KR100953112B1 - 광 변조용 엔진 - Google Patents

광 변조용 엔진 Download PDF

Info

Publication number
KR100953112B1
KR100953112B1 KR1020047016053A KR20047016053A KR100953112B1 KR 100953112 B1 KR100953112 B1 KR 100953112B1 KR 1020047016053 A KR1020047016053 A KR 1020047016053A KR 20047016053 A KR20047016053 A KR 20047016053A KR 100953112 B1 KR100953112 B1 KR 100953112B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
irradiation surface
exposure head
irradiation
spatial light
Prior art date
Application number
KR1020047016053A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040099417A (ko
Inventor
글렌트-마드센헨릭
Original Assignee
싸인-트로닉 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 싸인-트로닉 아게 filed Critical 싸인-트로닉 아게
Publication of KR20040099417A publication Critical patent/KR20040099417A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100953112B1 publication Critical patent/KR100953112B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/02—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/74—Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor
    • H04N5/7416—Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor involving the use of a spatial light modulator, e.g. a light valve, controlled by a video signal

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

본 발명은 적어도 하나의 노출 헤드(12)와, 적어도 2 개의 광 변조 장치(20)를 구비하는 광 조사 장치에 관한 것으로서, 상기 2 개의 광 변조 장치(20)들 각각은 공간상의 광 변조기(31,32) 및, 상기 공간상의 광 변조기(31,32)를 통하여 조사 표면(15)의 조사를 위해서 배치된 관련된 광 조사기를 구비하고, 상기 2 개의 광 변조 장치(20)들 각각은 디지틀로 제어되고, 상기 장치는 상기 적어도 하나의 노출 헤드와 상기 조사 표면(15) 사이에서 적어도 하나의 방향(x,y)으로 상대적인 운동을 수행하기 위한 수단을 구비한다.

