DE19813713A1 - Kathodenstrahlröhre und ein Verfahren zum Herstellen derselben - Google Patents

Description

Verweis auf die dazugehörige Anmeldung

Diese Erfindung beruht auf der Anmeldung Nr. 97-13646, die am 14. April 1997 im koreanischen Amt für geistiges Eigentum (Korean Industrial Property Office) eingereicht worden ist, und deren Inhalt unter Bezugnahme hierin einbezogen ist.

Hintergrund der Erfindung (a) Erfindungsgebiet

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kathodenstrahlröhre (CRT) und ein verfahren zum Herstellen derselben und insbesonde­ re ein CRT-Herstellungsverfahren, das einen der ernsthaften Defekte beseitigt, der in CRT-Herstellungsverfahren erzeugt wird, der als Strahlenführungs-Kanalverstopfungs-Defekt (beam­ guide hole clogging defect) einer Lochmaske bezeichnet wird, und das die Verschlechterung des Elektronen-Emissionfehlers einer Elektronenkanone und das Auftreten eines Sprunges verhindert, während die Anzahl der CRT-Verarbeitungsschritte vermindert wird.

(b) Beschreibung des dazugehörigen Stands der Technik

Im allgemeinen sind CRTs aufgebaut, um das ursprüngliche Bild auf einem Glas-Bildschirm zu reproduzieren, und zwar durch das Empfangen der Bildsignale von außen und das Erregen des auf dem Bildschirm aufgetragenen Leuchtstoffes mit Elektronenstrah­ len, die von der Elektronenkanone in Übereinstimmung mit den Signalen ausgestrahlt werden.

Fig. 8 ist eine schematische Querschnittsansicht der allgemein bekannten CRT. Wie in der Figur gezeigt, umfaßt die CRT für gewöhnlich eine Platte 4, die über einen Leuchtstoff- Bildschirm 2 verfügt, einen Trichter 8, der in einer vakuumdich­ ten Weise mit der Platte 4 verbunden ist und der darauf eine Ablenkungseinheit 6 anbringt, und einen mit dem Trichter 8 verbundenen Hals 12, und zwar an der Rückseite, um darin eine Elektronenkanone 10 aufzunehmen.

Die Elektronenkanone 10 ist an einem Stutzen 14 angebracht, um daraus Strom zum Ausstrahlen, Fokussieren und Beschleunigen von thermischen Elektronen zu empfangen. Der Stutzen 14 ist auf eine solche Art und Weise Weise am Hals 12 eingefügt, um für eine vakuumdichten Abdichtung zwischen ihnen zu sorgen.

Ein herkömmliches Verfahren zur Abdichtung des Stutzens am Hals wird nunmehr mit Bezug auf Fig. 7 beschrieben.

Fig. 7 ist eine Querschnittansicht eines Halses 12 und Stutzens S vor der Durchführung eines Abdichtungsvorgangs. Wie in der Figur gezeigt, wird der Abdichtungsvorgang in einem solchen Zustand durchgeführt, wo der Stutzen S tief in das Innere des Halses 12 gesteckt wird. In diesem Zustand wird die Seitenfläche des Halses 12, die an einen Flansch des Stutzens S angrenzt, erhitzt, indem Schweißbrenner T verwendet werden, bis sie geschweißt wird, um dadurch zusammen mit dem Stutzen S eine Abdichtung bereitzustellen, und der verbliebene Endabschnitt des Halses 12 wird entfernt und entsorgt.

Wenn jedoch der Endabschnitt des Halses N abgeschnitten wird oder fällt, um dadurch in Stücke gebrochen zu werden, wird ein feines Glaspulver erzeugt.

Das Glaspulver wandert durch die Fabrik und dringt durch das extern am Stutzen angebrachte Ausströmungsrohr oder durch den Öffnungsabschnitt des Halses vor dem Abdichtungsvorgang in das Innere der CRT, so daß es die auf der Lochmaske ausgebilde­ ten Strahlenführungs-Kanäle verstopft. Dies bewirkt einen ernst­ haften Defekt in der CRT-Verarbeitung, der als Strahlenführungs- Kanalverstopfungs-Defekt bezeichnet wird.

Da der verbliebene Endabschnitt des Halses nach dem Abdichtungsvorgang abgeschnitten und entsorgt wird, ergibt sich darüber hinaus eine negative Auswirkung auf die Herstellungsko­ sten.

In der Zwischenzeit wird in einem japanischen Patent Nr. 8-83582 ein anderes herkömmliches Verfahren zum Abdichten des Stutzens am Hals offenbart. In dem Verfahren wird der Abdich­ tungsvorgang in einem Zustand derart durchgeführt, daß das Unterseitenende des Halses am oberen Abschnitt des Stutzen­ flansches positioniert wird.

Unterdessen sollte das Unterseitenende des Halses den oberen Abschnitt des Flansches gleichmäßig berühren, um zwischen dem Hals und dem Stutzen in diesem Zustand eine vakuumdichten Abdichtung bereitzustellen. Jedoch kann eine derartige gleichmäßige Berührung praktisch nicht erhalten werden, da beim Fixieren des Halses an einer vorbestimmten Stelle ein Fehler auftreten kann. Überdies sind sowohl der Endabschnitt des Halses als auch der obere Abschnitt des Flansches nicht flach.

Entsprechend befindet sich infolge ihrer rauhen Berührung immer ein Zwischenraum zwischen dem Unterseitenende des Halses und dem oberen Abschnitt des Flansches. Und wenn durch das Erhitzungselement wie beispielsweise einem Schweißbrenner der Erhitzungsvorgang an der mit dem Zwischenraum behafteten Berührungsseite durchgeführt wird, dringen die Flammen des Schweißbrenners durch den Zwischenraum in das Innere des Halses. Als Ergebnis werden die Elektroden der Elektronenkanone und die Stifte des Stutzens oxidiert, so daß die Elektronen-Emissionlei­ stung verschlechtert wird.

Darüber hinaus ist es erforderlich, daß ein zusätzlicher Schritt zum Bewegen des Stutzens in Richtung des Halses hinzuge­ fügt werden sollte, um zwischen dem Stutzen und dem Hals eine vakuumdichte Abdichtung bereitzustellen, indem der Zwischenraum dazwischen beseitigt wird.

Da der Endabschnitt des Halses am oberen Abschnitt des Stutzenflansches geschweißt werden sollte, kann der geschweißte Abschnitt außerdem mit Vorsprüngen der Stutzenstifte in Berüh­ rung kommen, wodurch ein Sprung verursacht wird.

Zusammenfassung der Erfindung

Entsprechend zielt die vorliegende Erfindung auf eine CRT und ein Verfahren zum Herstellen derselben, das im wesentlichen eines oder mehrere Probleme vermeidet, die aus den Beschränkun­ gen und Nachteilen aus dem dazugehörigen Stand der Technik erfolgen.

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine CRT und ein Verfahren zum Herstellen derselben bereitzustellen, das einen der im CRT-Herstellungsverfahren erzeugten ernsthaften Defekte beseitigt, der als Strahlenführungs-Kanalverstopfungs- Defekt (beam-guide hole clogging defect) einer Lochmaske bezeichnet wird, und das die Verschlechterung des Elektronen- Emissionfehlers einer Elektronenkanone und das Auftreten eines Sprungs verhindert, während die Anzahl von CRT-Bearbeitungs­ schritten vermindert wird.

Zusätzliche Merkmale und Vorteile der Erfindung werden in der folgenden Beschreibung dargelegt und teilweise aus der Beschreibung ersichtlich - bzw. können durch die praktische Anwendung der Erfindung in Erfahrung gebracht werden. Die Aufgaben und weitere Vorteile der Erfindung werden durch den Aufbau erfüllt und erreicht, der insbesondere sowohl in der geschriebenen Beschreibung und in den Ansprüchen hiervon als auch in den anliegenden Zeichnungen erläutert wird.

