DE19827602A1 - Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler - Google Patents
Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer BildfehlerInfo
- Publication number
- DE19827602A1 DE19827602A1 DE19827602A DE19827602A DE19827602A1 DE 19827602 A1 DE19827602 A1 DE 19827602A1 DE 19827602 A DE19827602 A DE 19827602A DE 19827602 A DE19827602 A DE 19827602A DE 19827602 A1 DE19827602 A1 DE 19827602A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- elements
- optical element
- peltier elements
- lens
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/02—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
- G02B7/028—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
- G03B27/53—Automatic registration or positioning of originals with respect to each other or the photosensitive layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
- G03F7/70266—Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control, e.g. for aberration adjustment or correction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/01—Manufacture or treatment
Abstract
Bei einem Verfahren zur Korrektur nichtrotationssymmetrischer Bildfehler bei einer Baugruppe, z. B. einem Objektiv (3) mit optischen Elementen, insbesondere Linsen (1), werden an mindestens einem der optischen Elemente (1) über dessen Umfang verteilt mehrere Peltierelemente (6) angeordnet, die zur Beeinflussung der Temperaturverteilung in dem optischen Element (1) unterschiedlich elektrisch angesteuert werden. Zwischen den Peltierelementen (6) und dem optischen Element (1) wird jeweils eine temperaturleitende Verbindung (4 bzw. 10) hergestellt. Die Erfindung betrifft auch ein Objektiv mit optischen Elementen, insbesondere Linsen (1), und mit Peltierelementen (6).
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Korrektur nicht-rota
tionssymmetrischer Bildfehler nach dem Oberbegriff von Anspruch
1. Die Erfindung betrifft weiterhin auch ein Objektiv mit opti
schen Elementen, insbesondere Linsen, und mit einer Kühlein
richtung. Des weiteren bezieht sich die Erfindung auf eine Pro
jektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie.
Es ist bekannt, daß "Lens-Heating"-Effekte unter anderem zu
nicht-rotationssymmetrischen Temperaturverteilungen in opti
schen Elementen, insbesondere in Linsen von Halbleiterlithogra
phie-Objektiven führen. Nicht-rotationssymmetrische Temperatur
verteilungen ergeben jedoch optische Bildfehler, wie Astigma
tismus in der Achse und Anamorphismus in der Verzeichnung (Δβ).
Durch geeignete geometrische Anordnungen von wärmeabführenden
Kontaktstellen, insbesondere am Linsenumfang, könnte man einen
statischen Zustand einer nicht-rotationssymmetrischen Tempera
turverteilung korrigieren. Es wurde jedoch festgestellt, daß
die Lens-Heating-Effekte ein sehr ausgeprägtes dynamisches Ver
halten aufweisen. Insbesondere die Amplituden der Effekte sind
sehr stark zeitabhängig, während die Zeitkonstanten relativ
lang sind und zwar in der Größenordnung von mehreren Minuten
liegen. Aus diesem Grunde ist es zur Beseitigung der vorstehend
genannten optischen Bildfehler erforderlich eine dynamische
bzw. variabel einstellbare Temperaturverteilung zu schaffen,
die rasch und zuverlässig den nicht-rotationssymmetrischen Tem
peraturverteilungen in dem optischen Element entgegenwirken
kann.
Aus der EP 0 678 768 sind bereits Maßnahmen zur Korrektur rota
tions-asymmetrischer optischer Effekte, die durch Bestrahlung
verursacht werden, bekannt. Hierzu werden unter anderem Maßnah
men zur Erzeugung rotationssymmetrischer Temperaturverteilungen
genannt, wozu Kühl- und Heizeinrichtungen, z. B. Widerstands
drähte und Gasströme, vorgeschlagen werden. Die Erzeugung rota
tionssymmetrischer Temperaturverteilungen ist jedoch nicht un
bedingt Voraussetzung um Lens-Heating-Effekte kompensieren zu
können. Die vorbekannte Einrichtung ist jedoch zum einen rela
tiv umständlich und aufwendig und zum anderen läßt sie keine
ausreichende Dynamik bezüglich Änderungen einer Temperaturver
teilung zu.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
ein Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bild
fehler bei einer Baugruppe, z. B. einem Objektiv mit optischen
Elementen zu schaffen, wobei mit einfachen Maßnahmen dynamisch
bzw. variabel einstellbare Temperaturverteilungen zur Kompensa
tion der negativen Lens-Heating-Effekte in einem optischen Ele
ment erzeugt werden können, wobei diese Temperaturverteilungen
mit einfachen Maßnahmen rasch und zuverlässig erreicht werden
sollen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden
Teil von Anspruch 1 genannten Verfahrensschritte gelöst.