Description

광 변조용 엔진{Light modulating engine}
본 발명은 청구항 제 1 항에 따른 광 조사 장치에 관한 것이다.
통상적인 광 조사 장치는 감광 재료에 조사되도록 적합화된 장치를 구비한다. 그러한 재료는 예를 들면 인쇄용 플레이트, 급속 프로토타이핑(prototyping)에 적합화된 재료, 필름등을 구비할 수 있다. 조사(illuminating)는 조사된 재료 특성의 특정한 변화를 획득하기 위한 목적으로 수행된다. 그러한 조사는 예를 들면 조사된 재료 또는 특정한 구조상에 이미지의 설정을 초래할 수 있다.
소기의 조사를 획득하기 위하여, 광은 변조(modulating)되어야 한다. 조사 표면에 대한 광 전달과 관련된 종래 기술의 한가지 방법은 단일 또는 다중의 비임 레이저를 적용하는 것인데, 이것은 조사 표면에 걸쳐서 스캐닝 운동을 수행할 때 변조될 수 있다.
조사 표면을 조사하는 보다 최근의 다른 방법은 소위 공간상의 광 변조기(spatial light modulator)를 적용하는 것이다. 그러한 변조기의 예는 DMD, LCD 등일 수 있다. 공간상의 광 변조기는 유입되는 광 비임을 다수의 개별적으로 변조된 광 비임으로 변조시키는데 적합화된다.
종래 기술의 문제점은, 일부 적용예에 필요한 에너지 및, 조사 속도와 조합 되어 있는 적용 광 변조기의 특징에 기인하여, 획득될 수 있는 변조 속도가 다소 제한적이라는 것이다.
본 발명은 적어도 하나의 노출 헤드와 적어도 2 개의 광 변조 장치를 구비하는 광 조사 장치에 관한 것으로서,
상기 2 개의 광 변조 장치들 각각은 공간상의 광 변조기와 상기 공간상의 광 변조기를 통하여 조사 표면의 조사를 위해서 배치된 관련 광 조사기(associated light emitter)를 구비하고,
상기 2 개의 광 변조 장치들 각각은 디지틀로 제어되고,
상기 장치는 상기 적어도 하나의 노출 헤드와 상기 조사 표면 사이에서 적어도 일 방향으로 상대적인 운동을 수행하기 위한 수단을 구비한다.
본 발명에 따르면, 움직일 수 있는 노출 헤드가 2 개의 공간상의 광 변조기를 유리하게 구비할 수 있으며, 그에 의해서 2 개의 변조기들로 스캐닝을 한번에 용이하게 수행하는 것이 실현되었다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 광 조사 장치는 적어도 하나의 노출 헤드와 적어도 2 개의 광 변조 장치를 구비하고,
상기 2 개의 광 변조 장치들 각각은 공간상의 광 변조기와 상기 공간상의 광 변조기를 통하여 조사 표면의 조사를 위해 배치된 관련 광 조사기를 구비하며,
상기 2 개의 광 변조 장치들 각각은 디지틀로 제어되고,
상기 장치는 적어도 하나의 노출 헤드와 상기 조사 표면 사이에서 적어도 일 방향으로 상대적인 운동을 수행하기 위한 수단을 구비한다.
본 발명의 구현예에 있어서, 상기 적어도 2 개의 광 변조 장치들은 같은 노출 헤드상에 배치된다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 상대적인 운동은 스캐닝 운동이다.
본 발명의 구현예에 있어서, 상기 상대적인 운동은 상기 조사 표면에 대하여 적어도 하나의 노출 헤드를 움직임으로써 설정된다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 상대적인 운동은 적어도 하나의 노출 헤드에 대하여 상기 조사 표면을 움직임으로써 설정된다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 적어도 하나의 노출 헤드는 2 개의 광 변조 장치를 구비한다. 조사 표면을 조사하는 비용 효과적인 방법은 하나의 노출 헤드 안에 2 개의 공간상의 광 변조기를 적용함으로써 설정되었는데, 그에 의해서 조사 장치가 획득되며, 그것이 상대적으로 높은 속도의 스캐닝 운동으로 조사 표면을 조사할 수 있다. 이와 관련하여 주목되어야 하는 것은 운동 장치의 중량이 증가할 때 노출 헤드를 다소 처리하기가 곤란할 수 있다는 것이다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 상대적인 운동은 적어도 하나의 노출 헤드에 대하여 상기 조사 표면을 움직임으로써 설정된다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 적어도 하나의 노출 헤드는 2 개의 광 변조 장치를 구비한다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 광 변조 장치들은 적어도 2 개의 상이한 노출 헤드상에 배치되며 상기 노출 헤드는 조사 표면에 걸쳐서 스캐닝 운동을 수행한다. 2 개 또는 그 이상의 자유 가동 주사 노출 헤드를 적용할 때, 조사 표면에 대하여 조사는 조심스럽게 최적화될 수 있으며, 그에 의해서 소위 "과도 스캐닝(over-scanning)"이 회피된다. 원칙적으로, 적용된 노출 헤드들 사이에서의 그 어떤 상충되는 운동이라도 회피하도록 노출 헤드에 의해 수행되는 스캐닝이 적합화될 수 있다는 사실에 기인하여, 그 어떤 과도한 스캐닝도 회피될 수 있거나 또는 적어도 최소화될 수 있다. 따라서, 자유-주행 헤드는 조사 영역의 조사가 위에서 설명된 바와 같이 최적화될 수 있는 것을 보장하는 반면에, 상기와 같은 스캐닝 운동이 고속의 조사를 보장한다는 사실에 기인하여, 스캐닝에 의해서 조사 표면을 조사하는 다수의 자유-주행 노출 헤드들은 효율과 관련하여 매우 유리하다.
상기 설명된 자유 주행 노출 헤드의 다른 구현예에 따르면, 개수는 2 개를 초과할 수 있으며, 예를 들면 전체적으로 3 개 또는 그 이상의 헤드가 있을 수 있다. 더욱이, 각각의 헤드는 예를 들면 도 2 에 도시된 유형인, 예를 들면 2 개 또는 그 이상의 조사 장치를 구비할 수 있다.
실질적으로 분리된 상기 조사 표면의 서브 면적을 조사하기 위하여 상기 공간상의 광 변조기들이 배치되었을 때, 본 발명의 유리한 구현예들이 획득될 수 있다.
양쪽 공간상의 광 변조기들의 열(row)들이 평행하게 배향되도록 상기 광 변조 장치가 정렬되었을 때, 본 발명의 유리한 구현예가 획득되었다.
2 개의 공간상의 광 변조기들의 이웃하는 2 개의 열들 사이의 거리(DN)가 개별적인 광 변조기들의 열들 사이의 거리(DR)와 실질적으로 같도록 2 개의 공간상의 광 변조기들의 이웃하는 열들이 실질적으로 위치되게끔 상기 광 변조 장치들이 정렬되었을 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심 사이 거리의 "X 투사"(DI)가 200 밀리미터 미만일 때, 바람직스럽게는 150 mm 미만일 때, 바람직스럽게는 실질적으로 120 밀리미터일 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심 사이 거리의 "y-투사"(D2)가 50 밀리미터 미만일 때, 바람직스럽게는 35 밀리미터 미만일 때, 바람직스럽게는 SXGA 와 XGA를 각각 적용했을 경우에 실질적으로 25.6 밀리미터이거나 20.5 밀리미터일 때, 본 발명의 바람직한 구현예가 달성되었다.
2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심 사이의 거리가 121.73 밀리미터(XGA) 또는 122.70 밀리미터(SXGA) 보다 작을 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
본 발명에 따르면, 광 변조 장치들의 매우 근접한 위치는 효과적인 스캐닝 면적이 최적화된다는 의미에서 전체적으로 향상된 스캐닝 속도를 용이하게 한다. 따라서 거리의 최소화는 노출 헤드 양쪽의 공간상의 광 변조기들이 스캐닝 라인의 단부에서 가능한 한 멀리에서 활성화되는 결과를 초래한다.
상기 노출 헤드들이 냉각 수단을 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
냉각 수단은 예를 들면 전기적으로 구동되는 팬(fan)들이다.
각각의 광 변조 장치가 개별의 냉각 수단을 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 실질적으로 분리된 서브 면적(sub-area)이 상기 조사 표면의 이웃하는 표면들을 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 적어도 하나의 방향이 실질적으로 상기 조사 표면의 상대적인 운동에 횡방향일 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 조사 표면상에 조사된 픽셀이 상기 공간상의 광 변조기의 적어도 2 개의 광 변조기들에 의해 조사되는 것을 상기 적어도 하나의 방향이 확립할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 노출 헤드가 상기 조사 표면에 대하여 적어도 2 개의 방향에서 움직일 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 광 조사기가 광원(light source)을 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 광 조사기가 광원에 결합된 광학적 가이드를 적어도 광 조사 단부에 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 광 조사기가 램프를 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 광 조사기가 LED 매트릭스를 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 공간상의 광 변조기가 DMD 칩을 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
조사 장치의 공간상의 광 변조 어레이(array)는 국제 특허 출원 공개 WO 98 47048 과 WO 98 47042 에 개시된 바와 같은 전달 마이크로-기계 셔터일 수 있으며, 이들은 본원에 참조로서 포함된다.
공간상의 변조기의 다른 유형은 DMD 변조기 또는 예를 들면 LCD 광 변조기일 수 있다.
상기 공간상의 광 변조기가 마이크로-기계 전달 광 변조기를 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다.
상기 조사 표면이 에폭시와 같은 감광 재료를 구비할 때, 본 발명의 유리한 구현예가 달성되었다. 실크스크린 인쇄용 에멀젼, PCB 에멀젼 등과 같은 다른 감광 재료들도 본 발명의 범위 안에서 적용될 수 있다.
본 발명에 따르면, 조사 장치는 소위 급속 프로토타이핑(rapid prototyping)으로 적용될 수 있다.
더욱이, 본 발명은 조사 표면을 조사하는 방법에 관한 것으로서, 그에 의해서 공간상의 광 변조기를 각각 구비하는, 적어도 하나의 노출 헤드상에 배치된 적어도 2 개의 광 변조 장치들은 스캐닝 운동에 의해 조사 표면을 조사한다.
본 발명의 일 구현예에 있어서, 상기 적어도 2 개의 광 변조 장치들은 같은 노출 헤드상에 배치된다.
본 발명의 구현예에 있어서, 상기 적어도 2 개의 광 변조 장치들은 상이한 자유-주행 노출 헤드상에 배치된다.
본 발명의 구현예에 있어서, 조사는 청구항 제 1 항 내지 제 13 항에 따른 광 조사 장치에 의해서 수행된다.
본 발명은 도면을 참조하여 다음에 설명하기로 한다.
도 1 은 본 발명의 유리한 구현예에 따른 노출 시스템의 도면을 도시한다.
도 2 는 본 발명의 구현예에 따른, 조사 장치의 단면도를 도시한다.
도 3a 는 조사 표면에 대한 노출 헤드의 스캐닝 패턴을 도시한다.
도 3b 는 조사 표면에 대한 노출 헤드의 다른 스캐닝 패턴을 도시한다.
도 4a 는 노출 헤드상에서 조사 장치들의 유리한 위치를 도시한다.
도 4b 내지 도 4c 는 본 발명의 다른 구현예를 도시한다.
도 1 은 본 발명의 유리한 구현예에 따른, 노출 시스템의 몇 개 주요한 구성부들을 도시한다.
도시된 시스템은 조사 표면(15)의 조사를 위해서 배치된 2 개의 광 변조 장치(20)를 구비하는 노출 헤드(12)를 구비한다. 노출 헤드(12)는 서스펜션(suspension)(미도시)에 매달려있다. 서스펜션은 적절한 전자 회로(미도시)에 의한 제어하에 화살표 방향으로 움직이는 것을 용이하게 한다.
도시의 목적을 위해서, 광 변조 장치(20)내에 배치된 공간상의 광 변조기(예를 들면, DMD 칩)에 의해 조사된 2 개의 조사 부위(I1, I2)들은 조사 표면상에 표시되어 있다. 조사 부위(I1 및, I2)는 예를 들어서 TI DMD-칩을 적용한다면 예를 들어서 1024 x 768 (XGA) 픽셀 또는 1280 x 1024 픽셀(SXGA)을 구비할 수 있다. 스캐닝 운동을 적용한다면, 변조된 픽셀들이 열(row)에서 열로 (또는 행(column)에서 행으로) 동적으로 변환되어서 조사 표면상에 단일 픽셀의 조사를 위한 몇 개의 픽셀(예를 들어서, 공간상의 광 변조기의 완전한 열(row))을 적용시킨다. 그에 의해서, 단일 픽셀로 전달된 광학적 에너지가 증가된다.
도시된 구현예에 따르면, 노출 헤드는 X 방향으로 움직이고 조사 표면(15)은 Y 방향으로 단계별로 움직인다.
명백하게, 다른 상대적인 운동이 본 발명의 범위내에서 적용될 수 있다. 본 발명의 다른 유리한 구현예는 예를 들면 조사 표면을 정지 상태로 유지하면서 X 와 Y 의 양 방향에서 노출 헤드(12)의 상대적인 운동을 포함할 수 있다.
조사 장치의 공간상의 광 변조 어레이(array)는, 본원에 참조로서 포함된 국제 특허 공개 WO 98 47048 및, WO 98 47042 에 개시된 바와 같이 전달형 마이크로-기계 셔터 어레이(transmissive micro-mechanical shutter array)일 수 있다.
다른 유형의 공간상의 변조기는 DMD 변조기일 수 있다.
도 2 는 도 1 의 광 변조 장치(20)들중 하나의 바람직한 구현예를 도시한다. 장치(20)의 제 1 부분(21)은 광의 초점이 맞춰지고 균일한 비임을 발생시킨다. 이것은 램프와 같은 광원(210), 램프 구동부(211), 송풍기(216)와 팬(217), 보호 유리(212), 셔터(213), 광-집적 로드(light-integrating rod)(21) 및, 비임 형상화 광학부(215)를 구비한다.
램프와 같은 광원(210)의 유형은 노출되어야 하는 플레이트의 유형에 달려있다. 가능한 유형들은 종래의 짧은 원호형 전구, 레이저 소스, 다이오드 어레이들을 포함한다. 바람직스러운 종래의 램프는 270 W 의 전력을 소비할 수 있지만, 본 발명은 이러한 값에 결코 제한되는 것은 아니며, 또한 언급된 램프의 유형에도 제한되지 않는다. 250 W 및, 350 W 와 같은 대안도 고려될 수 있다.
램프와 같은 광원(210)으로부터의 광은 간섭 필터의 기능을 하는 필터(예를 들면, 적용예에 따라서 IR 또는 UV 필터)(212)를 통하여, 그리고 셔터 메카니즘(213)을 통하여 전달되어, 램프를 끄지 않고도 광 비임을 차단할 수 있게 한다. 이것은 대부분의 램프 유형들이, 그들의 광 강도와 주파수가 불변하기 이전에 시간이 필요하기 때문에 중요하다. 송풍기(216)와 팬(217)은 광원(210)의 냉각을 보장한다.
차후에 광 비임은 광 집적 로드(214)를 통하여 전달된다. 그에 의해서 광은 혼합되어, 비임을 통한 광이 강도에 대하여 균일하게 된다. 이것은 비임 주위에서의 광이 비임 중심에서의 광과 같은 강도를 가지는 것을 보장한다. 광이 광 집적 로드를 떠날 때, 비임의 형상화 광학부(215)는 그것의 초점을 맞춘다.
광 변조 장치(20)의 다음 부분은 전자적으로 저장된 이미지 데이터를 반사시키도록 광 비임을 변조시킨다. 이것은 변조된 광 비임의 출력을 방해하지 않으면서 광 변조 수단(22)을 향하여 변조되지 않은 광 비임을 검출하는 수단(224) 및, 광 변조 수단(22)을 구비한다.
적절한 광 변조 수단(22)은 DMD 변조기, LCD를 구비하는 전달 셔터 및, 마이크로-기계 셔터와 다른 것들을 구비한다. 도 2 의 바람직한 구현예에 대하여, 냉각용 플레이트(222)와 온도 센서(223)를 가지고 PCB(221)상에 장착된 DMD 광 변조 칩(220)이 사용된다.
광 배향 수단(224)은 사용되는 광 변조 수단(22)의 유형에 달려있다. 전달되는 광의 변조 수단에 대하여 변조되지 않은 광 비임이 광 변조 수단의 일 측을 향하여 배향되고, 변조된 광 비임이 다른 측으로부터 조사된다. 그러한 장치에 있어서 광 배향 수단(224)이 배제될 수 있다.
DMD 변조기에 대하여 변조되지 않은 광 비임은 변조된 광 비임이 조사되는 것과 같은 지점을 향하여 배향된다. 이것은 광 배향 수단(224)의 사용을 필요하게 한다. 도 2 의 바람직한 구현예에 있어서, TIR-프리즘은 광 배향 수단용으로 사용된다. TIR 은 "전체적인 내부 반사(Total Internal Reflection)"를 의미하는 약자이다. TIR 프리즘은 일 방향으로부터 (이러한 특정의 구현예에 대해서는 좌측으로부터) 오는 광에 대한 미러로서 작용하게 되고, 다른 방향(이러한 특정한 구현예에 대하여 상부로부터)으로부터 오는 광을 그것을 통하여 직선으로 가게 하는 표면(225)을 구비한다.
장치(20)의 마지막 부분은 광 변조 수단(22)으로부터 조사된 다중의 변조된 광 비임들을 조사 표면(24)(인쇄 플레이트)상에 초점을 맞춘다. 이것은 하우징(23) 안에 위치된 렌즈/매크로 렌즈(230)의 세트(set)를 구비한다.
도 3a 는 조사에 대하여 노출된 헤드의 스캐닝 패턴을 도시한다.
예를 들면, 도 2 에 도시된 조사 장치와 같은 본 발명에 따른 광 조사 장치에 의해 획득된 도시된 스캐닝 패턴은, 노출 헤드(30a)의 2 개의 조사 장치(31,32)들이 조사 표면에 대하여 상대적인 운동을 수행하는 것과 관련된다. 양쪽의 조사 장치(31,32)들은 같은 노출 헤드(30a) 상에 배치된다.
도시된 조사 장치(31)들중 하나는 서브 부위(SUB1)에 조사되며, 다른 조사 장치(32)는 서브 부위(SUB2)에 조사된다.
주목되어야 할 바로서, 노출 헤드(30a)는 수평의 화살표로 표시된 바와 같이 스캐닝 운동에 있어서 양쪽의 방향으로 변조된 광을 가지고 조사 표면을 조사하여야 하는 반면에, 단계(301)에서는 각각의 스캐닝 운동 사이에서 수직의 화살표로 표시된 바와 같이 변환되어야 한다.
y-축 운동은 여기에서 결합을 이룬 광 조사 장치들에 의해 획득된 전체적인 횡방향 스캐닝 폭에 대응하는 단계(step)들로서 수행된다
도 3b 는 조사 표면에 대한 노출 헤드(30b)의 다른 스캐닝 패턴을 도시한다.
본 발명의 도시된 구현예에 따르면, 노출 헤드(30b)는 2 개의 공간상의 광 변조기(31,32)를 구비한다 (공간상의 변조기를 유지하는 조사 장치들은 도시되지 않았다). 적용된 조사 장치(31,32)들은 예를 들면 도 2 에 도시된 조사 장치들일 수 있다. 도시된 구현예에 따라서, 2 개의 공간상의 광 변조기(31,32)(또는 도 1 의 I1 및, I2 에 대응하는 결과적인 조사 표면)가 배치되어 단지 Y 방향으로만 변위된다.
노출 헤드(30b)는 X 방향에서 전후로 스캐닝 운동을 수행한다. 더욱이, 조사 표면 또는 노출 헤드는 기본적으로 2 개의 상이한 단계들인, 마이크로 단계(302)와 매크로 단계(303)를 포함하는 Y 방향으로의 상대적인 운동을 수행한다.
도시된 구현예에 따르면, 8 개의 서브 부위(SUB1)와 8 개의 서브 부위(SUB2)들이 마이크로 단계(302)를 수행함으로써 조사된다. 이후에, 매크로 단계(303)가 수행되며, 새로운 세트의 서브 부위(SUB1 과 SUB2)가 다른 마이크로 단계(302)를 수행함으로써 조사된다.
몇 가지 다른 스캐닝 방법(패턴)들이 본 발명의 범위내에서 적용될 수 있다는 점이 강조되어야만 한다.
도 4a 는 도 3a 의 노출 헤드상의 조사 장치(여기에서는 광학 엔진)의 유리한 위치를 도시한다. 예를 들면 도 2 에 도시된 것일 수 있는 조사 장치(20)는 대시(dash) 선으로 표시되어 있다.
광학 엔진의 치수들은 기계의 생산성과 비용에 관하여 매우 중요하다. 노출 헤드의 2 개의 조사 장치(20)는 획득될 수 있는 조사된 부위가 y 축의 방향에 근접하도록 (스캐닝과 변조기 축과 혼합되지 않게) 위치된다. 이것은 도 4a 에 도시된 바와 같이 x-축에서 광학 엔진들 사이에 중심 거리가 있다는 것을 의미한다.
x-축에서 엔진들 사이의 상호 거리는 양쪽의 헤드들이 전체의 플레이트(조사 표면)를 통과하도록 실제 플레이트 길이보다 길게 노출할 필요가 있다는 것을 의미한다. 이러한 과잉의 "과도-스캔"은 중심 거리(D1)의 2 배이다. 이러한 과도-스캔은 생산성을 감소시키며 x-운동의 폭과 기계의 폭을 증가시킨다. 따라서 중심 거리는 가능한 한 작아야 한다. 그와 같이 최소화된 거리의 예는 다음과 같다.
중심 거리, x-축 :D1=120 mm
중심 거리, y-축: D2= (XGA) 20.48±0.002 mm 및, D2(SXGA)=25.6±0.002 mm
하한(lower limit)은 광학부와 다른 조사 장치 구성부에 의해서, 예를 들면, 도 2 의 매크로 렌즈(230)에 의해서 한정된다. 고정구(미도시)는 광학 엔진들의 조 사 평면에서의 조절, 즉, x-와 y-축에서의 조절, 그리고 z-축을 중심으로 하는 회전을 개별적으로 허용할 것이다. 이것은 이미지가 매크로 렌즈 하우싱의 플렌지(flange)에 정확하게 평행하게 되어야 하며, 따라서 양쪽의 이미지들이 같은 평면상에 있을 것이라는 것을 의미한다. 하우징의 플렌지는 하우징을 z-방향에서 고정구에 장착시키는데 사용된다. 플렌지의 양쪽 측부는 초점을 한정하게 되어서, 광학 엔진들이 평탄한 표면에 대하여 장착될 수 있으며, 따라서 같은 평면에 초점을 가지게 된다.
도 4b 는 본 발명의 다른 구현예를 도시하는데, 여기에서 장치는 노출 헤드(50) 상에 배치된, 예를 들면 도 2 에 도시된 유형인 4 개의 광 변조 장치들(53,54,55,56)을 구비한다.
4 개의 광 변조 장치(53,54,55,56)들은 모두 같은 노출 헤드에 대한 고정에 기인하여 모두 함께 움직일 수 있다. 스캐닝은, 예를 들면 도 3a 에 도시된 원리에 따라서 몇 가지 상이한 방법으로 유리하게 수행될 수 있다.
도 4c 는 본 발명의 다른 구현예를 도시하는데, 여기에서 장치는 예를 들면 도 2 에 도시된 유형인 2 개의 광 변조 장치들(62,63)을 구비한다.
도시된 구현예는 2 개의 분리된 노출 헤드(60,61)를 구비하며, 각각은 변조 장치(62,63)를 유지한다.
본 발명의 도시된 구현예는, 예를 들면 도시된 화살표의 방향으로 스캐닝을 적용할 때, 조사 표면에 대하여 조심스럽게 조사가 최적화될 수 있어서, 상기에 설명된 "과도-스캐닝"을 회피할 수 있다는 장점을 가진다. 원칙적으로, 노출 헤드 (60,61)에 의해 수행된 스캐닝은 적용된 노출 헤드(60,61)들 사이의 그 어떤 상충되는 움직임이라도 회피하도록 적합화될 수 있다는 사실에 기인하여 그 어떤 과도한 스캐닝이라도 회피될 수 있다.
스캐닝에 의해서 조사 표면을 조사하는 다수의 자유-주행 노출 헤드를 특징으로 하는 도시된 구현예는, 그와 같은 스캐닝 운동이 고속의 조사를 보장하는 반면에, 조사 부위에 대한 조사가 위에서 설명된 바와 같이 최적화될 수 있는 것을 자유-주행 헤드가 보장한다는 점에 기인하여, 효율과 관련하여 매우 유리하다.
명백하게도, 도 4c 의 구현예는 예를 들면 전체적으로 3 개 또는 그 이상의 헤드들인 다른 조사 헤드를 구비하도록 수정될 수 있다.
본 발명은 광 조사 장치에 적용될 수 있다.

Claims (35)

  1. 적어도 하나의 노출 헤드(12)와 적어도 2 개의 광 변조 장치(20)를 구비하는 광 조사 장치로서,
    노출 헤드(12)는 적어도 하나의 광 변조 장치(20)를 포함하고,
    상기 2 개의 광 변조 장치(20)들 각각은, 상기 광 변조 장치(20)에 배치된 공간상의 광 변조기(31,32)와, 상기 공간상의 광 변조기(31,32)를 통하여 조사 표면(15)을 조사하기 위해 상기 광 변조 장치(20)에 배치된 광원(210)을 포함하고,
    적어도 하나의 노출 헤드(12)는 상기 조사 표면(15)에 대하여 양쪽 횡방향(x;y)으로 움직일 수 있는, 광 조사 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 적어도 2 개의 광 변조 장치들은 같은 노출 헤드(12) 상에 배치된, 광 조사 장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 노출 헤드(12)는 2 개의 광 변조 장치들을 구비하는, 광 조사 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 공간상의 광 변조기들은 적어도 2 개의 상이한 노출 헤드(60,61)상에 배치되고, 상기 노출 헤드(60,61)들은 조사 표면 위로 움직이는, 광 조사 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 공간상의 광 변조기들은 상기 조사 표면(15)의 적어도 2 개의 분리된 서브-부위(SUB1, SUB2)를 조사하기 위하여 배치된, 광 조사 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    양쪽의 공간상의 광 변조기(31,32)들의 열(rows)이 평행하게 배향되도록 상기 광 변조 장치(20)가 정렬되는, 광 조사 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    적어도 2 개의 공간상의 광 변조기들의 적어도 2 개의 이웃하는 열들 사이의 거리(DN)가 개별적인 공간상의 광 변조기들의 열들 사이의 거리(DR)와 같도록, 적어도 2 개의 공간상의 광 변조기들의 이웃하는 열들이 위치되게끔 상기 광 변조 장치(20)들이 정렬되는, 광 변조 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    적어도 2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심 사이의 거리인 "x-투사"(D1)는 200 밀리미터 미만인, 광 변조 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심들 사이의 거리인 "y-투사"(D2)는 50 밀리미터 미만인, 광 조사 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    2 개의 공간상의 광 변조기들의 중심들 사이의 거리는, SXGA 와 XGA를 각각 적용할 때, 각각 122.7 밀리미터 또는 121.73 밀리미터인, 광 조사 장치.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 노출 헤드는 냉각 수단(216,217)을 구비하는, 광 조사 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    각각의 광 변조 장치(20)는 개별적인 냉각 수단(216,217)을 구비하는, 광 조사 장치.
  16. 제 8 항에 있어서,
    상기 서브-부위(SUB1)는 상기 서브-부위(SUB2)와 이웃하는, 광 조사 장치.
  17. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 노출 헤드(12)는 상기 조사 표면(15)에 대하여 횡방향으로 움직이는, 광 조사 장치.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제 1 항에 있어서,
    상기 노출 헤드(12)는 상기 조사 표면(15)에 평행한 평면상에서 적어도 2 개의 직각 방향(x;y)으로 움직일 수 있는, 광 조사 장치.
  21. 삭제
  22. 삭제
  23. 제 1 항에 있어서,
    상기 광원은 램프를 포함하는, 광 조사 장치.
  24. 제 1 항에 있어서,
    상기 광원은 LED 매트릭스를 포함하는, 광 조사 장치.
  25. 제 1 항에 있어서,
    상기 공간상의 광 변조기는 DMD 칩(digital micro-mirror device chip)을 포함하는, 광 조사 장치.
  26. 제 1 항에 있어서,
    상기 공간상의 광 변조기는 마이크로-기계 전달 광 변조기(micro-mechanical transmissive light modulator)를 포함하는, 광 조사 장치.
  27. 제 1 항에 있어서,
    상기 조사 표면은 인쇄용 플레이트를 포함하는, 광 조사 장치.
  28. 제 1 항에 있어서,
    상기 조사 표면은 감광성 재료를 포함하는, 광 조사 장치.
  29. 제 1 항에 있어서,
    노출 헤드는 2 개의 반대인 횡방향으로 움직이는, 광 조사 장치.
  30. 제 1 항에 있어서,
    공간상의 광 변조기의 중심들 사이의 x 방향은 150 mm 미만인, 광 조사 장치.
  31. 제 1 항에 있어서,
    광 변조 장치(20)의 중심들 사이의 x 방향은 0 (제로)인, 광 조사 장치.
  32. 조사 표면(15)을 조사하는 방법으로서,
    공간상의 광 변조기(31,32)를 각각 구비하는, 적어도 하나의 노출 헤드상에 배치된 적어도 2 개의 광 변조 장치(20)들은 조사 표면(15)의 위로 움직여서 조사 표면(15)을 조사하는, 조사 표면을 조사하는 방법.
  33. 제 32 항에 있어서,
    상기 적어도 2 개의 공간상의 광 변조기(31,32)들은 같은 노출 헤드(30a)상에 배치된, 조사 표면을 조사하는 방법.
  34. 제 32 항에 있어서,
    상기 적어도 2 개의 공간상의 광 변조기(62,63)들은 상이한 노출 헤드(60,61) 상에 각각 배치되고, 노출 헤드(60, 61) 각각은 서로 자유롭게 움직이는, 조사 표면을 조사하는 방법.
  35. 조사 표면을 조사하는 방법으로서,
    조사는 제 1 항에 따른 광 조사 장치에 의해 수행되는, 조사 표면을 조사하는 방법.
KR1020047016053A 2002-04-09 2003-04-09 광 변조용 엔진 KR100953112B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DKPA200200516 2002-04-09
DKPA200200516 2002-04-09
PCT/DK2003/000237 WO2003087915A1 (en) 2002-04-09 2003-04-09 Light modulating engine

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040099417A KR20040099417A (ko) 2004-11-26
KR100953112B1 true KR100953112B1 (ko) 2010-04-19

Family

ID=29225535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020047016053A KR100953112B1 (ko) 2002-04-09 2003-04-09 광 변조용 엔진

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7145708B2 (ko)
EP (1) EP1493054A1 (ko)
JP (1) JP2005522733A (ko)
KR (1) KR100953112B1 (ko)
CN (1) CN100409063C (ko)
AU (1) AU2003226932B2 (ko)
CA (1) CA2481048A1 (ko)
WO (1) WO2003087915A1 (ko)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7417782B2 (en) 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
US9261694B2 (en) 2005-02-23 2016-02-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7999994B2 (en) 2005-02-23 2011-08-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US8482496B2 (en) 2006-01-06 2013-07-09 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling MEMS display apparatus on a transparent substrate
US7675665B2 (en) 2005-02-23 2010-03-09 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for actuating displays
US8519945B2 (en) 2006-01-06 2013-08-27 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7271945B2 (en) * 2005-02-23 2007-09-18 Pixtronix, Inc. Methods and apparatus for actuating displays
US8310442B2 (en) 2005-02-23 2012-11-13 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US9087486B2 (en) 2005-02-23 2015-07-21 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US9158106B2 (en) 2005-02-23 2015-10-13 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US8159428B2 (en) 2005-02-23 2012-04-17 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US7746529B2 (en) 2005-02-23 2010-06-29 Pixtronix, Inc. MEMS display apparatus
US7755582B2 (en) 2005-02-23 2010-07-13 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US20070205969A1 (en) 2005-02-23 2007-09-06 Pixtronix, Incorporated Direct-view MEMS display devices and methods for generating images thereon
US9229222B2 (en) 2005-02-23 2016-01-05 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US9082353B2 (en) 2010-01-05 2015-07-14 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7742016B2 (en) 2005-02-23 2010-06-22 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US7304785B2 (en) * 2005-02-23 2007-12-04 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US8526096B2 (en) 2006-02-23 2013-09-03 Pixtronix, Inc. Mechanical light modulators with stressed beams
US7876489B2 (en) 2006-06-05 2011-01-25 Pixtronix, Inc. Display apparatus with optical cavities
KR100800200B1 (ko) * 2006-06-29 2008-02-01 엘지전자 주식회사 프로젝션 시스템의 컬러 휠 냉각 구조.
US20080094853A1 (en) 2006-10-20 2008-04-24 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating light redirectors at varying densities
US7852546B2 (en) 2007-10-19 2010-12-14 Pixtronix, Inc. Spacers for maintaining display apparatus alignment
US9176318B2 (en) 2007-05-18 2015-11-03 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing fluid-filled MEMS displays
US8248560B2 (en) 2008-04-18 2012-08-21 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating prismatic structures and light redirectors
US8169679B2 (en) 2008-10-27 2012-05-01 Pixtronix, Inc. MEMS anchors
WO2011097252A2 (en) 2010-02-02 2011-08-11 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing cold seal fluid-filled display apparatus
US9134552B2 (en) 2013-03-13 2015-09-15 Pixtronix, Inc. Display apparatus with narrow gap electrostatic actuators
EP3058722B1 (en) * 2013-10-20 2021-12-15 Mtt Innovation Incorporated Light field projectors and methods
CN108303859A (zh) * 2018-03-19 2018-07-20 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种直写光刻机中高利用率高均匀度的led照明系统
CN109739073A (zh) * 2019-02-25 2019-05-10 钧迪智能装备科技(苏州)有限公司 一种弧形工件激光直写曝光方法
CN109709775A (zh) * 2019-03-13 2019-05-03 苏州微影激光技术有限公司 一种曝光设备及曝光方法
CN111610697A (zh) * 2020-06-18 2020-09-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种di光刻机的led光学系统

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5646786A (en) 1995-03-24 1997-07-08 Eastman Kodak Company Beamsplitter for laser multi-beam printers and recorders
US5825552A (en) 1995-03-24 1998-10-20 Eastman Kodak Company Beamsplitter/staggerer for multi-beam laser printers

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5247180A (en) * 1991-12-30 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Stereolithographic apparatus and method of use
US5601957A (en) * 1994-06-16 1997-02-11 Nikon Corporation Micro devices manufacturing method comprising the use of a second pattern overlying an alignment mark to reduce flattening
CN1159628C (zh) * 1997-04-14 2004-07-28 迪科公司 用于点照明介质的照明装置和照明方法
JP3618521B2 (ja) * 1997-09-03 2005-02-09 富士写真フイルム株式会社 画像露光装置
TW407222B (en) 1998-05-14 2000-10-01 Primax Electronics Ltd The projective display apparatus used to show the image
DE19827602A1 (de) * 1998-06-20 1999-12-23 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler
JP2001135562A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Hitachi Ltd リソグラフィ装置
EP1107064A3 (en) * 1999-12-06 2004-12-29 Olympus Optical Co., Ltd. Exposure apparatus
JP2001168003A (ja) * 1999-12-06 2001-06-22 Olympus Optical Co Ltd 露光装置
US6643049B2 (en) * 2001-02-01 2003-11-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Compact imaging head and high speed multi-head laser imaging assembly and method
TW529172B (en) * 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
JP2003080604A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 積層造形装置
JP4211252B2 (ja) * 2001-11-05 2009-01-21 株式会社日立製作所 パターン露光方法及びその装置
US6976426B2 (en) * 2002-04-09 2005-12-20 Day International, Inc. Image replication element and method and system for producing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5646786A (en) 1995-03-24 1997-07-08 Eastman Kodak Company Beamsplitter for laser multi-beam printers and recorders
US5825552A (en) 1995-03-24 1998-10-20 Eastman Kodak Company Beamsplitter/staggerer for multi-beam laser printers

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005522733A (ja) 2005-07-28
US20050168789A1 (en) 2005-08-04
AU2003226932B2 (en) 2008-10-30
WO2003087915A1 (en) 2003-10-23
CN1646968A (zh) 2005-07-27
US7145708B2 (en) 2006-12-05
CA2481048A1 (en) 2003-10-23
EP1493054A1 (en) 2005-01-05
CN100409063C (zh) 2008-08-06
AU2003226932A1 (en) 2003-10-27
KR20040099417A (ko) 2004-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100953112B1 (ko) 광 변조용 엔진
JP4376974B2 (ja) 媒体の局所的照明のための照明ユニット及び方法
US9946162B2 (en) Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
US20090219491A1 (en) Method of combining multiple Gaussian beams for efficient uniform illumination of one-dimensional light modulators
JP2003337427A (ja) 露光装置
JP2016035509A (ja) 光源装置及び露光装置
JP2019023748A (ja) 照度割合変更方法及び露光方法
KR101659391B1 (ko) 노광 헤드 및 노광 장치
US20090251676A1 (en) Exposure apparatus and exposure method
JP2003337426A (ja) 露光装置
KR100816494B1 (ko) 마스크리스 노광기 및 이를 이용한 표시장치용 기판의 제조방법
US6700598B1 (en) Digital imaging system employing non-coherent light source
JP2010507112A (ja) 照明装置
JP2003021913A (ja) 版を露光する方法および装置
JP2003337428A (ja) 露光装置
EP2759880B1 (en) Optical recording head and image formation device
JP2004191735A (ja) 照明光学系および露光装置
KR100995392B1 (ko) 디지털 마이크로미러 디바이스를 구비한 마킹 장치
JP2015005676A (ja) 照明光学系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
US20240126176A1 (en) Spatial light modulation unit and exposure apparatus
JP2006133431A (ja) 露光方法および装置
JPH09232226A (ja) スキャン式露光装置
JP2005049491A (ja) 照明光学系
JP2007005517A (ja) 光源ユニット、露光装置及び露光方法
KR20150087949A (ko) 마스크리스 노광 장치

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130404

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee