In ähnlicher Weise tritt bei 1400°C in Fig. 6 ein mit "Läutern/Fein schmelzen" markierter Pfeil auf, da diese Temperatur die höchste im gesamten Prozeß ist. Es wird daran erinnert, daß die Temperatur im Läuterungs/Feinschmelz-Tank 1350-1400°C, im Homogenisiertank 1300°C, im Mischtank 1200°C und in der Formungseinheit 1050°C beträgt.

Der weiße Pfeil in Fig. 6 zeigt den Viskositätsbereich (7 × 10 bis 2 × 10⁶ Poise), in dem die Bildung von Bläschen wahrscheinlich ist. Falls Platin, das nicht mehr als 20 ppm, bevorzugt nicht mehr als 10 ppm Osmium enthält, für das geschmolzene Glas mit einer Viskosität in diesem Bereich verwendet wird, dann wäre es möglich, die Bildung von Bläschen zu unterdrücken.

Umgekehrt ist die Verwendung von Platin mit einem niedrigen Osmiumge halt für das eine Viskosität außerhalb des oben erwähnten Bereiches aufweisende geschmolzene Glas nicht effektiv bei der Unterdrückung von Bläschen, sondern es ist unökonomisch.

Der Weg zum Unterdrücken der Bildung von Bläschen durch Steuern/Regeln der Temperatur des geschmolzenen Glases würde in Abhängigkeit von der Glaszusammensetzung variieren, während der Weg zum Unterdrücken der Bildung von Bläschen durch Steuern/Regeln der Viskosität des geschmolze nen Glases der gleiche wäre ungeachtet der Glaszusammensetzung.

Es ist aus Fig. 6 bekannt, daß im Falle von optischem Glas mit einer Viskosität von 7 × 10 bis 2 × 10⁶ Poise die Bildung von Bläschen effektiv und ökonomisch unterdrückt wird, falls Platin als Auskleidematerial für den Glasschmelzofen verwendet wird, das weniger als 20 ppm Osmium, bevorzugt weniger als 10 ppm Osmium enthält.

Die Bildung von Bläschen in optischem Glas (in Fig. 6) kann unterdrückt werden, wenn die Viskosität des optischen Glases im Bereich von 2 × 10² bis 2 × 10⁶ Poise liegt, wie im Falle von LCD-Glas (in Fig. 4), für welches die Bildung von Bläschen effektiv und ökonomisch unterdrückt werden kann, wenn dessen Viskosität im gleichen Bereich wie oben liegt.

Dementsprechend kann die Bildung von Bläschen in jeder Art von Glas unterdrückt werden, solange die Viskosität im Bereich von 2 × 10² bis 2 × 10⁶ Poise liegt und der Osmiumgehalt weniger als 20 ppm, bevorzugt weniger als 10 ppm beträgt.

Nebenbei bemerkt, zeigen die oben erwähnten beiden Arten von Glas ihre niedrigste Viskosität bei Temperaturen, die ihren Läuterungs/Fein schmelz-Temperaturen entsprechen.

Um zu sehen, ob die Ergebnisse der oben erwähnten Experimente 1 und 2 (Labortests) auf einen tatsächlichen Betrieb anwendbar sind, wurde Experiment 3 mit richtiger Ausrüstung durchgeführt.

Experiment 3

Glas-Rohmaterialien: wie in Tabelle 2 gezeigt oder die gleiche wie in Experiment 1.

Ausrüstung: wie in Fig. 2 gezeigt. Platin wie unten spezifiziert ist zum Auskleiden des Läuterungs/Feinschmelz-Tanks, Homogenisiertanks, Mischtanks, der Formungseinheit und der Verbindungsstücke (den Schmelztank ausgenommen) verwendet.

Platin: Als Vereinunreinigungen 20 ppm Osmium, 4 ppm Arsen und 5 ppm Iridium enthaltend.

Schmelztank: durch natürliches Gas und elektrischen Booster auf etwa 1600-1650°C erhitzt, um kontinuierlich zugeführte Glas-Rohmaterialien zu schmelzen.

Läuterung/Feinschmelz-Tank: durch natürliches Gas und elektrischem Booster auf etwa 1600°C erhitzt, um mit der Hilfe von in den Glas-Rohmaterialien enthaltenem As₂O₃ eine Läuterung/ein Feinschmelzen zu bewirken.

Homogenisiertank: elektrisch auf etwa 1500°C erhitzt.

Mischtank: durch Platinrührer bei 1500°C gerührt. Formungseinheit: dafür bestimmt, Tafelglas mit einer Weite von etwa 1000 mm und einer Dicke von etwa 0,7 mm zu formen.

