DE19646993A1 - Verfahren zum Herstellen einer Siebdruckform sowie Siebdruckgewebe aus einer beschichteten Siebbahn - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Siebdruckform aus einer Siebbahn, beispielsweise aus Kunst­ stoffilamenten, durch Beschichten mit einer - insbesondere lichtempfindlichen - Emulsion. Zudem erfaßt die Erfindung ein Siebdruckgewebe aus einer beschichteten Siebbahn.

Das Siebdruckverfahren ist - Jahrhunderte nach seiner er­ sten Anwendung in China - etwa seit dem 19. Jahrhundert in Europa bekannt; ein feinmaschiges Textil- oder Drahtgewebe wird in einem Siebdruckrahmen aufgespannt und in den bild­ freien Bereichen mit einer Schablone farbundurchlässig ab­ gedeckt. Neben manuellen Schnittschablonen - etwa für Be­ schriftungen - sind heute bevorzugt photographisch herge­ stellte Direkt- oder Indirektschablonen üblich; die Wahl der Schablonenart - bei den Direktschablonen solche mit Emulsion, mit Direktfilm und Emulsion oder mit Direktfilm und Wasser - bleibt dem Siebdrucker überlassen.

Um eine Siebdruckform herzustellen, bedarf es üblicherweise mehrerer Schritte. Zuerst wird ein Siebdruckgewebe über einem Druckrahmen aus Leichtmetall, Holz od. dgl. aufge­ spannt und in seiner Spannlage mit dem Druckrahmen ver­ klebt. Dann wird das Gewebe mit lichtempfindlicher Emulsion - beispielsweise unter Einsatz einer Beschichtungsrinne manuell oder maschinell mit einem Beschichtungsautomaten - beschichtet. Da die Beschichtung nicht exakt bis zur Rah­ meninnenseite erzeugt werden kann, muß die Restfläche nach­ träglich mit Siebfüller abgedichtet werden. Nunmehr wird die beschichtete Fläche mittels einer dem Druckbild ent­ sprechenden Kopiervorlage (Film) belichtet. Die nicht be­ lichteten Druckbildbereiche werden ausgewaschen. Nach dem Trocknen der Schablone erfolgt das Retuschieren sowie das Abdecken der Ränder mit Siebfüller.

Es hat sich u. a. als schwierig erwiesen, auf den den üblicherweise in sog. Taffet-Bindung hergestellten Siebge­ weben eine exakte ebene Schichtoberfläche zu erzielen. Be­ dingt durch den niedrigen Festkörperanteil - üblicherweise unter 50% - der Emulsion sinkt die Schicht beim an­ schließenden Trocknungsprozeß in die Maschenöffnungen des Gewebes ein, womit eine gewisse Rauheit der Oberfläche ent­ stehen kann. Für gewisse Anwendungsgebiete mag diese Ober­ flächengüte ausreichen, doch für höhere Qualitätsansprüche ist zumindest ein weiterer Beschichtungsvorgang angebracht.

Soll eine Mehrzahl kleiner Rahmen - beispielsweise zum Herstellen kleinflächiger Druckbilder - bespannt werden, wird ein sogenannter Mutterrahmen eingesetzt und auf diesem das Siebgewebe aufgespannt; dieses ist am Mutterrahmen bei­ spielsweise durch in der EP 0 650 832 A1 der Anmelderin be­ schriebene Spannklammern gehalten. Man legt die kleineren Siebdruckrahmen auf eine Unterlage und über diese die unter Spannung gehaltene Siebbahn.

Ein Verfahren zum Herstellen photochemisch beschichteten Materials für Siebdruckzylinder offenbart die DE-OS 34 41 593. Dabei wird ein Chromstahldrahtgewebe mit geeig­ neter Maschenweite mit Nickel elektrolytisch, chemisch oder durch Vakuumbedampfung soweit beschichtet, daß die Kreu­ zungspunkte des Gewebes verschiebungsfrei befestigt sind; das verfestigte Material wird dann mit zumindest einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Emulsion durch Auftra­ gen dieser Emulsion auf einer ebenen Oberfläche und Ein­ betten des Gewebes in die Rückseite der Emulsionsschicht sowie deren Verbindung durch Auftragen einer weiteren Emul­ sionsschicht so beschichtet, daß eine ebene Kopierschicht auf der druckseitigen Oberfläche der Siebschablone ent­ steht.

In Kenntnis dieser Gegebenheiten hat sich der Erfinder das Ziel gesetzt, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art zu verbessern und vor allem das problemlose Herstellen von begrenzten Beschichtungsfeldern zu ermöglichen, die durch einen Klebevorgang mit einem Spannrahmen verbunden werden sollen.

Zur Lösung dieser Aufgabe führt die Lehre der unabhängigen Patentansprüche; die Unteransprüche geben günstige Ausge­ staltungen an.

Erfindungsgemäß wird eine Siebbahn innerhalb einer vorgege­ benen Umrißkontur partiell mit aus der Emulsion bestehenden Beschichtungsfeldern versehen, wobei die Emulsion bevorzugt bahnförmig oder auch punktweise auf die Siebbahn aufgebracht wird. Vorteilhaft ist es, für das Auftragen zumindest eine Düse einzusetzen, die parallel zur Längs­ richtung der Siebbahn über das Siebgewebe geführt wird und seitlich aneinandergrenzende Beschichtungsstreifen erzeugt, die gemeinsam das Beschichtungsfeld ergeben.

Die Beschichtungsfelder können auf unterschiedliche Weise erzeugt werden. Zum einen können sie - bei niedrigen An­ forderungen, rauher Oberfläche - direkt auf die Siebbahn aufgetragen und anschließend getrocknet werden. Auch ist es möglich, diese direkt auf die Siebbahn applizierten Be­ schichtungsfelder mit einer Schutzfolie zu kaschieren und erst dann zur Trocknungsstation zu bringen; dies geschieht vor allem bei hohen Anforderungen und gutem Rauhigkeitswert in der Z-Achse. Besonders vorteilhaft ist es aber, die Beschichtungsfelder auf einem stabilen Trägermaterial zu erzeugen und letzteres mit den nassen Emulsionsbereichen der Siebbahn zuzuführen; dann werden diese Emulsionsberei­ che auf die Siebbahn transferiert und anschließend ge­ trocknet. Dann wird jenes Trägermaterial abgezogen oder aber als Schutzfolie vorläufig an der Siebbahn gehalten.

Es liegt im Rahmen der Erfindung, daß eine Mittellinie des entstehenden - durch seine bevorzugt vier Umrißlinien de­ finierten - Beschichtungsfeldes mit einer Längskante der Siebbahn einen Neigungswinkel einschließt; die Umrißlinien sind um das Zentrum des Beschichtungsfeldes in jenem Winkel - von bevorzugt weniger als 45° - gedreht.

Das Auftragen der Beschichtungsfelder in einem Neigungswin­ kel zur Siebbahn läßt erfindungsgemäß ein gewinkeltes Auf­ spannen der beschichteten Gewebeabschnitte auf einem Druck­ rahmen zu. Gewinkelt aufgespannte Gewebe ermöglichen einen sauberen Druck von Linien, die parallel zum Siebdruckrahmen gedruckt werden müssen. Entscheidend ist, daß dabei keine Parallelität zwischen dem Fadenverlauf des Siebgewebes und der zu druckenden Linie besteht.

Eine Vereinfachung der Fertigung entsteht vor allem dann, wenn das Beschichtungsfeld aus einzelnen, jeweils von einer Düse od. dgl. Werkzeug erzeugten, parallel benachbarten Be­ schichtungsbahnen zusammengesetzt wird, deren Längsränder ineinander übergehen, so daß keine das Beschichtungsfeld durchziehende Konturstreifen verbleiben.

Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung ist jede Schmal­ kante der streifenartigen Beschichtungsbahn jeweils einer der Umrißlinien des zur Achse des Mutterrahmens gewinkelten Beschichtungsfeldes zugeordnet.

Im Rahmen der Erfindung liegt es, in die Mittellinie der Kontur des Beschichtungsfeldes die Mittellinie eines dem Beschichtungsfeld zugeordneten Spannrahmens zu legen, der in Abstand zu den Umrißlinien angeordnet und dann mit der Siebbahn in deren gespanntem Zustand außerhalb des Be­ schichtungsfeldes verklebt wird. Nach dem Abdecken der zwi­ schen Spannrahmen und Beschichtungsfeld verbleibenden Sieb­ bahnbereiche durch eine undurchlässige Schicht entsteht auf einfache Weise eine beschichtete Druckschablone insbeson­ dere für kleinere Flächen, wobei die Anzahl der Umrißlinien des polygonen Beschichtungsfeldes unterschiedlich sein kann.

In besonderen Fällen können die Beschichtungsfelder auch auf eine andere Weise erzeugt werden; die Siebbahn wird an einer Oberfläche mit einer durchgehenden Emulsionsschicht versehen, aus der anschließend die Bereiche entfernt wer­ den, welche nicht zu einem vorgegebenen Muster aus den Be­ schichtungsfeldern gehören.

Besonders vorteilhaft ist es, diese überflüssigen Zonen der Beschichtung unmittelbar nach deren Auftrag - also in feuchtem Zustand der Emulsion - abzusaugen.

Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich auf der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnung; diese zeigt in:

Fig. 1 die Draufsicht auf eine Vorrichtung zum Aufspannen eines beschichteten Siebbahnrapports mit Gruppen von Spanneinrichtungen;

Fig. 2 eine skizzierte Seitenansicht einer Anlage zum Beschichten einer Sieb­ bahn;

Fig. 3, 4: Draufsichten auf eine Siebbahn mit Beschichtungsfeldern;

Fig. 5, 6: andere Draufsichten auf die Sieb­ bahn, die gegenüber Fig. 3, 4 ver­ kleinert dargestellt ist;

Fig. 7 eine gegenüber Fig. 3 bis 6 ver­ größerte Siebbahn mit mehreren be­ schichteten Bereichen für zugeord­ nete Spannrahmen;

Fig. 8 einen beschichteten Bereich in ge­ genüber Fig. 7 vergrößerter Drauf­ sicht;

Fig. 9 eine der Darstellung der Fig. 2 entsprechende Skizze einer anderen Anlage;

Fig. 10 die Draufsicht auf die Anlage der Fig. 9.

Eine Vorrichtung 10 zum Aufspannen eines rechteckigen Zeug­ stückes bzw. einer Siebbahn 12 aus bevorzugt gazeartigem Siebmaterial zum Einsatz im Siebdruckverfahren weist - entlang den vier Seiten eines Gestellrahmens 14 - mehrere Klemmelemente oder Spanneinrichtungen 16 auf. Diese ergrei­ fen mit jeweils einem Klemmaul 18 einen Abschnitt der Siebbahn 12 in deren Randbereich und spannen die dann ringsum festliegende Siebbahn 12 durch Verstellen jeweils eines Zugzylinders 19 in Zugrichtung x. Die Siebbahn 12, deren Oberfläche mit Beschichtungsfeldern 20 versehen ist, liegt dem Mutterrahmen 14 auf und wird von dessen Außen­ kante zum Klemmaul 18 in dessen Schließstellung in einem nicht wiedergegebenen Winkel von etwa 6° abwärts gezogen.

Bei 22 ist eine aus einer Leitung 24 mit max. 10 bar Druck­ luft gespeiste Steuereinheit angedeutet, von der drei Steuerleitungen 25, 25 _a, 25 _b für die Spanneinrichtungen 16 ausgehen.

Gemäß Fig. 2 wird der Siebbahn 12 ein bahnartiges Trägerma­ terial 28 zugeführt, das in einer Beschichtungsstation 30 in einem noch zu beschreibenden Auftragsvorgang mit - aus Gründen der Übersichtlichkeit in der Zeichnung nicht dar­ gestellten - Bereichen aus lichtempfindlicher Emulsion beschichtet wird; diese Bereiche entsprechen in ihren Ab­ messungen und Abständen zueinander beispielsweise den Be­ schichtungsfeldern 20 auf der Siebbahn 12 der Fig. 3. Das mit jenen Bereichen beschichtete Trägermaterial 28 trifft an einer Kaschierstation 32 auf die Siebbahn 12, wobei unter Druck die Schicht aus lichtempfindlicher Emulsion auf die Siebbahn 12 übertragen und anschließend in einer Durch­ laufstation 34 getrocknet wird.

Nach der Durchlaufstation 34 finden sich die Beschichtungs­ felder 20 in der zuvor auf dem Trägermaterial 28 vorhande­ nen Konfiguration auf der Siebbahn 12; diese kann nun vom Trägermaterial 28 getrennt oder mit diesem als zeitweiligem Schutzbelag abgefördert werden.

Nicht dargestellt ist ein Verfahrensschema für - ohne je­ nes folienartige Trägermaterial 28 - unmittelbar auf die Siebbahn 12 aufgetragene Beschichtungsfelder; dabei wird die Siebbahn nach der Beschichtungsstation 30 entweder so­ fort der Trocknungs- bzw. Durchlaufstation 34 zugefördert oder vor letzterer mit einer Schutzfolie versehen, die nach dem Trocknungsprozeß entfernt werden kann.

In Fig. 3 ist eine Siebbahn 12 der Bahnbreite b mit zu deren Längsachse A parallel angeordneten Beschichtungsfel­ dern 20 skizziert; sechs von ihnen sind innerhalb eines sog. Rapportes 36 der Länge z vorgesehen. Eines dieser Be­ schriftungsfelder 20 ist der besseren Übersicht wegen durch eine Gitter-Schraffur hervorgehoben. Um das rechts daneben angeordnete Beschichtungsfeld 20 ist beispielhaft ein Spannrahmen 38 gelegt, mit dem dieser Abschnitt der gespannten Siebbahn 12 dann durch einen Klebevorgang ver­ bunden wird.

Die Fig. 4 bis 6 verdeutlichen weitere Arten von Beschich­ tungsfeldern 20, 20 _a. Die Beschichtungsfelder 20 _a sind aus einzelnen Bahnen oder Streifen 46 zusammengesetzt, die zu Fig. 7, 8 näher beschrieben sind; es handelt sich um bei dem Beschichtungsvorgang auf das offene Gewebe 12 _a gelegte Be­ schichtungsstreifen 46, die nach Fertigstellung des Be­ schichtungsfeldes 20 _a - in diesem aufgehend - nicht mehr zu erkennen sind. Die lichtempfindliche Beschichtung wird mittels einer "Universal"-Düse in Beschichtungsstreifen 46 aufgetragen. Die Beschichtungsfelder 20 werden also bezüg­ lich der jeweiligen Anwendung maßgeschneidert, wie dies auch für Fig. 6 gilt.

In Fig. 4 bis 6 sind außerdem jenen der Fig. 3 entspre­ chende kleinere Beschichtungsfelder 20 _a in zur Längsachse A bzw. den parallelen Bahnlängskanten 13 geneigter Lage (Fig. 4) sowie größere Beschichtungsfelder 20, 20 _a, angedeutet, von denen nur eines oder zwei je Rapport 36 vorhanden ist/sind.

Fig. 7 zeigt einen an einem Gestellrahmen 14 aufgespannten Rapport 36 einer Siebbahn 12 der freien Bahnlänge a von hier etwa 1400 mm und der freien Bahnbreite b von 900 mm mit Klemmelementen 16 zugeordneten Randbereichen 11 der Breite a₁ bzw. b₁. Links oben ist ein Mutterrahmen 40 als Umrandung einer Hilfsplatte 41 aus Holz oder Kunststoff zu erkennen; auf letzterer sind die - dann vom Rapport 36 überlagerten - Spannrahmen 38 während des Herstellungs­ vorganges positioniert.

Auf der freien Fläche des Siebgewebes bzw. der Siebbahn 12 sind - links von der Längsachse A₁ des Mutterrahmens 40 - drei der von einer Kontur mit vier Umrißlinien 42 begrenz­ ten quadratischen Beschichtungsfelder 20 aus lichtempfind­ licher Emulsion - bevorzugt der eingangs genannten Art - als photosensible Beschichtung der Weite e von hier 180 mm dargestellt, die in losem Zustand der Siebbahn 12 in Mit­ telabständen i von 380 mm - und i₁ von 394 mm in gespann­ tem Zustand - zueinander angeordnet sind. Der Abstand f der zur Längsachse A₁ des Systems parallelen Mittellinie M dieser drei Beschichtungsfelder 20 zur - ebenfalls paral­ lelen - Mittellinie M einer zweiten Reihe von - rechts jener Längsachse A₁ erkennbaren - Beschichtungsfeldern 20 entspricht sowohl in gespanntem als auch in losem Zustand den Mittelabständen i bzw. i₁. Die mittleren Be­ schichtungsfelder 20 beider Felderreihen liegen in der Querachse Q des Mutterrahmens 40, zu der jeweils zwei Um­ rißlinien 42 jedes der quadratischen Beschichtungsfelder 20 parallel liegen.

Jedes der Beschichtungsfelder 20 soll innerhalb der Kontur eines kleinen - jener Hilfsplatte 41 aufliegenden und der Siebbahn 12 unterlegten - Spannrahmens 38 so angeordnet sein, daß diesem ohne weiteres mit einer nicht beschichte­ ten Zone des Siebdruckgewebes außerhalb des Beschichtungs­ feldes 20 verklebt zu werden vermag; um den Kleber auf das Siebgewebe 12 ohne Beeinflussung des Beschichtungsfeldes 20 aufbringen zu können, soll um letzteres ein beschich­ tungsfreier Geweberand 44 einer Mindestbreite h - und in verklebtem Zustand rundum ein freier Rand der Breite h₁ - verbleiben.

Um den beschriebenen Verbindungsvorgang deutlich werden zu lassen, sind in Fig. 7 beispielhaft Beschichtungsfelder 20 von Druckschablonen für einen direkten Aufdruck auf Compact Discs dargestellt, auf der rechten Seite sind die Beschichtungsfelder 20 innerhalb ihres Spannrahmens 38 skizziert, wobei der untere Rahmen 38 _a bzw. dessen Rahmen­ mittelachse B in einem Neigungswinkel w von hier 22,5° um den Mittelpunkt Z des Beschichtungsfeldes 20 aus der Mit­ tellinie M so gedreht ist, daß die Ecken 43 des Beschich­ tungsfeldes 20 in - wenn auch geringem - Abstand zu den Rahmeninnenseiten stehen; die Innenlänge m des Spannrahmens 38, 38 _a beträgt hier 260 mm bei einer Außenlänge n von 310 mm.

Die Mindestbreite h des erwähnten Geweberandes 44 ergibt sich als halbe Differenz zwischen Außenlänge n und Feldes­ weite e. Deren halbierte Differenz zur Innenlänge m gibt wiederum die freie Randbreite h₁ vor.

Die Beschichtungsfelder 20 sollen mit ihren Konturen inner­ halb ihres Spannrahmens 38, 38 _a so angeordnet werden, daß sie rundum zu diesem in Abstand h₁ stehen, was etwa bei ge­ neigten Anordnungen gemäß Rahmen 38 _a mit Problemen verbun­ den sein kann. Aus diesem Grunde wird ein u. a. in Fig. 8 dargestelltes Beschichtungsfeld 20 _a beliebiger Lage der Rahmenmittelachse B mit einem beispielsweisen Neigungswin­ kel w von 22,5° dadurch erzeugt, daß die es ergebende Emulsion durch nicht gezeigte, parallel zur Bahnlängsachse A geführte Auftragsorgane - auf das zu Fig. 2 beschriebene Trägermaterial 28 - in integralen Beschichtungsstreifen 46 geringer Breite t aufgetragen wird. Die unterschiedlichen Längen q der parallel benachbarten Beschichtungsstreifen 46 sind der jeweiligen Lage der gedrehten Umrißlinien 42 _a angepaßt, und die Schmalkanten 48 jedes Beschichtungsstreifens 46 berühren unterschiedliche Um­ rißlinien 42 _a. Innerhalb deren findet sich ein Kreis als Begrenzung 50 des eigentlichen - nicht wiedergegebenen - Druckbildes für die Compact Disc.

Nicht dargestellt ist in diesem Zusammenhang eine Ausfüh­ rung, bei der die Emulsion innerhalb der Umrißlinien 42 _a etwa punktförmig aufgetragen wird. Ebenfalls ist eine flüs­ sigkeitsundurchlässige Schicht in der Zeichnung vernachläs­ sigt, welche das Beschichtungsfeld 20, 20 _a umgibt und den beschichtungsfreien Geweberand 44 abdeckt.

Die Fig. 9, 10 stellen eine gegebenenfalls einzusetzende Alternative zu dem vorstehend beschriebenen Verfahren vor. Hier wird die Trägerfolie 28 in der Beschichtungsstation 30 ganz flächig oder breitstreifig mit einer Schicht 52 der Breite c aus jener Emulsion versehen und sofort anschließend durch eine Absaugstation 54 geführt. In dieser entstehen einzelne Beschichtungsfelder 20b durch Absaugen der bezüglich eines vorwählbaren Musters der Beschichtungs­ felder 20 _b unerwünschten Schichtbereiche.

Claims (25)

1. Verfahren zum Herstellen einer Siebdruckform aus einer Siebbahn, beispielsweise aus Kunststoffilamenten, durch Beschichten mit einer Emulsion, insbesondere einer lichtempfindlichen Emulsion, dadurch gekennzeichnet, daß eine Siebbahn (12, 12a) partiell mit zumindest einem Beschichtungsfeld (20, 20 _a) versehen wird, das aus mehreren getrennt aufgetragenen Beschichtungsbe­ reichen zusammengesetzt wird.

2. Verfahren zum Herstellen einer Siebdruckform aus einer Siebbahn, beispielsweise aus Kunststoffilamenten, durch Beschichten mit einer Emulsion, insbesondere einer lichtempfindlichen Emulsion, dadurch gekenn­ zeichnet, daß eine Siebbahn (12, 12 _a) mit einer Schicht (52) aus der Emulsion versehen wird und Be­ schichtungsfelder (20b) durch anschließendes Entfernen von Teilen der Schicht hergestellt werden.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (52) aus der feuchten Emulsion durch par­ tielles Absaugen in Beschichtungsfelder (20b) unter­ teilt wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich­ net, daß die Emulsion etwa punktförmig aufgesprüht wird.

5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich­ net, daß die Emulsion in zueinander parallel benach­ barten Beschichtungsbahnen (46) aufgetragen wird.

6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeich­ net, daß die Emulsion durch zumindest eine Düse aufge­ bracht wird.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Düse, insbesondere eine Schlitzdüse parallel zu einer Längskante (13) der Siebbahn (12, 12 _a) geführt wird.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsfelder (20, 20 _a, 20 _b) auf ein bahnartiges Trägermaterial (28) aufge­ bracht und von diesem auf die Siebbahn (12, 12 _a) transferiert werden, wonach diese getrocknet wird.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das bahnartige Trägermaterial (28) von der die Be­ schichtungsfelder (20, 20 _a, 20 _b) tragenden Siebbahn (12, 12 _a) abgezogen wird.

10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das Trägermaterial (28) als Schutzfolie mit der Sieb­ bahn (12, 12 _a) verbunden wird.

11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittellinie (B) des Beschich­ tungsfeldes (20 _a, 20 _b) in einem Neigungswinkel (w) zur Bahnlängsachse (A) ausgerichtet wird.

12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Emulsion in zueinander parallel benachbarten Be­ schichtungsbahnen (46) aufgetragen wird und die Be­ schichtungsbahnen mit der Mittellinie (B) des Be­ schichtungsfeldes (20 _a) bzw. dessen Umrißlinie/n (42 _a) einen Neigungswinkel (w₁) einschließen.

13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, gekennzeichnet durch einen Neigungswinkel (w, w₁) von weniger als 50°, bevorzugt unter 30°.

14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß jede Schmalkante (48) der streifenartigen Be­ schichtungsbahn (46) jeweils einer Umrißlinie (42 _a) des Beschichtungsfeldes (20 _a) zugeordnet wird.

15. Verfahren nach Anspruch 1 oder 12, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Länge (q) jeder Beschichtungsbahn (46) der durch den Neigungswinkel (w) bestimmten Lage der Umrißlinie (42 _a) angepaßt wird.

16. Verfahren nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß in die Mittellinie (B) der Kontur des Beschichtungsfeldes (20 _a, 20 _b) die Mit­ tellinie eines dem Beschichtungsfeld zugeordneten Spannrahmens (38, 38 _a) gelegt wird, der in Abstand (h₁) zu den Umrißlinien (42 _a) angeordnet wird.

17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Spannrahmen (38, 38 _a) mit der Siebbahn (12, 12 _a) in deren gespanntem Zustand außerhalb des Be­ schichtungsfeldes (20 _a, 20 _b) verklebt wird.

18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Siebbahn (12, 12 _a) inner­ halb des Spannrahmens (38, 38 _a) eine das Beschich­ tungsfeld (20, 20 _a, 20 _b) umgebende undurchlässige Schicht aufgetragen wird.

19. Siebdruckgewebe aus einer Siebbahn, beispielsweise aus Kunststoffilamenten, die mit einer Emulsion, bevorzugt einer lichtempfindlichen Emulsion, beschichtet ist, das insbesondere nach wenigstens einem der vor­ aufgehenden Ansprüche hergestellt worden ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Siebbahn (12) mit aus mehreren Beschichtungsbereichen zusammengesetzten Beschich­ tungsfeldern (20 _a) versehen ist.

20. Siebdruckgewebe nach Anspruch 19, dadurch gekennzeich­ net, daß die Beschichtungsfelder (20 _a) auf einem folienartigen Trägermaterial erzeugt und auf die Sieb­ bahn (12) transferiert sind, wobei das Trägermaterial eine Schutzfolie bildet.

21. Siebdruckgewebe nach Anspruch 19 oder 20, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Beschichtungsfelder (20 _a) von Beschichtungsbahnen (46) gebildet sind.

22. Siebdruckgewebe nach einem der Ansprüche 19 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsbahnen (46) mit der Mittellinie (B) des Beschichtungsfeldes (20 _a) bzw. dessen Umrißlinie/n (42 _a) einen Neigungswinkel (w₁) einschließen (Fig. 8).

23. Siebdruckgewebe mit zugeordnetem Spannrahmen nach einem der Ansprüche 19 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsbahnen (46) in einem Neigungswinkel (w₁) zur Rahmenmittelachse (B) des Spannrahmens (38) verlaufen (Fig. 8).

24. Siebdruckgewebe nach einem der Ansprüche 19 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtungsbahnen (46) etwa parallel zur Längsachse (A) der Siebbahn (12) verlaufen.

25. Siebdruckgewebe nach einem der Ansprüche 19 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Siebbahn (12) mit einer das Beschichtungsfeld (20, 20 _a) umgebenden flüs­ sigkeitsundurchlässigen Schicht eines Geweberandes (44) versehen ist.