DE1962003A1 - Halbleiteranordnung mit Waermeableitung - Google Patents
Halbleiteranordnung mit WaermeableitungInfo
- Publication number
- DE1962003A1 DE1962003A1 DE19691962003 DE1962003A DE1962003A1 DE 1962003 A1 DE1962003 A1 DE 1962003A1 DE 19691962003 DE19691962003 DE 19691962003 DE 1962003 A DE1962003 A DE 1962003A DE 1962003 A1 DE1962003 A1 DE 1962003A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- arrangement according
- carrier
- semiconductor component
- intermediate member
- diode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 25
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 title claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical group [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- -1 for example Chemical class 0.000 description 1
- VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N gallium antimonide Chemical compound [Sb]#[Ga] VTGARNNDLOTBET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/40—Materials therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
- H01L29/0657—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/64—Heat extraction or cooling elements
- H01L33/641—Heat extraction or cooling elements characterized by the materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13147—Copper [Cu] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/818—Bonding techniques
- H01L2224/81801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01023—Vanadium [V]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01032—Germanium [Ge]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01039—Yttrium [Y]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01042—Molybdenum [Mo]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01049—Indium [In]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1032—III-V
- H01L2924/10329—Gallium arsenide [GaAs]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12043—Photo diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/38—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes with a particular shape
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Description
A 37 61»0 b
b - 135
12. Aug. 1969
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED I35OO North Central Expressway
Dallas, Texas U.S.A.
Halbleiteranordnung mit Wärmeableitung
Die Erfindung betrifft eine Halbleiteranordnung mit einem
Träger guter Wärmeleitfähigkeit, auf dem mindestens ein Halbleiterbauelement so angeordnet ist, daß es in wärmeleitender
Verbindung mit dem als Wärmeableitungsglied dienenden Träger steht.
Für ein Muster von Strahlungsdioden (radiant diodes) ist es bekannt, diese so auf einem Wärmeableitungsglied anzubringen,
daß die Anode einer jeden Diode gut wärmeleitend und elektrisch leitend mit diesem Wärmeableitungsglied verbunden ist, das
aufdese Weise eine Parallelschaltung der einzelnen Dioden
miteinander bewirkt, da es elektrisch leitend ist. Bis jetzt konnte das Problem jedoch noch nicht gelöst werden, derartige
Dioden in einer Reihenschaltung unterzubringen. Dies erfordert nämlich, jede Diode elektrisch gegenüber dem Wärme-
009827/1288
A 37 640 b
ableitungsglied zu isolieren, ohne daß dadurch die Wärmeableitung
gestört wird.
Der Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, eine Halbleiteranordnung
der eingangs erwähnten Art zu schaffen, die es gestattet, das Halbleiterbauelement beliebig an eine
äußere Schaltung anzuschließen und es somit ermöglicht, mehrere, auf einem gemeinsamen Träger angebrachte Halbleiterbauelemente
in Serie zu schalten. Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß zwischen dem Träger und dem
Halbleiterbauelement ein mit dem Träger verbundenes, elektrisch nicht leitendes Zwischenglied guter Wärmeleitfähigkeit
angeordnet ist, das auf seiner vom Träger abgekehrten Oberfläche ein metallisches Muster trägt, an das das Halbleiterbauelement
wärmeleitend und elektrisch angeschlossen ist und das sich zum Anschließen äußerer Zuleitungen an das
Halbleiterbauelement über dessen Umfang hinaus erstreckt. Bei der.'-örfindungsgemäßen Konstruktion sind die Pfade für die
Wärmeableitung zum Träger nicht durchgehend elektrisch leitend, so daß die Schaltung für die Halbleiterbauelemente beliebig
gewählt werden kann.
Grundgedanke der Erfindung ist es also, mindestens ein Halbleiterbauelement
elektrisch isoliert jedoch wärmeleitend auf einem Wärmeableitungsglied anzubringen.