In überraschender Weise hat sich nämlich herausgestellt, daß
Peltier-Elemente für die Lösung der gestellten Aufgabe beson
ders geeignet sind, wenn sie entsprechend den erfindungsgemäßen
Maßnahmen eingesetzt werden.
Bekanntlich führt bei Peltier-Elementen ein Stromfluß durch
eine Kontaktstelle zwischen zwei unterschiedlichen Materialien
in einer Richtung zu einer Abkühlung der Kontaktstelle, eine
Umpolung des Stromflusses führt dagegen zu einer Erwärmung der
Kontaktstelle.
Zwar ist es bereits bekannt diesen Effekt von Peltier-Elementen
zur Kühlung von Einrichtungen einzusetzen (siehe z. B. WO
97/14077 für Wafer-chucks), da aber die beim "Lens-Heating" aus
einem optischen Element, insbesondere einer Linse, einer Pro
jektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie abzuführende
Wärmemenge sehr hoch ist, nämlich im Wattbereich, war man der
Annahme, daß Peltier-Elemente für die Beseitigung derartiger
Lens-Heating-Effekte nicht ausreichend geeignet wären. Es hat
sich jedoch herausgestellt, daß bei einer entsprechenden Anzahl
von Peltier-Elementen in Verbindung mit einer spezifischen An
steuerung eine derart dynamisch einstellbare Temperaturvertei
lung in dem optischen Element rasch und zuverlässig eingestellt
werden kann, daß die nachteiligen Wirkungen der Lens-Heating-
Effekte beseitigt werden können. Auch die relativ hohe anfal
lende Wärmemenge kann innerhalb kurzer Zeit abgeführt werden.
Es wurde nämlich festgestellt, daß durch die spezifische Steu
erbarkeit von Peltier-Elementen und deren Zwei-Richtungs-Eig
nung, d. h. deren Umstellung zwischen Kühlen und Heizen, auf das
zum Teil rasche dynamische Verhalten der Lens-Heating-Effekte
optimal eingegangen werden kann. Peltier-Elemente lassen sich
durch Umpolen der elektrischen Versorgung zwischen Kühlen und
Heizen umschalten. Dies bedeutet, ohne ein Zwischenschalten von
mechanisch beweglichen Komponenten kann sehr schnell und exakt
auf Temperaturunterschiede und sich ändernde Temperaturvertei
lungen reagiert werden.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich die gewünschten
Temperaturverteilungen mit einfachen Maßnahmen rasch und zuver
lässig erreichen. Dies ist insbesondere dann der Fall, wenn nur
bestimmte Bildfehler, z. B. Bildfehler niederer Ordnung, korri
giert werden sollen.
Ein weiterer sehr bedeutender Vorteil der Erfindung besteht
darin, daß im Bedarfsfalle auch "Überkompensierungen" und die
zusätzliche Kompensation von Fertigungsfehlern möglich ist.
Anstelle von einer Symmetriesierung von mehreren einzelnen Lin
sen, wie es beim Stand der Technik der Fall ist, kann man auch
einzelne Linsen "überkompensieren", d. h. die Temperaturvertei
lung bzw. Deformation bewußt "in eine andere Richtung" unsymme
trisch zu machen. Auf diese Weise ergibt sich dann insgesamt
gesehen eine Kompensierung des ganzen Objektives oder der Be
lichtungsanlage.
Bezüglich einer Kompensation von Fertigungsfehlern gibt es zwei
Varianten, nämlich eine gleichzeitige Kompensation zufälliger
Fertigungsfehler und ein absichtlicher Einbau eines festen Vor
halts, um die benötigten Korrekturbeträge zu halbieren.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist auch eine gleichzeitige
Kompensation von Lens Heating und von Compaction Effekten des
optischen Elementes möglich.
Eine konstruktive Lösung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens bei einer Baugruppe, z. B. einem Objektiv mit opti
schen Elementen, insbesondere Linsen, ist in Anspruch 2 ge
nannt.
Die Peltier-Elemente können dabei regelmäßig oder auch unregel
mäßig über den Umfang des optischen Elementes angeordnet sein.
Wesentlich ist, daß sie beliebig bzw. unterschiedlich elekt
risch angesteuert werden, um die Temperaturverteilung in dem
optischen Element in gewünschter Weise beeinflussen zu können.
Dabei ist lediglich dafür zu sorgen, daß sehr gut wärmeleitende
Verbindungsglieder zwischen den Peltier-Elementen und dem opti
schen Element vorgesehen sind, damit eine gute Wärme- bzw. Käl
teleitung zwischen den Peltier-Elementen und dem optischen Ele
ment erreicht wird.
Für die Ausgestaltung der wärmeleitenden Verbindungsglieder
sind verschiedene Lösungen denkbar. In einfacher Weise kann man
hierzu die Fassung oder Halterung des optischen Elementes ver
wenden. Ebenso ist es jedoch auch möglich, die Peltier-Ele
mente separat von einer Fassung oder Halterung anzuordnen und
entsprechende wärmeleitende Verbindungsglieder zwischen den
Peltier-Elementen und dem optischen Element vorzusehen.
Zur Ableitung der abgeführten Wärme wird man die Peltier-Ele
mente zusätzlich mit entsprechenden Wärmekopplungsgliedern ver
sehen, die die Wärme nach außen abführen.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den
nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen
Ausführungsbeispielen.
Es zeigt:
Fig. 1 eine Linse als optisches Element eines Objektives,
wobei Peltier-Elemente auf einer Fassung der Linse
angeordnet sind (ohne Wärmekopplungsglieder);
Fig. 2 einen Schnitt nach der Linie II-II der Fig. 1;
Fig. 3 eine Linse als optisches Element eines Objektives,
wobei Peltier-Elemente direkt an die Linse angekop
pelt sind;
Fig. 4 einen Schnitt nach der Linie IV-IV der Fig. 3.
Eine Linse 1 als optisches Element ist über eine Fassung bzw.
Halterung 2 in einem nicht näher dargestellten Objektiv 3, von
dem nur ein Wandabschnitt dargestellt ist, in bekannter Weise
angeordnet. Die Fassung 2 ist mit mehreren über deren Umfang
verteilten und nach innen gerichteten Linsenauflagen 4 verse
hen, durch die in Verbindung mit einem Kleber 5 die Linse 1
gehalten ist.
An bzw. auf der Fassung 2 sind über dem Umfang der Fassung 2
verteilt eine Vielzahl von Peltier-Elementen 6 angeordnet, wel
che jeweils mit Stromanschlüssen 7 und 8 für + und - versehen
sind. Auf der von der Fassung 2 abgewandten Seite der Peltier-
Elemente 6 ist jeweils ein Wärmekopplungsglied 9 vorgesehen,
durch das eine Wärmeabfuhr zur Außenseite erfolgt. Entsprechend
der Höhe der jeweiligen Eingangsströme bzw. Spannung zu den
Peltier-Elementen 6 ergibt sich auf der zu der Fassung 2 ge
richteten Seite der Peltier-Elemente 6 ein Kühleffekt, der über
die Linsenauflagen 4 in die Linse 1 eingeleitet wird. Da die
Peltier-Elemente 6 jeweils einzeln oder auch in Gruppen mit
unterschiedlichen Stromstärken bzw. Spannungen ansteuerbar
sind, kann in optimaler Weise auf die Temperaturverteilung in
der Linse 1 derart eingewirkt werden, daß die durch die Lens-
Heating-Effekte erzeugten nicht-rotationssymmetrischen Tempera
turverteilungen kompensiert werden können. Durch eine zusätzli
che Umschaltmöglichkeit der Polung von einzelnen oder mehreren
Peltier-Elementen 6 kann noch schneller auf sich ändernde Tem
peraturverteilungen in der Linse 1 reagiert werden. Bei einer
entsprechenden Umschaltung kann nämlich durch einzelne Peltier-
Elemente 6 auch eine Heizwirkung über die Fassung 2 auf die da
zugehörige Linsenauflage 4 in Richtung auf die Linse 1 erzeugt
werden.