Um diesen und weitere Vorteile zu erfüllen, umfaßt die CRT folgendes: eine Platte, die über einen Leuchtstoff-Bildschirm verfügt; einen auf vakuumdichte Art und Weise mit der Platte verbundener Trichter; einen Hals, der mit dem Trichter an der Rückseite verbunden ist; und einen Stutzen, der eine Elektronen­ kanone daran anbringt und der über einen Flansch verfügt, wobei der Flansch am Hals abgedichtet ist; worin ein Unterseitenende des Halses einen Innendurchmesser aufweist, der größer als ein Außendurchmesser des Flansches ist, und wobei ein Abdichtungs­ vorgang zwischen dem Hals und dem Flansch in einem Zustand derart durchgeführt wird, daß sich eine Unterseite des Flansches an einer Stelle befindet, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses um weniger als eine Dicke des Flansches entfernt liegt, während sie oberhalb davon um die doppelte Dicke des Flansches entfernt liegt. Nach Abschluß des Abdichtungsvorgangs liegt das Unterseitenende des Halses an einer Stelle, die sich zwischen der Unterseite und der Oberseite des Flansches befindet.

Das CRT-Herstellungsverfahren umfaßt folgende Schritte: das Bereitstellen eines Stutzens mit einem Flansch, der einen Außendurchmesser aufweist, der kleiner als ein Innendurchmesser eines Unterseitenendes des Halses ist; das Durchführen eines Abdichtungsvorgangs zwischen dem Stutzen und dem Hals in einem solchen Zustand, daß sich eine Unterseite des Flansches an einer Stelle befindet, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses um weniger als eine Dicke des Flansches entfernt liegt, während sie oberhalb davon um weniger als die doppelte Dicke des Flansches entfernt liegt; und das Bewegen des Stutzens nach unten während des Abdichtungsvorgangs, um den Dichtungsabschnitt des Halses zu verlängern, wodurch verhindert wird, daß er kollabiert. Nach Abschluß des Abdichtungsvorgangs liegt das Unterseitenende des Halses an einer Stelle, die sich zwischen der Unterseite und der Oberseite des Flansches befindet.

Es sollte klar sein, daß sowohl die vorhergehende allgemeine Beschreibung als auch die folgende detaillierte Beschreibung beispielhaft und erklärend sind, und zur Absicht haben, eine weitere Erklärung der Erfindung bereitzustellen, wie sie beansprucht ist.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

Die begleitenden Zeichnungen, die eingeschlossen sind, um für ein weiteres Verständnis der Erfindung zu sorgen und die in dieser Beschreibung eingeschlossen sind und einen Teil davon bilden, veranschaulichen eine besondere Ausführungsform der Erfindung und dienen zusammen mit der Beschreibung zur Erklärung der Grundsätze der Erfindung.

In den Figuren:

Fig. 1A ist eine Querschnittsansicht eines Halses und eines Stutzens der CRT, bevor ein Abdichtungsvorgang durchgeführt wird, und zwar gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

Fig. 1B ist eine Querschnittsansicht des Halses und des Stutzens der CRT, die einen Zustand zeigt, in dem das Untersei­ tenende des Halses geschweißt ist und nach oben hin schrumpft, und zwar gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform;

Fig. 2 ist eine Querschnittsansicht des Halses und des Stutzens der CRT, die einen Zustand zeigt, in dem der Hals und der Stutzen auf eine solche Art und Weise miteinander verbunden werden, um eine vakuumdichte Abdichtung zwischen ihnen bereitzu­ stellen, und zwar gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform;

Fig. 3 ist eine Querschnittsansicht eines Halses und eines Stutzens der CRT, bevor ein Abdichtungsvorgang durchgeführt wird, und zwar gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

Fig. 4 ist eine Querschnittsansicht des Halses und des Stutzens der CRT, die einen Zustand zeigt, in dem der Hals und der Stutzen auf eine solche Art und Weise miteinander verbunden werden, um eine vakuumdichte Abdichtung zwischen ihnen bereitzu­ stellen, und zwar gemäß der zweiten bevorzugten Ausführungsform;

Fig. 5 ist eine Querschnittsansicht eines Halses und eines Stutzens der CRT, bevor ein Abdichtungsvorgang durchgeführt wird, und zwar gemäß einer dritten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;

Fig. 6 ist eine Querschnittsansicht des Halses und Stutzens der CRT, die einen Zustand zeigt, in dem der Hals und der Stutzen auf eine solche Art und Weise miteinander verbunden werden, um eine vakuumdichte Abdichtung zwischen ihnen bereitzu­ stellen, und zwar gemäß der dritten bevorzugten Ausführungsform;

Fig. 7 ist eine Querschnittsansicht eines Halses und eines Stutzens der CRT, bevor ein Abdichtungsvorgang gemäß einem herkömmlichen Verfahren durchgeführt wird; und

Fig. 8 ist eine schematische Querschnittsansicht der allgemein wohlbekannten CRT.

In der folgenden detaillierten Beschreibung wurde nur die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung gezeigt und beschrieben, und zwar mittels der Veranschaulichung der besten Ausführungsform, die von dem (den) Erfinder(n) zur Durchführung der Erfindung in Betracht gezogen wird. Wie erkannt werden wird, kann die Erfindung ohne Loslösung von der Erfindung in verschiedener offensichtlicher Hinsicht abgeändert werden. Entsprechend müssen die Zeichnung und die Beschreibung als rein veranschaulichend und nicht als einschränkend betrachtet werden.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Es wird detailliert auf die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung Bezug genommen, von denen Beispiele in den begleitenden Zeichnungen dargestellt werden.

Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht eines Halses und eines Stutzens der CRT gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. In dieser bevorzugten Ausführungs­ form verfügt der Hals 20 über die ganze Länge von seinem oberen Ende bis hin zum Unterseitenende über einen gleichmäßigen Innen­ durchmesser D1, und der Stutzen 26 verfügt über einen Flansch 30, der am Hals 20 abgedichtet werden soll.

Der Stutzen 26 wird mit einer Mehrzahl von Stiften 24 bereitgestellt, um einer Elektronenkanone (nicht gezeigt) Strom zuzuspeisen. Der Stutzen 26 hat einen Außendurchmesser D2, der kleiner als der Innendurchmesser D1 des Halses 20 ist, so daß der Stutzen 26 in das Innere des Halses 20 gesteckt werden kann.

Der Stutzen 26 wird weiterhin mit einem Ausströmungsrohr 28 bereitgestellt, der extern damit verbunden ist, um Luft vom Inneren der CRT nach außen abzulassen.

Wenn der Stutzen 26 in das innere des Halses 20 eingefügt wird, wird eine Unterseite des Flansches 30 in eine Stelle positioniert, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses 20 um weniger als eine Dicke D3 des Flansches 30 entfernt liegt, während sie oberhalb davon um weniger als die doppelte Dicke entfernt liegt. Solchermaßen kann vor der Durchführung des Abdichtungsvorgangs die Unterseite des Flansches 30 - abhängig von dem nachstehend beschriebenen Schrumpfvorgang des Halses - in einem Bereich, der um weniger als eine Flansch-Dicke D3 unterhalb bzw. außerhalb des Unterseitenendes des Halses 20 liegt, bis hin zu einem Bereich angebracht werden, der um weniger als die doppelte Flansch-Dicke 2×D3 oberhalb bzw. innerhalb des Unterseitenendes des Halses 20 liegt. Bei einer geringen Schrumpfstrecke wird die Unterseite des Flansches 30 vorzugsweise an einer Stelle angebracht, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses 20 liegt, wohingegen diese Stelle bei einer längeren Schrumpfstrecke, wie in Fig. 1b gezeigt, vorzugsweise oberhalb des Unterseitenendes des Halses 20 liegt. Nach Abschluß des Abdichtungsvorgangs liegt das Unterseitenende des Halses 20 an einer Stelle, die sich zwischen der Unterseite und der Oberseite des Flansches 30 befindet. Die Dicke der gegenwärtig verfügbaren Stutzenflansche liegt im Bereich von 1,5-3,0 mm, obwohl sie in Übereinstimmung mit der Größe der CRT oder infolge eines Flansch-Verarbeitungsfehlers mehr oder weniger variieren kann.

Der Grund dafür, daß die Stelle des Flansches wie oben bestimmt wird, liegt darin, daß der Endabschnitt des Halses geschweißt wird und, wie in der Fig. 1B gezeigt, während des Erhitzungsvorgangs nach oben hin schrumpft, und wobei die Schrumpfstrecke maximal das Zweifache der Dicke des Flansches beträgt. Und auf eine solche Art und Weise kann das Innere des Halses vor der während des Erhitzungsvorgangs erzeugten Hitze geschützt werden.

Vorzugsweise befindet sich die Unterseite des Flansches an einer Stelle im Inneren des Halses, die 0,3-0,8 mm vom Unterseitenende des Halses entfernt ist.

In einem derartigen Zustand werden der Stutzen 26 und der Hals 20 erhitzt, indem ein Schweißbrenner T verwendet wird, bis sie geschweißt und dadurch zusammen abgedichtet werden.

Den Abdichtungsvorgang begleitend, wird der Stutzen 26 nach unten gezogen, um den abgedichteten Abschnitt des Halses 20 zu verlängern, wodurch die gekrümmten Abschnitte 51 zwischen dem Stutzen 26 und dem Hals 20 ausgebildet werden.

Der Grund dafür, daß der Stutzen 26 gegensätzlich zum Hals 20 nach unten bewegt wird, liegt darin, daß die innere und äußere Fläche des Unterseitenendes des Halses während des Erhitzungsvorgangs kollabieren, und die kollabierten Abschnitte eine negative Auswirkung auf das CRT-Herstellungsverfahren haben. Das heißt, daß die kollabierte Außenfläche des Halses ein Hindernis für den Schritt zum Anbringen eines Ablenkjoches am Hals ist, während die kollabierte Innenfläche des Halses mit den Vorsprüngen zum Schützen der Stutzenstifte 24 in Berührung kommt, wodurch ein Sprung entsteht.

Im Verfahren gemäß der ersten Ausführungsform wird das Unterseitenende des Halses ohne irgendeinen zu entsorgenden Abschnitt direkt am Stutzen abgedichtet, so daß kein durch das gebrochene Glas verursachte Glaspulver erzeugt wird, wodurch einer der ernsten Mängel in CRT-Herstellungsverfahren beseitigt wird, der als ein Strahlenführungs-Kanalverstopfungs-Defekt der Lochmaske bezeichnet wird.

Darüber hinaus umfaßt das Verfahren weiterhin einen Schritt, damit Druckluft im Inneren des Halses 20 während des Abdichtungsvorgangs durch das Ausströmungsrohr 28 eingeführt wird. Das Ausströmungsrohr 28 ist mit einer Druckluft-Erzeu­ gungseinheit A verbunden, um die Druckluft daraus zu empfangen. Die Druckluft wird der Innenfläche des Halses angelegt, um zu verhindern, daß sie während des Erhitzungsvorgangs kollabiert. Selbst wenn das Unterseitenende des Halses erhitzt wird, kommt solchermaßen seine Innenfläche nicht mit den Vorsprüngen der Stutzenstifte in Berührung, wodurch das Entstehen eines Sprunges vermieden wird.

Eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4 beschrieben, worin dieselben Bezugsziffern Elemente bezeichnen, die mit jenen in der ersten bevorzugten Ausführungsform beschriebenen identisch sind. In dieser bevorzugten Ausführungsform wird der Untersei­ tenabschnitt des Halses 20 stetig vergrößert, um dadurch einen vergrößerten Öffnungsabschnitt 32 zu bilden, und der Außendurch­ messer D2 des Flansches 30 ist, abgesehen vom vergrößerten Öffnungsabschnitt 32, größer als der Innendurchmesser D1 des Halses 20. Das heißt, daß der Durchmesser des Halses verringert wird, während der Außendurchmesser des Flansches vergrößert wird. Auf diese Art und Weise kommt die Innenfläche des Halses 20 selbst während des Erhitzungsvorgangs nicht mit den Vorsprüngen der Stutzenstifte 24 in Berührung.

Das Verfahren gemäß der zweiten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung löst die Probleme, die in der zuvor zitierten japanischen Patentoffenlegung Nr. 8-83582 bestanden, während es dieselbe Aufgabe des Patents erfüllt und darüber hinaus die Wirkungen, die in ersten bevorzugten Ausführungsform erhalten werden, auch erfüllt.

Im zuvor erwähnten Verfahren wird der Stutzen 26 derart an der Innenseite des vergrößerten Öffnungsabschnitts 32 positio­ niert, daß die Oberseite des Stutzenflansches 30 über dem Unter­ seitenende des vergrößerten Öffnungsabschnitts 32 positioniert wird. Daraufhin werden der vergrößerte Öffnungsabschnitt 32 und der Flansch 30 erhitzt, bis sie verschweißt werden, um dadurch zusammen abgedichtet zu werden.

Die nachfolgenden Abdichtungs-Betriebsschritte werden auf dieselbe Weise wie in Zusammenhang mit der bevorzugten Ausführungsform durchgeführt.

Eine dritte bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird in den Fig. 5 und 6 gezeigt, worin dieselben Bezugsziffern Elemente bezeichnen, die mit denjenigen identisch sind, die in den vorherigen Ausführungsformen beschrieben worden sind. In dieser bevorzugten Ausführungsform ist der Außendurch­ messer des Halses 20 über die ganze Strecke, die von seinem oberen Ende bis zu dem Unterseitenende reicht, gleichbleibend. Jedoch wird der Innendurchmesser des Halses im Öffnungsabschnitt stetig vergrößert. Entsprechend können die zuvor in der zweiten bevorzugten Ausführungsform beschriebenen Auswirkungen auch in dieser bevorzugten Ausführungsform erhalten werden.

Zusätzlich zu den oben beschriebenen Vorteilen wird in der erfindungsgemäßen CRT der Stromverbrauch zum Betreiben der CRT vermindert, indem der Durchmesser des Halses minimiert wird. Darüber hinaus ist im erfindungsgemäßen CRT-Herstellungsverfah­ ren kein zusätzlicher Schritt zum Beseitigen des Zwischenraums zwischen dem Stutzen und dem Hals während des Abdichtungsverfah­ rens erforderlich, der in der herkömmlichen CRT-Bearbeitung nötig ist. Entsprechend kann auch die Anzahl der CRT-Verarbei­ tungsschritte reduziert werden.

Es wird den Fachmännern auf dem Gebiet offensichtlich sein, daß in der CRT und im Verfahren zum Herstellen derselben verschiedene Abänderungen und Alternativen vorgenommen werden können, ohne sich vom Geist und von der Tragweite der Erfindung zu lösen. Solchermaßen ist es die Absicht der vorliegenden Erfindung, Abänderungen und Alternativen dieser bereitgestellten Erfindung zu umfassen, sofern sie in den Schutzumfang der anliegenden Ansprüche und ihrer Äquivalente fallen.

Claims (14)

1. Eine Kathodenstrahlröhre, die folgendes umfaßt:
eine Platte, die über einen Leuchtstoff-Bildschirm verfügt;
einen mit der Platte auf eine vakuumdichte Art und Weise verbundener Trichter;
einen Hals, der mit dem Trichter an der Rückseite verbundenen ist; und
einen Stutzen, auf dem eine Elektronenkanone angebracht ist, und der über einen Flansch verfügt, wobei der Flansch am Hals abgedichtet ist,
worin ein Unterseitenende des Halses einen Innendurchmesser hat, der größer als ein Außendurchmesser des Flansches ist, und worin ein Abdichtungsvorgang zwischen dem Hals und dem Flansch in einem derartigen Zustand durchgeführt wird, daß sich eine Unterseite des Flansches an einer Stelle befindet, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses um weniger als eine Dicke des Flansches entfernt liegt, während sie oberhalb des Unterseiten­ endes des Halses um weniger als die doppelte Dicke des Flansches entfernt liegt.

2. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin der Abdichtungsvorgang in einem derartigen Zustand durchgeführt wird, daß sich die Unterseite des Flansches an einer Stelle im Inneren des Halses befindet, wobei die Stelle 0,3-0,8 mm vom Unterseitenende des dazugehörigen Halses entfernt liegt.

3. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin der Abdichtungsvorgang in einem derartigen Zustand durchgeführt wird, daß das Unterseitenende des Halses oberhalb der Unterseite des Flansches, aber unterhalb einer Oberseite des Flansches positioniert wird.

4. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin der Stutzen während des Abdichtungsvorgangs nach unten gezogen wird, um den abgedichteten Abschnitt des Halses zu verlängern, wodurch verhindert wird, daß der abgedichtete Abschnitt des Halses kollabiert.

5. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin der Innendurchmesser des Halses über die ganze Strecke, die von einem oberen Ende des Halses bis zu dem Unterseitenende reicht, gleichbleibend ausgebildet ist.

6. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin das Unterseitenende des Halses einen vergrößerten Öffnungsabschnitt umfaßt, wobei der vergrößerte Öffnungsabschnitt einen sich stetig vergrößernden Durchmesser aufweist.

7. Die Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, worin das Unterseitenende des Halses einen vergrößerten Öffnungsabschnitt umfaßt, wobei der vergrößerte Öffnungsabschnitt über einen gleichbleibenden Außendurchmesser und einen sich stetig vergrößernden Innendurchmesser verfügt.

8. Ein Verfahren zum Herstellen einer Kathodenstrahlröhre, wobei das Verfahren folgende Schritt umfaßt:
das Bereitstellen eines Stutzens mit einem Flansch, der einen Außendurchmesser hat, der kleiner als ein Innendurchmesser eines Unterseitenendes eines Halses ist;
das Durchführen eines Abdichtungsvorgangs zwischen dem Stutzen und dem Hals in einem derartigen Zustand, daß sich eine Unterseite des Flansches an einer Stelle befindet, die unterhalb des Unterseitenendes des Halses um weniger als eine Dicke des Flansches entfernt liegt, während sie oberhalb des Unterseiten­ endes des Halses um weniger als die doppelte Dicke des Flansches entfernt liegt; und
das Bewegen des Stutzens nach unten während des Abdichtungsvorgangs, um den abgedichteten Abschnitt des Halses zu verlängern, wodurch verhindert wird, daß der abgedichtete Abschnitt des Halses kollabiert.

9. Das Verfahren nach Anspruch 8, worin der Abdichtungsvor­ gang in einem derartigen Zustand durchgeführt wird, daß sich die Unterseite des Flansches an einer Stelle im Inneren des Halses befindet, wobei die Stelle 0,3-0,8 mm vom Unterseitenende des dazugehörigen Halses entfernt liegt.

10. Das Verfahren nach Anspruch 8, worin der Abdichtungs­ vorgang in einem derartigen Zustand durchgeführt wird, daß das Unterseitenende des Halses oberhalb der Unterseite des Flansches aber unterhalb einer Oberseite des Flansches positioniert wird.

11. Das Verfahren nach Anspruch 8, das weiterhin einen Schritt zum Bereitstellen von Druckluft im Inneren der Kathoden­ strahlröhre durch ein Ausströmungsrohr des Stutzens umfaßt.

12. Das Verfahren nach Anspruch 8, worin der Innendurchmes­ ser des Halses über die ganze Strecke, die von einem oberen Ende des Halses bis zu dem Unterseitenende reicht, gleichbleibend ausgebildet ist.

13. Das Verfahren nach Anspruch 8, worin das Unterseitenen­ de des Halses einen vergrößerten Öffnungsabschnitt umfaßt, wobei der vergrößerte Öffnungsabschnitt über einen sich stetig vergrößernden Durchmesser verfügt.

14. Das Verfahren nach Anspruch 8, worin das Unterseitenen­ de des Halses einen vergrößerten Öffnungsabschnitt umfaßt, wobei der vergrößerte Öffnungsabschnitt über einen gleichbleibenden Außendurchmesser und einen sich stetig vergrößernden Innendurch­ messer verfügt.