CN1646968A - 光调节设备 - Google Patents

光调节设备 Download PDF

Info

Publication number
CN1646968A
CN1646968A CNA038077892A CN03807789A CN1646968A CN 1646968 A CN1646968 A CN 1646968A CN A038077892 A CNA038077892 A CN A038077892A CN 03807789 A CN03807789 A CN 03807789A CN 1646968 A CN1646968 A CN 1646968A
Authority
CN
China
Prior art keywords
illumination
photohead
illumination equipment
described optical
spatial light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA038077892A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100409063C (zh
Inventor
亨里克·格伦特-马德森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dicon AS
Original Assignee
DiBcom SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DiBcom SA filed Critical DiBcom SA
Publication of CN1646968A publication Critical patent/CN1646968A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100409063C publication Critical patent/CN100409063C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/02—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2057—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using an addressed light valve, e.g. a liquid crystal device
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10—Scanning systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/74—Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor
    • H04N5/7416—Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor involving the use of a spatial light modulator, e.g. a light valve, controlled by a video signal

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

本发明涉及一种包括至少一曝光头(12)和至少两个光调节装置(20)的光照明装置。所述两光调节装置(20)的每一个包括一空间光调节器(31、32)和一通过所述空间光调节器(31、32)为照明一光照表面(15)布置的联合光发射器。所述两光调节装置(20)的每一个均为数字控制。所述设备包括在所述至少一曝光头和所述光照表面(15)之间沿至少一个方向(x；y)进行相对运动的装置。

Description

光调节设备
技术领域
本发明涉及一种根据权利要求1所述的光照明设备。
背景技术
通常的光照明设备包括一适用于照明一光敏材料的装置。这样的材料可以包括例如印刷板、适合于快速原形(rapid prototyping)的材料、胶卷等。照明的目的是为了获得该照明材料特性的某些改变。这样的照明因此可以例如在该照明材料或一特定构造上建立影像。
为了获得所需要的照明，必须调节光。调节传送到光照表面的光的一现有技术方法是运用一个或多个在光照表面上进行扫描时能进行调节的光束激光。
照明一光照表面的另一种更新的方法是运用一所谓的空间光调节器。这样的调节器的示例可以是DMD、LCD等等。所述空间光调节器适用于将一输入光束调节为许多单独的已调节光束。
该现有技术的一个问题是，结合采用的光调节器的性质与一些应用中的所需能量和照明速度，可获得的照明速度受到一些限制。
发明内容
本发明涉及一种包括至少一曝光头和至少两个光调节设备的光照明设备。
所述两个光调节装置的每一个各包括一个空间光调节器和一通过所述空间光调节器用于照明一光照表面而布置的联合光发射器。
所述两个光调节装置的每一个均为数字控制。
所述设备包括在所述至少一曝光头和所述光照表面之间沿至少一个方向进行相对运动的装置。
根据本发明已经实现，一可动曝光头可以有利地包括两个空间光调节器，由此便于在同一时间利用两个调节器进行扫描。
在本发明的一实施例中，所述光照明设备包括至少一曝光头和至少两个光调节装置。
所述两光调节装置的每一个各包括一个空间光调节器和一通过所述空间光调节器用于照明一光照表面而布置的联合光发射器。
所述两个光调节装置的每一个均为数字控制。
所述设备包括在所述至少一曝光头和所述光照表面之间沿至少一个方向进行相对运动的装置。
在本发明的一实施例中，所述至少两个光调节装置布置在同一曝光头上。
在本发明的一实施例中，所述相对运动为一扫描运动。
在本发明的一实施例中，通过相对于所述光照表面移动所述至少一个曝光头来实现所述相对运动。
在本发明的一实施例中，通过相对于所述至少一个曝光头移动所述光照表面来实现所述相对运动。
在本发明的一实施例中，至少一个曝光头包括两光调节装置。因此，通过在一个曝光头上设置两个空间光调节装置的方式建立了一有成本效益的照明光照表面的方法，从而获得了以相对高速扫描运动照明所述光照表面的照明装置。在上下文中注意的是，当所述运动装置的重量增加时，操作一曝光头可能有一定难度。
在本发明的一实施例中，通过相对于所述至少一个曝光头移动所述光照表面来实现所述相对运动。
在本发明的一实施例中，至少一个曝光头包括两光调节装置。
在本发明的一实施例中，所述光调节装置布置在至少两个不同的曝光头上，其中，所述曝光头在所述光照表面上进行扫描运动。当运用两个或更多的自由运行扫描曝光头时，对所述光照表面的照明可以谨慎地最优化，从而避免了所谓的“额外扫描”。原则上讲，由于所述曝光头进行的扫描可以适应以避免在所运用的曝光头之间的任何冲突的运动，因此，可以避免任何多余的扫描或至少使其最小化。由于这样的扫描运动确保一高速照明，而所述自由运行头确保了如上所述的光照表面的照明最优化，因此，多个自由运行曝光头通过扫描来照明一光照表面在效率上是相当有优势的。
根据上述自由运行曝光头的又一个实施例，其数量可以超过两个，例如总数为三个或更多。而且，每个曝光头可以例如包括两个或更多的例如图2所描述的类型的照明装置。
当布置所述空间光调节器以照明两个大体上分开的所述光照表面的子区域时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述空间光调节装置对正使得两个光调节器的行平行定向时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述空间光调节装置对正使得所述两空间光调节器的相邻行大体上定位，以使得所述两空间光调节器的两相邻行之间的距离(DN)大体上与单一光调整器的行之间的距离(DR)相同，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述两空间光调节器中心之间的距离的“x向投影”(D1)小于200毫米，优选小于150毫米，更优选大致为120毫米时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述两空间光调节器中心之间的距离的“y向投影”(D2)小于50毫米，优选小于35毫米，更优选是运用SXGA和XGA时大体上相应为25.6毫米或20.5毫米时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述两空间光调节器中心之间的距离小于121.73毫米(XGA)或122.70(SXGA)时，就得到本发明的一个有利实施例。
根据本发明可以认识到，所述光调节装置相当近的定位便于提高全面扫描的速度从而使有效扫描区域最优化。因此距离最小化的结果是，在扫描线的末端，所述曝光头的两空间光调节器尽可能长地维持有效。
当所述曝光头包括冷却装置时，就得到本发明的一个有利实施例。
冷却装置可以例如包括电驱动风扇。
当每个空间光调节装置各包括独立的冷却装置时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述大体上分离的子区域包括所述光照表面的邻接表面时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述至少一个方向大体上横向于所述光照表面的相对运动时，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述至少一个方向确立为：利用所述空间光调节器至少两个光调节器照明所述光照表面上的一个受照像素，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述至少一个方向确立为：利用所述空间光调节器至少一个调节器行照明所述光照表面上的一个受照像素，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述曝光头相对所述光照表面沿至少两个方向可动，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光发射器包括一光源，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光发射器包括连接到一光源的一光导之至少一个光发射端，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光发射器包括一灯泡，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光发射器包括一LED矩阵，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述空间光调节器包括一DMD芯片，就得到本发明的一个有利实施例。
所述照明装置的空间光调节阵列可以是一可传送的微机械快门阵列(transmissive micro-mechanical shutter array)，其在WO98 47048和WO9847042中得到公开并在此作为参考。
另一类型的空间调节器可以是DMD调节器或例如是LCD光调节器。
当所述空间光调节器包括一微机械可传送光调节器(micro-mechanical transmissive light modulator)，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光照表面包括一印刷板，就得到本发明的一个有利实施例。
当所述光照表面包括一光敏材料，例如环氧树脂，就得到本发明的一个有利实施例。还可以采用在本发明范围内的其它光敏材料，例如，丝网印刷用的感光乳剂、PCB感光乳剂，等等。
根据本发明，所述照明装置可以适用于所谓的快速原形(rapidprototyping)。
而且，本发明涉及一种照明一光照表面的方法，藉此，在至少一个曝光头上布置至少两个光调节装置，每一个各包括一利用扫描运动照明所述光照表面的空间光调节器。
在本发明一实施例中，所述至少两光调节装置布置在同一曝光头上。
在本发明一实施例中，所述至少两光调节装置布置在不同的自由运行曝光头上。
在本发明一实施例中，利用根据权利要求1-31中任何一项所述的一光照明设备进行所述照明。
附图说明
以下将参照附图对发明进行描述，其中，
图1示出根据本发明一优选实施例的曝光系统的视图；
图2示出根据本发明一优选实施例的照明装置的剖视图；
图3a示出了一曝光头相对一光照表面的一种扫描模式；以及
图3b示出了一曝光头相对一光照表面的另一种扫描模式；
图4a示出了在所述曝光头上的照明装置的一有利定位；以及
图4b-4c示出了本发明的进一步实施例。
具体实施例
图1示出了根据本发明一优选实施例的曝光系统的一些主要元件的视图。
图示的系统包括一具有两个用于照明一光照表面15的照明装置20的曝光头12。所述曝光头12悬挂在一悬架(未示出)上。所述悬架在适用的电子线路(未示出)的控制下辅助按箭头方向的运动。
为了说明目的，通过布置在照明装置20上的空间光调节器(例如DMD芯片)进行照明的两照明区域I1、I2在光照表面上指明。举例来说，如果使用TI DMD芯片，所述照明区域I1，I2可以包括例如1024×768(XGA)像素或者1280×1024像素(SXGA)。如果采用扫描运动，经调整的像素将会从行到行(或列到列)动态地转换，从而采用若干个像素(例如空间光调节器的一整行)来照明所述光照表面上的单个像素。因此，对单一像素传送的光学能量增大。
根据图解的实施例，所述曝光头在X方向上移动，所述光照表面15在Y方向上步进式移动。
显然，在本发明的范围内也可以采用其它相对移动方式。本发明另一有利的实施例可以是，例如，所述曝光头12在X向和Y向双向相对移动而所述光照表面保持静止。
所述照明装置的空间光调节阵列可以是一可传送的微机械快门阵列(transmissive micro-mechanical shutter array)，其在WO98 47048和WO9847042中得到公开并在此作为参考。
空间调节器的另一类型可以是DMD调节器。
图2示出了图1中所述光调节装置20之一的优选实施例。所述装置20的第一部分21产生一集中和均匀的光束。第一部分21包括一灯泡210、一灯泡驱动器211、一鼓风机216和一风扇217、一防护玻璃212、一快门213、一光汇集杆214和光束成形光学装置215。
所述灯泡210的类型取决于将要曝光的板的类型。可能的类型包括常规的短弧灯泡、激光源、二极管阵列和更多。一优选的常规灯泡可以具有270W的功率，但是本发明不受该值的限定，也不受上述灯泡类型的限定。可以考虑如250W和350W的替换物。
来自所述灯泡210的光束穿过一滤光器(取决于应用场合可以是例如IR或UV滤光器)212，其功能为干涉滤光器，并穿过一快门机械装置213，其能关闭所述光束而不需要关闭所述灯泡。由于多数类型的灯泡在它们的光强度和光频率稳定之前均需要时间，因此这是重要的。鼓风机216和风扇217确保所述灯泡210的冷却。
接着，所述光束穿过一光汇集杆214。籍此，所述光混合，使得所述光在整个光束中强度一致。这确保了光束外围的强度与光束中心的强度一致。当所述光离开所述光汇集杆214，由光束成形光学装置215对其进行聚焦。
所述装置20的下一部分调节所述光束来电子反射存储的图像数据。其包括一光调节装置22和一个把未调节的光束引导到所述光调节装置22而不干扰其已调节光束的输出的装置224。
合适的光调节装置22包括DMD调节器、包含LCD和微机械快门的可传送的快门和其它。对图2中的优选实施例而言，使用了安装在PCB221上的DMD光调制芯片220和冷却板222以及温度传感器223。
所述光引导装置224取决于所使用的光调节装置22的类型。对可传送的光调节装置而言，未调节的光束被导向所述光调节装置的一侧，而已调节的光束从另一侧射出。在这种装置中，可以不使用所述光引导装置224。
对DMD调节器而言，未调节的光束被导向与发射已调节光束相同的一点。这种情况需要使用光引导装置224。在图2的优选实施例中，一TIR棱镜作为光引导装置使用。TIR是“Total Internal Reflection”(全内反射)的缩写。TIR棱镜具有一表面225，该表面对来自一个方向的光(对本具体实施例而言是从左边)充当镜子的作用，而让来自另一方向的光(对本具体实施例而言是从上边)笔直穿过。
所述装置的最终部分聚焦从所述光调节装置220中射出的多个已调节光束于一光照表面24(印刷板)。该部分包括一组透镜/一位于外壳23内的微距镜230。
图3a示出了有关照明的曝光头扫描模式。
通过本发明的光照明装置，例如图2所描述的照明装置，获得的图示扫描模式涉及一曝光头30a的两照明装置31、32进行相对一光照表面的相对移动。两照明装置31、32设置在同一个曝光头30a上。
图示的其中一个照明装置31照明子区域SUB1，另一个照明装置32照明子区域SUB2。
应当注意的是：所述曝光头30a通过已调节光在两个方向上照明所述光照表面，包括在如水平箭头所示的扫描运动和如竖直箭头所示的以步阶301在每个扫描运动之间的移动。
在这里，所述y轴运动是由两光照明装置一起以对应于整个横向扫描宽度的步阶方式进行。
图3b示出了关于光照表面的曝光头30b的另一个的扫描模式。
根据本发明图示的实施例，一曝光头30b包括两个空间光调节器31、32(未示出带有空间调节器的照明装置)。所应用的照明装置31、32两者均可以是如图2中所示的照明装置。根据图示的实施例，设置仅在Y方向上位移的两个空间光调节器31、32(或者图1中的对应光照表面I1、I2)。
所述曝光头30b进行X方向上的前后扫描运动。而且，所述光照表面或所述曝光头进行主要包括两个不同步阶(小步阶302和大步阶303)的在Y方向上的相对运动。
根据图示的实施例，通过进行所述小步阶302照明八个子区域SUB1和八个子区域SUB2。其后，进行一大步阶303，通过进一步进行小步阶302照明新的一组子区域SUB1和SUB2。
应当强调的是：一些其它的扫描方法(模式)可以在本发明的范围中应用。
图4a说明了在例如图3a中所述曝光头上的所述照明装置(这里＝光学装置)的一具有优势的定位。所述照明装置20，例如可以是图2中说明的一个，用虚线示出。
所述光学装置的尺寸对机器的生产率和成本而言是相当重要的。所述曝光头的两个照明装置20布置的位置使可获得的照明区域在y轴(不要与扫描和调节器的轴线混淆)的方向相邻。这意味着，在x轴方向上所述光学装置之间存在中心距，参见图4a。
所述装置之间在x轴方向上的相互距离意味着，需要比实际的板长度更长的曝光以使得所述两曝光头经过整个板(光照表面)。这种多余的“额外扫描”是中心距D1的两倍。该额外扫描降低了生产率，并且增加了x向位移从而增加了机器的宽度。因此所述中心距必须尽可能的小。例如，一种最小距离的示例可以是：
中心距，x轴：D1＝120mm
中心距，y轴：D2＝(XGA)20.48±0.002mm和
             D2(SXGA)＝25.6±0.002mm
该下限值通过光学装置和例如图2中的微距镜230的进一步照明装置元件确定。一固定装置(未示出)允许单独调整所述光学装置的照明面，即在x轴和y轴的调整和绕z轴的旋转。这意味着，图像必须精确平行于所述微距镜外壳的凸缘以使得两图像在同一平面上。外壳的凸缘用于在z向将外壳固定到所述固定装置上。所述边缘的底部限定焦点以使得所述光学装置能抵靠一平坦表面安装并因此在同一平面上具有焦点。
图4b示出了本发明的进一步实施例，其中，装置包括四个安装在一曝光头50上的例如图2所示类型的光调节装置53、54、55、56。
由于安装在同一曝光头上，所述四个光调节装置53、54、55和56一起运动。可以用几种不同的方法依照例如图3a中说明的原理方便的进行扫描。
图4c说明了本发明的进一步实施例，其中，装置包括两个例如图2所示类型的光调节装置62、63。
本发明说明的实施例具有这样的优势：当例如以图示的箭头方向进行扫描时能使照明谨慎地对所述光照表面最优化，从而避免了上述的“额外扫描”。原则上讲，由于可以改进由曝光头60、61进行的扫描以避免在所述使用的曝光头60、61之间的任何相冲突的运动，因此可以避免任何多余的扫描。
由于以此方式的扫描动作确保了高速照明，而同时自由运行曝光头确保了如上所述的照明区域照明可以最优化这一事实，因此，所说明的实施例，其特征是多个自由运行曝光头通过扫描照明一光照表面，在效率方面具有相当优势。
显然，可以修改图4c的实施例以进一步整合入例如总体上为3个或更多的照明头。

Claims (35)

1、一种包括至少一个曝光头(12)和至少两个光调节装置(20)的光照明设备，
所述两光调节装置(20)的每一个各包括一空间光调节器(31、32)和一通过所述空间光调节器(31、32)为照明一光照表面(15)而布置的联合的光发射器，
所述两光调节装置(20)的每一个均为数字式控制，
所述设备包括在所述至少一个曝光头和所述光照表面(15)之间沿至少一个方向(x；y)进行相对运动的装置。
2、根据权利要求1所述的光照明设备，其中，所述至少两个光调节装置布置在同一曝光头(12)上。
3、根据权利要求1或2所述的光照明设备，其中，所述相对运动为一扫描运动。
4、根据权利要求1至3中任何一项所述的光照明设备，其中，通过相对于所述光照表面(15)移动所述至少一个曝光头(12)来形成所述相对运动。
5、根据权利要求1至4中任何一项所述的光照明设备，其中，通过相对于所述至少一个曝光头(12)移动所述光照表面(15)来形成所述相对运动。
6、根据权利要求1至5中任何一项所述的光照明设备，其中，至少一个曝光头(12)包括两个光调节装置。
7、根据权利要求1至6中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光调节装置布置在至少两个不同的曝光头(60、61)上，所述曝光头(60、61)在所述光照表面上进行扫描运动。
8、根据权利要求1至7中任何一项所述的光照明设备，其中，布置所述空间光调节器以照明所述光照表面(15)的至少两个大致分开的子区域(SUB1、SUB2)。
9、根据权利要求1至8中任何一项所述的光照明设备，其中，对正所述空间光调节装置(31、32)以使得两光调节器的平行定向。
10、根据权利要求1至9中任何一项所述的光照明设备，其中，对正所述空间光调节装置(20)以使得所述至少两空间光调节器的相邻行大致定位成：使在所述至少两空间光调节器的至少两相邻行之间的距离(DN)与在所述单个光调节器的行之间的距离(DR)大致相等。
11、根据权利要求1至10中任何一项所述的光照明设备，其中，所述至少两个空间光调节器中心之间的距离的“x向投影”(D1)小于200毫米，优选小于150毫米，更优选为大致120毫米。
12、根据权利要求1至11中任何一项所述的光照明设备，其中，所述两个空间光调节器中心之间的距离的“y向投影”(D2)小于50毫米，优选小于35毫米，当分别使用SXGA和XGA时，更优选的相应大致是25.6毫米或20.5毫米。
13、根据权利要求1至12中任何一项所述的光照明设备，其中，当分别使用SXGA和XGA时，所述两个空间光调节器中心之间的距离优选相应是122.7毫米或121.73毫米。
14、根据权利要求1至13中任何一项所述的光照明设备，其中，所述曝光头包括冷却装置(216、217)。
15、根据权利要求1至14中任何一项所述的光照明设备，其中，每个空间光调节装置包括单独的冷却装置(216、217)。
16、根据权利要求1至15中任何一项所述的光照明设备，其中，所述大体上分离的子区域(SUB1、SUB2)包括所述光照表面(15)的邻接表面。
17、根据权利要求1至16中任何一项所述的光照明设备，其中，所述至少一个方向大体上横向于所述光照表面(15)的相对移动。
18、根据权利要求1至17中任何一项所述的光照明设备，其中，所述至少一个方向确立为：利用所述空间光调节器之至少两个光调节器来照明所述光照表面上的一个受照像素。
19、根据权利要求1至18中任何一项所述的光照明设备，其中，所述至少一个方向确立为：利用所述空间光调节器之至少一个调节器行来照明所述光照表面上的一个受照像素。
20、根据权利要求1至19中任何一项所述的光照明设备，其中，所述曝光头相对所述光照表面在至少两个方向可动。
21、根据权利要求1至20中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光发射器包括一光源(210)。
22、根据权利要求1至21中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光发射器包括连接到一光源的一光导之至少一个光发射端。
23、根据权利要求1至22中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光发射器包括一灯泡。
24、根据权利要求1至23中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光发射器包括一LED矩阵。
25、根据权利要求1至24中任何一项所述的光照明设备，其中，所述空间光调节器包括一DMD芯片。
26、根据权利要求1至25任何一项所述的光照明设备，其中，所述空间光调节器包括一微机械可传送光调节器。
27、根据权利要求1至26中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光照表面包括一印刷板。
28、根据权利要求1至27中任何一项所述的光照明设备，其中，所述光照表面包括一光敏材料。
29、根据权利要求1至28中任何一项所述的光照明设备，其中，所述曝光头适用于在两横向方向进行正反向扫描。
30、根据权利要求1至29中任何一项所述的光照明设备，其中，所述空间光调节装置中心之间x方向上小于150毫米，优选小于121毫米。
31、根据权利要求1至30中任何一项所述的光照明设备，其中，所述空间光调节装置中心之间x方向上基本上为0(零)。
32、一种照明一光照表面(15)的方法，其中，在至少一个曝光头上布置至少两个光调节装置(20)，每一个各包括一个通过扫描运动照明所述光照表面(15)的空间光调节器(31、32)。
33、根据权利要求32所述的照明一光照表面的方法，其中，所述至少两个光调节装置(31、32)布置在同一曝光头(30a)上。
34、根据权利要求32所述的照明一光照表面的方法，其中，所述至少两光调节装置(62、63)布置在不同的自由运行曝光头(60、61)上。
35、照明一光照表面的方法，其中，利用根据权利要求1-31中任何一项所述的一光照明设备进行所述照明。
CNB038077892A 2002-04-09 2003-04-09 光调节设备 Expired - Fee Related CN100409063C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DKPA200200516 2002-04-09
DKPA200200516 2002-04-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1646968A true CN1646968A (zh) 2005-07-27
CN100409063C CN100409063C (zh) 2008-08-06

Family

ID=29225535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB038077892A Expired - Fee Related CN100409063C (zh) 2002-04-09 2003-04-09 光调节设备

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7145708B2 (zh)
EP (1) EP1493054A1 (zh)
JP (1) JP2005522733A (zh)
KR (1) KR100953112B1 (zh)
CN (1) CN100409063C (zh)
AU (1) AU2003226932B2 (zh)
CA (1) CA2481048A1 (zh)
WO (1) WO2003087915A1 (zh)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108303859A (zh) * 2018-03-19 2018-07-20 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种直写光刻机中高利用率高均匀度的led照明系统
CN109709775A (zh) * 2019-03-13 2019-05-03 苏州微影激光技术有限公司 一种曝光设备及曝光方法
CN109739073A (zh) * 2019-02-25 2019-05-10 钧迪智能装备科技(苏州)有限公司 一种弧形工件激光直写曝光方法
CN110286484A (zh) * 2013-10-20 2019-09-27 Mtt创新公司 光场投影装置及方法
CN111610697A (zh) * 2020-06-18 2020-09-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种di光刻机的led光学系统

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7417782B2 (en) 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
US8482496B2 (en) 2006-01-06 2013-07-09 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling MEMS display apparatus on a transparent substrate
US7755582B2 (en) 2005-02-23 2010-07-13 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US9082353B2 (en) 2010-01-05 2015-07-14 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US20070205969A1 (en) 2005-02-23 2007-09-06 Pixtronix, Incorporated Direct-view MEMS display devices and methods for generating images thereon
US7304785B2 (en) * 2005-02-23 2007-12-04 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US7746529B2 (en) 2005-02-23 2010-06-29 Pixtronix, Inc. MEMS display apparatus
US9229222B2 (en) 2005-02-23 2016-01-05 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US8310442B2 (en) 2005-02-23 2012-11-13 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US8519945B2 (en) 2006-01-06 2013-08-27 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7675665B2 (en) 2005-02-23 2010-03-09 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for actuating displays
US7742016B2 (en) 2005-02-23 2010-06-22 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US8159428B2 (en) 2005-02-23 2012-04-17 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US9261694B2 (en) 2005-02-23 2016-02-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US9158106B2 (en) 2005-02-23 2015-10-13 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US9087486B2 (en) 2005-02-23 2015-07-21 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7999994B2 (en) 2005-02-23 2011-08-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7271945B2 (en) * 2005-02-23 2007-09-18 Pixtronix, Inc. Methods and apparatus for actuating displays
US8526096B2 (en) 2006-02-23 2013-09-03 Pixtronix, Inc. Mechanical light modulators with stressed beams
US7876489B2 (en) 2006-06-05 2011-01-25 Pixtronix, Inc. Display apparatus with optical cavities
KR100800200B1 (ko) * 2006-06-29 2008-02-01 엘지전자 주식회사 프로젝션 시스템의 컬러 휠 냉각 구조.
EP2080045A1 (en) 2006-10-20 2009-07-22 Pixtronix Inc. Light guides and backlight systems incorporating light redirectors at varying densities
US7852546B2 (en) 2007-10-19 2010-12-14 Pixtronix, Inc. Spacers for maintaining display apparatus alignment
US9176318B2 (en) 2007-05-18 2015-11-03 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing fluid-filled MEMS displays
US8248560B2 (en) 2008-04-18 2012-08-21 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating prismatic structures and light redirectors
US8169679B2 (en) 2008-10-27 2012-05-01 Pixtronix, Inc. MEMS anchors
WO2011097252A2 (en) 2010-02-02 2011-08-11 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing cold seal fluid-filled display apparatus
US9134552B2 (en) 2013-03-13 2015-09-15 Pixtronix, Inc. Display apparatus with narrow gap electrostatic actuators

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5247180A (en) * 1991-12-30 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Stereolithographic apparatus and method of use
US5601957A (en) * 1994-06-16 1997-02-11 Nikon Corporation Micro devices manufacturing method comprising the use of a second pattern overlying an alignment mark to reduce flattening
US5646786A (en) * 1995-03-24 1997-07-08 Eastman Kodak Company Beamsplitter for laser multi-beam printers and recorders
US5825552A (en) * 1995-03-24 1998-10-20 Eastman Kodak Company Beamsplitter/staggerer for multi-beam laser printers
US6529265B1 (en) * 1997-04-14 2003-03-04 Dicon A/S Illumination unit and a method for point illumination of a medium
JP3618521B2 (ja) * 1997-09-03 2005-02-09 富士写真フイルム株式会社 画像露光装置
TW407222B (en) * 1998-05-14 2000-10-01 Primax Electronics Ltd The projective display apparatus used to show the image
DE19827602A1 (de) * 1998-06-20 1999-12-23 Zeiss Carl Fa Verfahren zur Korrektur nicht-rotationssymmetrischer Bildfehler
JP2001135562A (ja) * 1999-11-05 2001-05-18 Hitachi Ltd リソグラフィ装置
JP2001168003A (ja) * 1999-12-06 2001-06-22 Olympus Optical Co Ltd 露光装置
EP1107064A3 (en) * 1999-12-06 2004-12-29 Olympus Optical Co., Ltd. Exposure apparatus
US6643049B2 (en) * 2001-02-01 2003-11-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Compact imaging head and high speed multi-head laser imaging assembly and method
TW529172B (en) * 2001-07-24 2003-04-21 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus
JP2003080604A (ja) * 2001-09-10 2003-03-19 Fuji Photo Film Co Ltd 積層造形装置
JP4211252B2 (ja) * 2001-11-05 2009-01-21 株式会社日立製作所 パターン露光方法及びその装置
US6976426B2 (en) * 2002-04-09 2005-12-20 Day International, Inc. Image replication element and method and system for producing the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110286484A (zh) * 2013-10-20 2019-09-27 Mtt创新公司 光场投影装置及方法
CN108303859A (zh) * 2018-03-19 2018-07-20 合肥芯碁微电子装备有限公司 一种直写光刻机中高利用率高均匀度的led照明系统
CN109739073A (zh) * 2019-02-25 2019-05-10 钧迪智能装备科技(苏州)有限公司 一种弧形工件激光直写曝光方法
CN109709775A (zh) * 2019-03-13 2019-05-03 苏州微影激光技术有限公司 一种曝光设备及曝光方法
CN111610697A (zh) * 2020-06-18 2020-09-01 东莞科视自动化科技有限公司 一种di光刻机的led光学系统

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003087915A1 (en) 2003-10-23
US7145708B2 (en) 2006-12-05
US20050168789A1 (en) 2005-08-04
AU2003226932A1 (en) 2003-10-27
AU2003226932B2 (en) 2008-10-30
CA2481048A1 (en) 2003-10-23
CN100409063C (zh) 2008-08-06
KR20040099417A (ko) 2004-11-26
JP2005522733A (ja) 2005-07-28
EP1493054A1 (en) 2005-01-05
KR100953112B1 (ko) 2010-04-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1646968A (zh) 光调节设备
CN1109917C (zh) 照明一种感光介质用的装置和方法
CN1258694C (zh) 图案记录装置和图案记录方法
CN1073511C (zh) 一种发光二极管印刷头
CN1655052A (zh) 光源装置、光源装置制造方法及投影机
CN1112801A (zh) 用于投影彩色视频图像的投影系统与从属的转换光学系统
CN1896792A (zh) 光扫描装置、其控制方法及图像显示装置
CN1843065A (zh) 光源驱动方法和投影仪
CN1822644A (zh) 图像获取方法、图像获取装置、及具有该图像获取装置的装置
CN1272649C (zh) 光学扫描装置
CN1205496C (zh) 光学写部件的调焦方法和设备及结合该设备的成像装置
CN1909584A (zh) 有助于有效利用空间的成像设备
CN1624570A (zh) 投影机
CN1746719A (zh) 光学扫描装置和图像形成装置
CN101057183A (zh) 追踪方法及设备
CN1299145C (zh) 用于投影曝光的装置和方法
CN1453643A (zh) 在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法
CN101052920A (zh) 追踪方法及设备
JP2002296703A (ja) 画像読取装置の光源ランプのインバータ回路用基板の取付構造
CN1497334A (zh) 照明装置及投影机
CN1066602C (zh) 投影装置
CN1076485C (zh) 印相机
CN1766738A (zh) 描绘方法及装置
CN1194243C (zh) 光扫描装置及具有该装置的相片处理设备
CN1595288A (zh) 图像投影装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: SYDOW NIKE CO., LTD.

Free format text: FORMER OWNER: DICON AS

Effective date: 20061229

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20061229

Address after: Swiss Yu Denao

Applicant after: Dicon AS

Address before: Denmark, Rapp

Applicant before: Dibcom

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080806

Termination date: 20140409