Der Träger besteht vorzugsweise aus Metall. Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird als Träger eine Kupferplatte
verwendet, auf der eine gold-dotierte Siliziumplatte angeordnet ist, und zwar so, daß sie in gut wärmeleitender
Verbindung mit der Kupferplatte steht; die Siliziumplatte
009827/1288
A 37 640 b
weist auf der der Kupferplatte abgewandten Oberfläche ein
einlegierteB Kontaktmuster auf, um eine Diode montieren und elektrisch anschließen zu können. Bei der letzteren handelt
ee sich vorzugsweise um eine Gallium-Arsenid-Diode mit ohm1-schen
Kontakten, die auf das Kontaktmuster der Siliziumplatte EU liegen kommen und mit diesem wärmeleitend und elektrisch
leitend verbunden werden.
Weitere Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den beigefügten Ansprüchen und/oder aus der nachfolgenden
Beschreibung, die der Erläuterung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung anhand der ebenfalls beigefügten Zeichnung
dient; es zeigen:
Fig. 1 einen Schnitt durch eine erfindungsgemäße Halbleiteranordnung
mit einer Diode, und
Fig. 2 eine Draufsicht auf die 1Ie Diode tragenden Teile der
erfindungsgemäßen Anordnung.
Die Fig. 1 zeigt, daß bei diesem Ausführungsbeispiel ein golddotiertes
Siliziumplättchen 11 mittels einer Lötschicht 13 auf einem Kupferplättchen 12 befestigt ist, welchletzteres
als Wärmeableitungsglied dient. Auf der Unterseite weist das Siliziumplättchen'11 eine goldlegierte Oberfläche I1J auf,
um die Lötverbindung leichter herstellen zu können. Als Lötmittel kann jede geeignete Lötmasse verwendet werden, beispielsweise
eine solche, die sich aus 95J5 Zinn und 5% Silber
zusammensetzt. Auf der gegenüberliegenden Oberfläche des Siliziumplättchens 11 ist ein durch Einlegieren von Gold
009827/ 1 288
A 37 6i\0 b
12. Aug. 1969
erzeugtes Kontaktmuster 15 vorgesehen, an das Elektroden l6 und 1.7 einer Gallium-Arsenid-Diode 18 angeschlossen werden
können, und zwar zweckmäMgervreise über Lötstellen 19 U. 20. Ein Anschluß an eine äußere Schaltung wird über Anschlußdrähte
21 u. 22 bewerkstelligt, die an das Kontaktmuster 15 geführt sind. Bei der Herstellung der Diode 18 wird eine
Oxydisolierschicht 23 gebildet, die einen pn-übergang 2k elektrisch isoliert und passiviert.
Obwohl für das Plättchen 11 auch andere Werkstoffe verwendet
werden können, die eine gute Wärmeleitfähigkeit und einen hohen elektrischen Widerstand aufweisen, beispielsweise
Berylliumoxyd, so hat es sich doch gezeigt, daß gold-dotiertes
Silizium zu bevorzugen ist, und zwar nicht nur wegen seiner guten Wärmeleitfähigkeit und seines hohen spezifischen elektrischen
Widerstands, sondern auch deshalb, weil sein Wärmeausdehnungskoeffizient weitgehendst demjenigen des Galliumarsenids
entspricht. Ferner eignet es sich besonders gut zur Bildung von Kontaktmustern feinster Geometrie durch Einlegieren
von Gold. Es läßt sich leicht mit Kupfer durch Löten verbinden, und es lassen sich aus Silizium sehr viel dünnere
Plättchen herstellen als aus den meisten keramischen Werkstoffen.
Ein besonders geeignetes Zwischenglied zwischen Halbleiterbauelement
und dem als Wärmeableitungsglied dienenden Träger sollte zweckmäßigerweise im Bereich zwischen 80° und 1200K
einen spezifischen elektrischen Widerstand von mindestens 5k/i. cm und eine Wärmeleitfähigkeit von mindestens 1 Watt
.cm .0K aufweisen, da der angegebene Temperaturbereich
typisch ist. Ferner sollte der Wärmeausdehnungskoeffizient
009827/1288
A 37 610 b
ungefähr derselbe als derjenige des Halbleiterbauelements sein, das auf dem Zwischenglied angeordnet ist. Besonders
zwebkmäßig ist es auch^wenn die gesamte Anordnung dadurch unempfindlicher
gegen Wärmespannungen gemacht wird, daß zwischen die Plättchen Hu. 12 ein Molybdänplättchen eingefügt
wird.
Die Fig. 2 läßt deutlich die bevorzugte Gestalt des Kontaktmusters
15 auf dem Siliziumplättchen 11 erkennen. Die gestrichelte Linie zeigt eine zweckmäßige Lage der Elektroden
der Gallium-Arsenid-Diode auf dem Kontaktmuster 15. Die Fig.
2 läßt ohne weiteres erkennen, daß eine exakte Orientierung der Diode auf dem Plättchen 11 nicht erforderlich ist, um
einen guten Kontakt mit den Elektroden 16 u. 17 zu erreichen,
und außerdem ist noch darauf hinzuweisen, daß verhältnismäßig große Kontaktflächen im Hinblick auf eine gute Wärmeableitung
von Vorteil sind.
Ein wesentliches Merkmal der erfindungsgemäßen Konstruktion ist darin zu sehen, daß das Kontaktmuster 15 über den Umfang
der Diode l8 vorsteht, so daß Anschlußdrähte ohne weiteres angebracht werden können.
Obwohl Gallium-Arsenid als bevorzugter Werkstoff für das
Halbleiterbauelement beschrieben worden ist, eignen sich auch andere Halbleitermaterialien, insbesondere für eine
Diode im Rahmen der erfindungsgemäßen Anordnung, so beispielsweise Gallium-Antimonid, Indiumphosphid, Indiumarsenid,
Indiumantimonid, und Mischkristalle aus zwei oder mehr dieser Verbindungen einschließlich beispielsweise Ga(AsP), (InGa)As,
und In(PAs). Selbstverständlich eignet sich die erfindungs-
V009827/1288
A 37 6^0 b
b - 135 - 6 -
12. Aug. 196?
gemäße Konstruktion auch für andere Halbleiterbauelemente als Dioden, so beispielsweise für Transistoren aus Silizium
oder Germanium.
009827/ 1288
Claims (10)
- A 37 640 b . inc->nmb - 135 - 7 - 1 962UUό12. Aug. 1969PatentansprücheHalbleiteranordnung mit einem Träger guter Wärmeleitfähigkeit, auf dem mindestens ein Halbleiterbauelement bo angeordnet ist, daß es in wärmeleitender Verbindung mit dem als Wärmeableitungsglied dienenden Träger steht, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Träger (12) und dem Halbleiterbauelement (18) ein mit dem Träger verbundenes elektrisch nichtleitendes Zwischenglied (11) guter Wärmeleitfähigkeit angeordnet ist, das auf seiner vom Träger abgekehrten Oberfläche ein metallisches Muster (15) trägt, an das das Halbleiterbauelement wärmeleitend und elektrisch angeschlossen ist und das eich zum Anschließen äußerer Zuleitungen an das Halbleiterbauelement über dessen Umfang hinauserstreckt.
- 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger (12) aus Metall, insbesondere aus Kupfer.ist.
- 3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Zwischenglied (11) aus gold-dotiertem Silizium besteht.
- k. Anordnung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Zwischenglied (11) im Bereich zwischen 80°K und 1200K eine Wärmeleitfähigkeit von mindestens 1 Watt . cm .0K und einen spezifischen elektrischen Widerstand von mindestens 5 KXl .cm hat.
- 5. Anordnung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Strahlungsdiode als Halbleiterbauelement.009827/1288A 37 640 b
- 6. Anordnung nach einem oder mehreren der Ansprüche 3~5> dadurch gekennzeichnet, daß das metallische Muster (15) ein goldlegiertes Kontaktmuster auf dem Zwischenglied ist.
- 7. Anordnung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das metallische Muster mindestens zwei voneinander elektrisch getrennte Bereiche aufweist, die sich beide über den Umfang des Halbleiterbauelements hinauserstrecken.
- 8. Anordnung nach den Ansprüchen 5 und 7,'dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode der Diode an den einen und die Anode der Diode an den anderen Bereich-des metallischen Musters elektrisch leitend und wärmeleitend angeschlossen ist.
- 9. Anordnung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem Träger mehrere in Serie geschaltete Dioden angeordnet sind.
- 10. Anordnung nach einem oder mehrern der Ansprüche 3-9s dadurch gekennzeichnet, daß die Goldkonzentration im Silizium-Zwischenglied ungefähr zwischen 10 p und 10 ' Atomen . cm liegt.00 9 827/1288
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US78431568A | 1968-12-17 | 1968-12-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1962003A1 true DE1962003A1 (de) | 1970-07-02 |
Family
ID=25132054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691962003 Pending DE1962003A1 (de) | 1968-12-17 | 1969-12-11 | Halbleiteranordnung mit Waermeableitung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3593070A (de) |
JP (1) | JPS493027B1 (de) |
DE (1) | DE1962003A1 (de) |
FR (1) | FR2026315A1 (de) |
GB (1) | GB1270577A (de) |
NL (1) | NL6913858A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0007993A1 (de) * | 1978-07-12 | 1980-02-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Leiterplatte zur Halterung und elektrischen Verbindung von Halbleiterchips |
DE3009295A1 (de) * | 1979-03-19 | 1980-10-02 | Gen Electric | Halbleiterbaustein |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3684930A (en) * | 1970-12-28 | 1972-08-15 | Gen Electric | Ohmic contact for group iii-v p-types semiconductors |
US3769694A (en) * | 1970-12-28 | 1973-11-06 | Gen Electric | Ohmic contact for group iii-v p-type semiconductors |
US3952231A (en) * | 1974-09-06 | 1976-04-20 | International Business Machines Corporation | Functional package for complex electronic systems with polymer-metal laminates and thermal transposer |
JPS546787A (en) * | 1977-06-17 | 1979-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Luminous element |
US4165474A (en) * | 1977-12-27 | 1979-08-21 | Texas Instruments Incorporated | Optoelectronic displays using uniformly spaced arrays of semi-sphere light-emitting diodes |
JPS59155804U (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-19 | 松下電器産業株式会社 | キユ−ビクル式受変電装置 |
US4760440A (en) * | 1983-10-31 | 1988-07-26 | General Electric Company | Package for solid state image sensors |
US4951123A (en) * | 1988-09-30 | 1990-08-21 | Westinghouse Electric Corp. | Integrated circuit chip assembly utilizing selective backside deposition |
FR2655774A1 (fr) * | 1989-12-08 | 1991-06-14 | Thomson Csf | Perfectionnement aux transistors de puissance en materiaux iii-v sur substrat silicium et procede de fabrication. |
JP3023883B2 (ja) * | 1991-10-26 | 2000-03-21 | ローム株式会社 | サブマウント型レーザ |
US5557115A (en) * | 1994-08-11 | 1996-09-17 | Rohm Co. Ltd. | Light emitting semiconductor device with sub-mount |
US6885035B2 (en) * | 1999-12-22 | 2005-04-26 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Multi-chip semiconductor LED assembly |
US6486499B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-11-26 | Lumileds Lighting U.S., Llc | III-nitride light-emitting device with increased light generating capability |
US20050047140A1 (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-03 | Jung-Chien Chang | Lighting device composed of a thin light emitting diode module |
EP1911389A4 (de) * | 2005-08-05 | 2009-12-16 | Olympus Medical Systems Corp | Lichtemissionseinheit |
US7816155B2 (en) * | 2007-07-06 | 2010-10-19 | Jds Uniphase Corporation | Mounted semiconductor device and a method for making the same |
CN101859857B (zh) * | 2010-03-04 | 2014-12-31 | 广州市海林电子科技发展有限公司 | 一种led器件 |
US9847448B2 (en) * | 2013-09-27 | 2017-12-19 | Intel Corporation | Forming LED structures on silicon fins |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL299194A (de) * | 1962-10-15 | |||
US3414968A (en) * | 1965-02-23 | 1968-12-10 | Solitron Devices | Method of assembly of power transistors |
US3361868A (en) * | 1966-08-04 | 1968-01-02 | Coors Porcelain Co | Support for electrical circuit component |
US3440114A (en) * | 1966-10-31 | 1969-04-22 | Texas Instruments Inc | Selective gold doping for high resistivity regions in silicon |
-
1968
- 1968-12-17 US US784315A patent/US3593070A/en not_active Expired - Lifetime
-
1969
- 1969-08-07 GB GB39557/69A patent/GB1270577A/en not_active Expired
- 1969-09-10 JP JP7129969A patent/JPS493027B1/ja active Pending
- 1969-09-11 NL NL6913858A patent/NL6913858A/xx unknown
- 1969-11-14 FR FR6939157A patent/FR2026315A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-12-11 DE DE19691962003 patent/DE1962003A1/de active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0007993A1 (de) * | 1978-07-12 | 1980-02-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Leiterplatte zur Halterung und elektrischen Verbindung von Halbleiterchips |
DE3009295A1 (de) * | 1979-03-19 | 1980-10-02 | Gen Electric | Halbleiterbaustein |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2026315A1 (de) | 1970-09-18 |
US3593070A (en) | 1971-07-13 |
GB1270577A (en) | 1972-04-12 |
NL6913858A (de) | 1970-06-19 |
JPS493027B1 (de) | 1974-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1962003A1 (de) | Halbleiteranordnung mit Waermeableitung | |
DE2629203C2 (de) | ||
DE102014118836B4 (de) | Halbleiter-packaging-anordnung und halbleiter-package | |
DE112015005217B4 (de) | Halbleitervorrichtung und elektronisches Bauteil, welches diese verwendet | |
DE1764951B1 (de) | Mehrschichtige metallisierung fuer halbleiteranschluesse | |
DE1589854C3 (de) | Halbleitergleichrichter | |
DE1961314A1 (de) | Geschuetztes Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE112019000184T5 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102014100878A1 (de) | Chipanordnung und Chipbaugruppe | |
DE102007032775B4 (de) | Leistungsverstärker | |
DE112014000862T5 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE2109191A1 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2238185C2 (de) | Metalloxid-Varistorelement | |
DE102015103555B4 (de) | Elektronisches Bauteil | |
DE2021489A1 (de) | Integrierte Halbleiterschaltung | |
DE2004776C2 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE102016223651A1 (de) | Halbleitermodul und halbleitervorrichtung | |
DE69728648T2 (de) | Halbleitervorrichtung mit hochfrequenz-bipolar-transistor auf einem isolierenden substrat | |
DE19902462B4 (de) | Halbleiterbauelement mit Chip-on-Chip-Aufbau | |
DE1978283U (de) | Integrierte gleichrichter-schaltungsanordnung. | |
DE102014116793B4 (de) | Leistungshalbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Leistungshalbleitermoduls | |
DE3931634A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE112021002959T5 (de) | Montagestruktur für halbleitermodule | |
DE3343030A1 (de) | Doppelgate-hochleistungsfeldeffekttransistor | |
DE6606149U (de) | Baueinheit fuer geraete der nachrichtentechnik |