Während des Betriebs vom Anfang an wurde das resultierende Tafelglas hinsichtlich der Anzahl von Bläschen pro Einheitsgewicht darin untersucht. Es dauerte etwa fünf Tage, damit die Anzahl von Bläschen von 10 pro kg auf 1 pro kg abnahm.

Hiernach nahm die Anzahl von Bläschen weiter auf einen konstanten Wert von 0 bis 0,3 pro kg ab. Dieser Wert zeigt an, daß das Tafelglas für die Verwendung als ein LCD-Substrat-Glas befriedigend ist.

Die Ergebnisse des Experiments 3 ergaben, daß 20 ppm Osmium enthalten des Platin zur Herstellung von hochqualitativen Glasprodukten mit sehr wenig Bläschen beiträgt.

Aus den Ergebnissen der Experimente 1 und 3 wird geschlossen, daß der Gehalt an Osmium in Platin bevorzugt nicht mehr als 10 ppm betragen sollte, um die Anzahl von Bläschen zu reduzieren.

Experiment 4

Zum Vergleich mit Experiment 3 wurde dieses Experiment durchgeführt unter Verwendung von 50 ppm Osmium enthaltendem Platin industrieller Qualität.

Die Glasschmelz- und Formungsausrüstung, die in diesem Experiment verwendet wurde, ist in Struktur und Maßstab identisch zu derjenigen, die in Experiment 3 verwendet wurde. Es wurde kontinuierliches Tafelglas (etwa 1000 mm breit) erzeugt und auf Größe geschnitten. Die Zusammen setzung der Glas-Rohmaterialien war wie in Tabelle 2 gezeigt.

Der Läuterungs/Feinschmelz-Tank und die Formungseinheit waren mit Platin ausgekleidet, das als Verunreinigungen 50 ppm Osmium, 4 ppm Arsen und 6 ppm Iridium enthält.

Während des Betriebs vom Anfang an wurde das resultierende Tafelglas auf die Anzahl von Bläschen pro Einheitsgewicht darin untersucht. Es brauchte etwa 1 Monat, damit die Anzahl von Bläschen von etwa 100 pro kg zu 1 pro kg abnahm. Hiernach nahm die Anzahl von Bläschen nicht weiter ab.

Dies bedeutet, daß bei Experiment 4 eine sechsmal so lange Auf wärm-Periode (Hochfahr-Periode) als bei Experiment 3 (fünf Tage) nötig war.

Die kurze Aufwärmperiode wie in Experiment 3 ist ökonomisch vorteilhaft angesichts der Tatsache, daß die Lebensdauer des Platins (in Kontakt mit geschmolzenem Glas bei hoher Temperatur im Läuterungs/Feinschmelz-Tank und der Formungseinheit) üblicherweise kürzer als 1 Jahr ist (in Ab hängigkeit von den Betriebsbedingungen).

Die Experimente 3 und 4 sind dafür bestimmt, Experiment 1 durch tatsächlichen Betrieb zu verifizieren. Es wurde bestätigt, daß Experiment 2 auch auf einen tatsächlichen Betrieb anwendbar ist, wenn auch die Erklärung hier weggelassen ist.

Das vorangehende demonstriert, daß das Auskleidungsmaterial für den Glasschmelzofen Platin oder eine Platinlegierung sein sollte, die nicht mehr als 20 ppm, bevorzugt nicht mehr als 10 ppm Osmium enthalten.

Experiment 5

Dieses Experiment bezieht sich auf die Reinigung von Platin, das als Auskleidematerial für Glasschmelzöfen zu verwenden ist.
Größe der Probe: 30×30×1,2 mm
Material der Probe: Platin
Osmiumgehalt: 30 ppm
Apparat zur Reinigung: elektrischer Ofen
Dauer der Reinigung: 100 Stunden und 360 Stunden.

Es wurde eine Probe von Platin, das 30 ppm Osmium enthielt, in einem elektrischen Ofen auf 1600°C oder 1700°C erhitzt und es wurde der Gehalt von Osmium darin in gewissen Intervallen bestimmt.

In dem Diagramm der Fig. 7 ist der Osmiumgehalt (Ordinate) über der Zeit (Abszisse) dargestellt.

Es ist zu vermerken, daß es im Falle des Erhitzens auf (bei) 1600°C 360 Stunden brauchte, bis der Osmiumgehalt auf 20 ppm (gewünschter Wert) abnahm, während im Falle des Erhitzens auf (bei) 1700°C der Osmiumge halt auf 20 ppm innerhalb von 260 Stunden und auf 17 ppm innerhalb von 360 Stunden abnahm.

Mit anderen Worten brauchte die Abnahme des Osmiumgehalts um 10 ppm 260 Stunden (11 Tage) durch Erhitzen auf 1700°C und 360 Stunden (15 Tage) durch Erhitzen auf 1600°C.

Osmium in Platin liegt üblicherweise in der Form von Metall vor. Beim Erhitzen in einer oxidierenden Atmosphäre wandelt sich das Osmium in der Oberflächenschicht des Platins in Osmiumoxid (OsO₄) um, das bei 131°C (Siedepunkt) verdampft und verlorengeht. Dann diffundiert Osmium von Inneren nach außen und oxidiert in der Oberflächenschicht.

Die fortwährende und gleichzeitige Diffusion und Verdampfung hat zur Folge, daß Osmium aus dem Platin verschwindet. Die Tatsache, daß die Energie für die Diffusion viel größer als die Energie für die Verdampfung ist, ist ein denkbarer Grund dafür, daß die für die Behandlung (Reinigung) benötigte Periode umso kürzer ist, je größer die Erwärmungstemperatur ist.

Unter der Annahme, daß industrielles Platin Osmium in einer maximalen Menge von 84 ppm enthält (wie in Tabelle 1 oben gezeigt), ist es notwen dig, den Osmiumgehalt um 64 ppm (von 84 ppm auf 20 ppm) zu ver mindern. Die zum Erreichen dieses Ziels benötigte Zeit würde einfach als 70 Tage (11 Tage multipliziert mit 6,4) im Falle der Erhitzung auf 1700°C oder 96 Tage (15 Tage multipliziert mit 6,4) im Falle der Erhitzung auf 1600°C berechnet werden.

Der gleiche Effekt wie oben wird erhalten, indem auf 1500°C oder 1400°C erhitzt wird, und die Länge der Erhitzungszeit verdoppelt ist. Deshalb ist das Erhitzen auf 1600°C oder 1700°C wünschenswert, um Zeit für die Reinigung zu sparen, wie in Experiment 5 gezeigt ist.

Eine Alternative dazu, gekauftes Platin oder eine gekaufte Platinlegierung zu reinigen, wie oben erwähnt, liegt darin, Platin oder eine Platinlegierung zu kaufen, die nahezu frei von Osmium ist, da der Lieferer von Platin-Bullion Osmium im Stadium der Raffination (Läuterung) eliminieren kann.

Das Verfahren der vorliegenden Erfindung ist für die Herstellung von Elektronik-Glas geeignet, damit dieses nahezu vollständig frei von Bläschen ist. Die Abwesenheit von Bläschen führt zu einer hohen Transparenz und unverzerrten Bildern.

Das Verfahren der vorliegenden Erfindung ist insbesondere für die Her stellung von LCD-Substrat-Glas geeignet. Die Abwesenheit von Bläschen beseitigt die Möglichkeit von Schaltungsbruch.

Das Verfahren der vorliegenden Erfindung ist auch für die Herstellung von alkalifreiem Aluminiumborsilikat-Glas. Die Abwesenheit von Bläschen führt zu einer hohen Transparenz und unverzerrten Bildern.

Es ist ersichtlich, daß die Bildung von Bläschen verhindert werden kann, falls Platin oder eine Platinlegierung wie in der vorliegenden Erfindung spezifiziert zum Auskleiden desjenigen Teils des Glasschmelzofens oder der Glasformungseinheit verwendet wird, der mit geschmolzenem Glas in Kontakt kommt. Ob die Einrichtung vollständig ausgekleidet oder nur teilweise ausgekleidet wird, ist ins freie Ermessen gestellt.

Natürlich sind verschiedene geringe Änderungen und Modifikation der vorliegenden Erfindung angesicht der obigen Lehre möglich. Es versteht sich deshalb, daß die Erfindung innerhalb des Bereiches der beigefügten Ansprüche der vorliegenden Erfindung anders ausgeführt werden kann als speziell beschrieben wurde.

Ein Auskleidematerial für Glasschmelzöfen umfaßt Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm. Das Auskleidematerial wird für den Teil des Schmelzofens verwendet, der mit geschmolzenem Glas in Kontakt kommt. Der geringe Osmiumgehalt verhindert die Bildung von Bläschen im geschmolzenem Glas, wodurch hochqualitative Glasprodukte bereitgestellt werden.

Claims

1. Auskleidematerial für Glasschmelzöfen (1), umfassend Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm.

2. Auskleidematerial für Glasschmelzöfen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

3. Glasschmelzofen (1), der wenigstens an einem Teil in Kontakt mit geschmolzenem Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegie rung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Ver unreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt.

4. Glasschmelzofen nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

5. Glasschmelzofen nach Anspruch 3 oder 4, gekennzeichnet durch einen Schmelztank (2), in dem Glas-Rohmaterialien geschmolzen werden, einen Läuterungs/Feinschmelz-Tank (3), in dem ge schmolzenes Glas eine Läuterung/Feinschmelz-Behandlung durchmacht und eine Formungseinheit (6), in der geschmolzenes Glas zu Tafelglas gezogen und geformt wird, wobei wenigstens die Formungseinheit mit dem Auskleidematerial ausgekleidet ist.

6. Glasschmelzofen nach Anspruch 3, 4 oder 5, gekennzeichnet durch einen Schmelztank (2), in dem Glas-Rohmaterialien geschmolzen werden, einen Läuterungs/Feinschmelz-Tank (3), in dem geschmolzenes Glas eine Läuterungs/Feinschmelz-Behand lung durch macht und eine hintere Einrichtung zum Homogenisie ren, Mischen und Formen von geläutertem/fein geschmolzenem Glas, wobei die hintere Einrichtung mit dem Auskleidematerial ausgekleidet ist.

7. Glasschmelzofen nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Läuterungs/Feinschmelz-Tank (3) mit dem Auskleidematerial ausgekleidet ist.

8. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten, umfassend die Schritte: Läutern/Feinschmelzen von geschmolzenem Glas in einem Läuterungs/Feinschmelz-Tank (3); Homogenisieren des geschmolzenen Glases vom Läuterungs/Feinschmelz-Tank (3) bei einer vorbestimmten gleichmäßigen Temperatur in einem Homogenisiertank (4); und Formen des geschmolzenen Glases vom Homogenisiertank (4) zu Tafelglas in einer Formungseinheit (6), wobei der Läuterungs/Feinschmelz-Tank wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenen Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthal tend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt, so daß die Wand während des Läuterns/Feinschmelzens keine Bläschen entwickelt, wobei der Homogenisiertank (4) wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenen Glas mit einem Auskleidemate rial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt, so daß die Wand während der Homogenisierung keine Bläschen entwickelt, und wobei die Formungseinheit (6) wenig stens an einer Wand derselben in Kontakt mit dem geschmolze nen Glas mit einem Material für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt, so daß die Wand während dem Formen keine Bläschen entwickelt.

9. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

10. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 8 oder 9, gekennzeichnet durch den Schritt des Schmelzens von Glas in einem Schmelztank (2) vor dem Läuterungs/Feinschmelz-Schritt, wobei der Schmelztank wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenen Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt, so daß die Wand während dem Schmelzen keine Bläschen entwickelt.

11. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt von Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

12. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach einem der Ansprüche 8 bis 11, gekennzeichnet durch den Schritt des Mischens des geschmolzenen Glases in einem Mischtank (5) vor dem Formungsschritt, wobei der Mischtank (5) wenigstens an einer Wand desselben in Kontakt mit dem geschmolzenen Glas mit einem Auskleidematerial für Glasschmelzöfen ausgekleidet ist, das Platin oder eine Platinlegierung als ein Basismaterial enthaltend Osmium als eine Verunreinigung in einer Menge von nicht mehr als 20 ppm umfaßt, so daß die Wand während des Mischens keine Bläschen entwickelt.

13. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

14. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach einem der Ansprüche 8 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Glas produkte solche für Elektronikteile sind.

15. Prozeß zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasprodukte für Elektronikteile Glassubstrate für Flüssigkristallanzeigen sind.

16. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukte nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasprodukte für Elektronikteile im wesentlichen alkalifreies Aluminiumbor silikat-Glas sind.

17. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukte nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasprodukte solche für Elektronikteile sind.

18. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasprodukte für Elektronikteile Glassubstrate für Flüssigkristallanzeigen sind.

19. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasprodukte für Elektronikteile im wesentlichen alkalifreies Aluminiumborsilikat-Glas sind.

20. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach einem der Ansprüche 8 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß das ge schmolzene Glas derart präpariert wird, daß seine Viskosität 2 × 10⁶ Poise nicht überschreitet.

21. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach einem der Ansprüche 8 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß das ge schmolzene Glas derart präpariert wird, daß seine Viskosität nicht unter 2 × 10² Poise fällt.

22. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß das geschmolzene Glas derart präpariert wird, daß seine Viskosität nicht unter 7 × 10 Poise fällt, soweit die Glasprodukte Produkte aus optischem Glas sind.

23. Verfahren zum Erzeugen von Glasprodukten nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehalt an Osmium nicht mehr als 10 ppm beträgt.

24. Verfahren zum Reinigen eines Auskleidematerials für Glas schmelzöfen, umfassend die Schritte: Bereitstellen von Osmium enthaltendem Platin oder einer Osmium enthaltenden Platinlegie rung, und Halten des Osmium enthaltenen Platins bzw. der Osmium enthaltenen Platinlegierung für eine vorbestimmte Zeitperiode auf einer Temperatur höher als eine Temperatur, bei der Osmiumoxid verdampft, so daß der Gehalt an Osmium wenigstens in einer Oberfläche oder deren Umgebung des Platins bzw. der Platinlegierung auf 20 ppm oder weniger abnimmt.