Aufgrund dieser hohen Variabilität der Peltier-Elemente 6
(Kühlen/Heizen über Polung der Spannung und der Stromstärke
einstellbar) können beliebige Temperaturprofile, d. h. nicht nur
rotationssymmetrische Profile, eingestellt werden, so daß die
optische Wirkung des optischen Elementes, in diesem Falle der
Linse 1, gemäß der aktuell eingestellten Temperaturverteilung
variabel eingestellt werden kann; z. B. astigmatische Wirkung
mit beliebiger Amplitude und Richtung, aber auch Kompensation
oder Überkompensation eines - dynamischen - Astigmatismus.
Darüber hinaus können im Bedarfs falle auch asymmetrische Profi
le - evtl. zum Vorhalt gegenüber anderer Linsenelemente im Ob
jektiv, zur Kompensation von Off-Axis-Feldern oder zur Kompen
sation von Fertigungs-Homogenitätsfehlern - eingestellt werden.
Bei dem Ausführungsbeispiel nach den Fig. 1 und 2, wobei die
Fassung 2 die zusätzliche Funktion eines wärmeleitenden Verbin
dungsgliedes übernimmt, wird durch die Peltier-Elemente 6 zwar
keine eventuell störende Kraft auf die Linse erzeugt, aller
dings kann auf Temperaturdifferenzen nur langsamer und weniger
sensitiv reagiert werden.
In der Ausführungsform nach den Fig. 3 und 4 ist eine Ausge
staltung dargestellt, wobei die Peltier-Elemente 6 direkt an
die Linse 1 angekoppelt sind, womit sehr schnell und sensitiv
auch auf kleine Temperaturdifferenzen reagiert werden kann.
Wie ersichtlich, sind dabei die Peltier-Elemente 6 unabhängig
von der Fassung 2 und den Linsenauflagen 4 angeordnet. Aus die
sem Grunde sind separate wärmeleitende Verbindungsglieder 10
zwischen den über den Umfang der Linse 1 verteilt angeordneten
Peltier-Elementen 6 und der Linse 1 vorzusehen, die einen ent
sprechend guten Kontakt zwischen diesen beiden Teilen herstel
len. Auf den von den wärmeleitenden Verbindungsgliedern 10 ab
gewandten Seiten der Peltier-Elemente 6 ist jeweils ein Wärme
kopplungsglied 9 vorgesehen, das dem Wärmekopplungsglied 9 nach
dem Ausführungsbeispiel nach den Fig. 1 und 2 entspricht und
über das die Wärme nach außen abgeleitet wird.
Wie aus der Fig. 4 ersichtlich ist, können die Verbindungsglie
der 10 auf ihren von den Linsenauflagen 4 abgewandten Seiten
mit zur Linse 1 gerichteten Nasen 11 versehen sein, womit zum
einen die Wärme- bzw. Kälteübergangsfläche vergrößert wird und
zum anderen eine zusätzliche Einfassung für die Linse 1 ge
schaffen wird.
Claims (12)
1. Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bild
fehler bei einer Baugruppe mit optischen Elementen, insbe
sondere Linsen, dadurch gekennzeichnet, daß an mindestens
einem der optischen Elemente (1) über dessen Umfang ver
teilt mehrere Peltier-Elemente (6) angeordnet werden, die
zur Beeinflussung der Temperaturverteilung in dem optischen
Element unterschiedlich elektrisch angesteuert werden kön
nen, und daß zwischen den Peltier-Elementen (6) und dem op
tischen Element (1) wärmeleitende Verbindungen hergestellt
werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Peltier-Elemente (6) wahlweise ein optisches Element (1)
kühlen oder heizen.
3. Baugruppe mit optischen Elementen, insbesondere Linsen, und
mit einer Temperiereinrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß
an mindestens einem der optischen Elemente (1) über dessen
Umfang verteilt mehrere Peltier-Elemente (6) angeordnet
sind, die unterschiedlich ansteuerbar sind, und daß zwi
schen den Peltier-Elementen (6) und dem optischen Element
(1) wärmeleitende Verbindungsglieder (4, 10) angeordnet
sind.
4. Baugruppe nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Peltier-Elemente (6) mit nach außen gerichteten Wärmekopp
lungsgliedern (9) versehen sind.
5. Baugruppe nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Peltier-Elemente (6) auf einer Fassung oder Halte
rung (2) des optischen Elementes (1) angeordnet sind.
6. Baugruppe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Fassung oder Halterung (2) als wärmeleitendes Verbindungs
glied ausgebildet ist.
7. Baugruppe nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Fassung oder Halterung (2) jeweils im Bereich eines Pel
tier-Elementes (6) mit einer Linsenauflage (4) versehen
ist, die das wärmeleitende Verbindungsglied bildet.
8. Baugruppe nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Peltier-Elemente (6) über Wärmekopplungsglieder
(10), die jeweils zwischen einem Peltier-Element (6) und
dem optischen Element (1) angeordnet sind, direkt an das
optische Element (1) angekoppelt sind.
9. Baugruppe nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Peltier-Elemente (6) jeweils auf ihrer von dem optischen
Element (1) abgewandten Seite mit einem nach außen gerich
teten Wärmekopplungsglied (9) versehen sind.
10. Baugruppe nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Wärmekopplungsglieder (10) mit zu dem optischen
Element (1) gerichteten Nasen (11) versehen sind.
11. Baugruppe nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Objektiv, insbesondere
ein Projektionsobjektiv der Mikrolithographie, ist.
12. Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit ei
ner Baugruppe (3) nach einem der Ansprüche 3 bis 11 mit
mindestens einem mit Piezo-Elementen (6) versehenen opti
schen Element (1).
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19827602A DE19827602A1 (de) | 1998-06-20 | 1998-06-20 | Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler |
DE59912614T DE59912614D1 (de) | 1998-06-20 | 1999-05-27 | Verfahren zur Korrektur nichtrotationssymmetrischer Bildfehler |
EP99110255A EP0965871B1 (de) | 1998-06-20 | 1999-05-27 | Verfahren zur Korrektur nichtrotationssymmetrischer Bildfehler |
KR1019990020235A KR100579880B1 (ko) | 1998-06-20 | 1999-06-02 | 비회전 대칭인 상 오차를 보정하는 방법 및 광학소자와 온도 조절 장치를 구비하는 부품 그룹 |
TW088110137A TW442668B (en) | 1998-06-20 | 1999-06-17 | Method of error correction |
US09/336,341 US6198579B1 (en) | 1998-06-20 | 1999-06-18 | Process for the correction of non-rotationally-symmetrical image errors |
JP11174612A JP2000066077A (ja) | 1998-06-20 | 1999-06-21 | 非回転対称画像誤差の補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19827602A DE19827602A1 (de) | 1998-06-20 | 1998-06-20 | Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19827602A1 true DE19827602A1 (de) | 1999-12-23 |
Family
ID=7871555
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19827602A Withdrawn DE19827602A1 (de) | 1998-06-20 | 1998-06-20 | Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler |
DE59912614T Expired - Lifetime DE59912614D1 (de) | 1998-06-20 | 1999-05-27 | Verfahren zur Korrektur nichtrotationssymmetrischer Bildfehler |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59912614T Expired - Lifetime DE59912614D1 (de) | 1998-06-20 | 1999-05-27 | Verfahren zur Korrektur nichtrotationssymmetrischer Bildfehler |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6198579B1 (de) |
EP (1) | EP0965871B1 (de) |
JP (1) | JP2000066077A (de) |
KR (1) | KR100579880B1 (de) |
DE (2) | DE19827602A1 (de) |
TW (1) | TW442668B (de) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19956353C1 (de) * | 1999-11-24 | 2001-08-09 | Zeiss Carl | Optische Anordnung |
DE10033472A1 (de) * | 2000-07-10 | 2002-01-24 | Metz Elektronik Gmbh | Optisches Gerät |
DE102007027200A1 (de) * | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
DE102007051291A1 (de) * | 2007-10-24 | 2009-04-30 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Adaptierbares optisches System |
DE102010041528A1 (de) | 2010-09-28 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit |
US8325322B2 (en) | 2007-08-24 | 2012-12-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical correction device |
DE102012216286A1 (de) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit optimiertem Messsystem |
US8508854B2 (en) | 2006-09-21 | 2013-08-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
DE102012212758A1 (de) | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Systemkorrektur aus langen Zeitskalen |
DE102013203032A1 (de) * | 2013-02-25 | 2014-02-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung mit einem optischen Element und einem zusätzlichen Wärmeleitelement |
US9366977B2 (en) | 2009-05-16 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Semiconductor microlithography projection exposure apparatus |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997042879A1 (en) * | 1996-05-14 | 1997-11-20 | Embol-X, Inc. | Aortic occluder with associated filter and methods of use during cardiac surgery |
DE19930643C2 (de) * | 1999-07-02 | 2002-01-24 | Zeiss Carl | Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung |
DE10050125A1 (de) | 2000-10-11 | 2002-04-25 | Zeiss Carl | Vorrichtung zum Temperaturausgleich für thermisch belastete Körper mit niederer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere für Träger reflektierender Schichten oder Substrate in der Optik |
DE10100546A1 (de) * | 2001-01-08 | 2002-07-11 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Verstellung eines optischen Elementes in einem Objektiv |
JP2005522733A (ja) * | 2002-04-09 | 2005-07-28 | ディーコン エーエス | 光変調エンジン |
US20030235682A1 (en) * | 2002-06-21 | 2003-12-25 | Sogard Michael R. | Method and device for controlling thermal distortion in elements of a lithography system |
JP3905844B2 (ja) * | 2003-01-07 | 2007-04-18 | ペンタックス株式会社 | レンズの熱かしめ構造、熱かしめ方法及び熱かしめ工具 |
US20060107986A1 (en) * | 2004-01-29 | 2006-05-25 | Abramov Vladimir S | Peltier cooling systems with high aspect ratio |
JP2004363559A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-24 | Canon Inc | 光学部材保持装置 |
EP1670041A4 (de) | 2003-08-28 | 2007-10-17 | Nikon Corp | Belichtungsverfahren und -vorrichtung und bauelemente-herstellungsverfahren |
EP1724816A4 (de) * | 2004-02-13 | 2007-10-24 | Nikon Corp | Belichtungsverfahren und -system und bauelementeherstellungsverfahren |
US7436484B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-10-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20080204682A1 (en) * | 2005-06-28 | 2008-08-28 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method |
DE102006034755A1 (de) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Optische Vorrichtung sowie Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung |
US20080049202A1 (en) * | 2006-08-22 | 2008-02-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure apparatus for semiconductor lithography |
DE102006039895A1 (de) * | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Korrektur von durch Intensitätsverteilungen in optischen Systemen erzeugten Abbildungsveränderungen sowie entsprechendes optisches System |
CN101589342A (zh) * | 2007-01-22 | 2009-11-25 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 改善光学系统成像特性的方法以及光学系统 |
DE102008006687A1 (de) | 2007-01-22 | 2008-07-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie optisches System |
DE102008016011A1 (de) * | 2007-03-27 | 2008-10-02 | Carl Zeiss Smt Ag | Korrektur optischer Elemente mittels flach eingestrahltem Korrekturlicht |
WO2008133234A1 (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Nikon Corporation | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法 |
DE102011081259A1 (de) | 2010-09-28 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Spiegeltemperaturmessung und/oder zur thermischen Aktuierung eines Spiegels in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
CN103814331B (zh) | 2011-09-21 | 2016-06-29 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置 |
US9752807B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-09-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and to a reflector apparatus |
EP2875896B1 (de) | 2013-11-22 | 2016-10-05 | SALVAGNINI ITALIA S.p.A. | Laserschneidkopf für Werkzeugmaschine mit einer an dem Kopf fixierten Kühleinrichtung |
US9731381B2 (en) | 2013-11-22 | 2017-08-15 | Salvagnini Italia S.P.A. | Laser cutting head for machine tool |
DE102017205405A1 (de) | 2017-03-30 | 2018-10-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
DE102017009472A1 (de) * | 2017-10-12 | 2019-04-18 | Precitec Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung für ein Laserbearbeitungssystem, Laserbearbeitungssystem mit derselben und Verfahren zum Einstellen einer Fokuslage eines optischen Elements |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4389557A (en) * | 1981-08-17 | 1983-06-21 | Northern Telecom Limited | Semiconductor laser bonding technique |
US5099355A (en) * | 1989-10-02 | 1992-03-24 | Ricoh Company, Ltd. | Optical element having heat control means |
JP3013121B2 (ja) * | 1991-05-10 | 2000-02-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 光波長変換装置 |
DE69220868T2 (de) * | 1991-09-07 | 1997-11-06 | Canon Kk | System zur Stabilisierung der Formen von optischen Elementen, Belichtungsvorrichtung unter Verwendung dieses Systems und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen |
US5353292A (en) * | 1991-10-31 | 1994-10-04 | Hoya Corporation | Laser light wavelength conversion apparatus capable of providing a uniform temperature distribution |
JP2868353B2 (ja) * | 1992-02-10 | 1999-03-10 | 日本電気株式会社 | 光半導体モジュールの製造方法 |
JPH05243588A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-21 | Asahi Glass Co Ltd | 光素子モジュールおよびそれを用いたセンサー |
JPH0645705A (ja) * | 1992-07-24 | 1994-02-18 | Fujitsu Ltd | レーザモジュール |
JPH07120650A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-05-12 | Nikon Corp | 光学装置 |
JPH07288351A (ja) * | 1994-04-19 | 1995-10-31 | Fujitsu Ltd | ペルチェ制御回路及びその素子構造 |
JP3368091B2 (ja) * | 1994-04-22 | 2003-01-20 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP3212818B2 (ja) * | 1994-12-28 | 2001-09-25 | シャープ株式会社 | 電子冷却装置 |
EP0732781B1 (de) * | 1995-03-14 | 2002-12-18 | Brown & Sharpe Tesa S.A. | Element mit einem geregelten Diodenlaser, und elektrooptische Vorrichtung unter Verwendung eines derartigen Elements |
US5671307A (en) * | 1995-04-10 | 1997-09-23 | Universite Laval | Use of a temperature gradient to impose a chirp on a fibre bragg grating |
JP3526042B2 (ja) * | 1995-08-09 | 2004-05-10 | 株式会社ニコン | 投影露光装置 |
US5883704A (en) * | 1995-08-07 | 1999-03-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus wherein focusing of the apparatus is changed by controlling the temperature of a lens element of the projection optical system |
AU7438296A (en) | 1995-10-12 | 1997-04-30 | Magapanel Corporation | Magnification control and thermal substrate chuck for photolithography |
KR100370052B1 (ko) * | 1996-01-05 | 2003-03-26 | 엘지전자 주식회사 | 광 파이버를 이용한 초소형 광원소자 |
US6002695A (en) * | 1996-05-31 | 1999-12-14 | Dpss Lasers, Inc. | High efficiency high repetition rate, intra-cavity tripled diode pumped solid state laser |
JPH1092722A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-10 | Nikon Corp | 露光装置 |
US5805271A (en) * | 1996-10-24 | 1998-09-08 | Carl Zeiss, Inc. | Refractively corrected, wavelength selective, transparent occluder for a non-tested eye for visual field testing |
-
1998
- 1998-06-20 DE DE19827602A patent/DE19827602A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-05-27 EP EP99110255A patent/EP0965871B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-27 DE DE59912614T patent/DE59912614D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-02 KR KR1019990020235A patent/KR100579880B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-06-17 TW TW088110137A patent/TW442668B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-06-18 US US09/336,341 patent/US6198579B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-21 JP JP11174612A patent/JP2000066077A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6521877B1 (en) | 1999-11-24 | 2003-02-18 | Carl-Zeiss-Stiftung | Optical arrangement having improved temperature distribution within an optical element |
DE19956353C1 (de) * | 1999-11-24 | 2001-08-09 | Zeiss Carl | Optische Anordnung |
DE10033472A1 (de) * | 2000-07-10 | 2002-01-24 | Metz Elektronik Gmbh | Optisches Gerät |
US8891172B2 (en) | 2006-09-21 | 2014-11-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
EP2650730A2 (de) | 2006-09-21 | 2013-10-16 | Carl Zeiss SMT GmbH | Optisches Element und Verfahren |
US8508854B2 (en) | 2006-09-21 | 2013-08-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
DE102007027200A1 (de) * | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie |
US8325322B2 (en) | 2007-08-24 | 2012-12-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical correction device |
DE102007051291A1 (de) * | 2007-10-24 | 2009-04-30 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Adaptierbares optisches System |
DE102007051291B4 (de) * | 2007-10-24 | 2010-02-11 | Jenoptik Laser, Optik, Systeme Gmbh | Adaptierbares optisches System |
US9366977B2 (en) | 2009-05-16 | 2016-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Semiconductor microlithography projection exposure apparatus |
WO2012041589A1 (de) | 2010-09-28 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter justagemöglichkeit |
DE102010041528A1 (de) | 2010-09-28 | 2012-03-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit |
US9423696B2 (en) | 2010-09-28 | 2016-08-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility |
DE102012216286A1 (de) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage mit optimiertem Messsystem |
DE102012212758A1 (de) | 2012-07-20 | 2014-01-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Systemkorrektur aus langen Zeitskalen |
US9829800B2 (en) | 2012-07-20 | 2017-11-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | System correction from long timescales |
DE102013203032A1 (de) * | 2013-02-25 | 2014-02-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung mit einem optischen Element und einem zusätzlichen Wärmeleitelement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0965871B1 (de) | 2005-10-05 |
US6198579B1 (en) | 2001-03-06 |
KR20000005842A (ko) | 2000-01-25 |
KR100579880B1 (ko) | 2006-05-12 |
JP2000066077A (ja) | 2000-03-03 |
TW442668B (en) | 2001-06-23 |
DE59912614D1 (de) | 2006-02-16 |
EP0965871A1 (de) | 1999-12-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19827602A1 (de) | Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler | |
DE3001059A1 (de) | Roentgenstrahlenlithographiesystem mit einer collimations-optik | |
DE102014118383B4 (de) | Objektiv für eine Foto- oder Filmkamera und Verfahren zum gezielten Dämpfen bestimmter Raumfrequenzbereiche der Modulations-Transfer-Funktion eines derartigen Objektivs | |
EP2100190A1 (de) | Beleuchtungsoptik und projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie | |
EP1113337A2 (de) | Optische Anordnung | |
DE102017217345A1 (de) | Optischer Strahlformer | |
AT517393B1 (de) | Fahrzeugscheinwerfer mit einstellbaren Baueinheiten | |
DE102007049816B3 (de) | Korrektor | |
EP2195821B1 (de) | Vorrichtung zur ablenkung oder einlenkung eines teilchenstrahls | |
DE102015116895B3 (de) | Fotografisches Objektiv | |
DE102007055443B4 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie | |
DE968430C (de) | Beleuchtungsvorrichtung fuer Projektionsbildgeraete | |
WO2008080537A1 (de) | Projektionsobjektiv für die lithographie | |
DE899095C (de) | Anordnung an einem Durchstrahlungs-Elektronenmikroskop | |
DE2062942A1 (de) | Einrichtung zur Bilderzeugung | |
DE102009059894B4 (de) | Optische Anordnung zum optischen Pumpen eines aktiven Mediums | |
EP0140836A2 (de) | Optisches Gerät zum Erzeugen eines visuellen stereoskopischen Bildes | |
DE2107770C3 (de) | Spulenanordnung fur Justier und Korrekturelemente zur elektro magnetischen Beeinflussung von Bundein geladener Teilchen, insbesondere fur Sektorfeldlinsen in Massenspektrometern | |
DE19856575A1 (de) | Projektions-Mikrolithographiegerät | |
DE3522289A1 (de) | Gradientenlinsenelemente verwendendes optisches abbildungssystem | |
DE60037071T2 (de) | Magentischer Energiefilter | |
DE102012205045A1 (de) | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102020126267A1 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen einer Laserlinie auf einer Arbeitsebene | |
DE3046199A1 (de) | Fernsehkamera mit spielfreier scharfeinstellung | |
DE102008036569A1 (de) | Wabenkondensor und Vorrichtung zum Aufschmelzen von Schichten auf ein Substrat |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: CARL ZEISS SMT AG, 73447 OBERKOCHEN, DE |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |