DE1948135C3 - Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen - Google Patents

Description

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Die Vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen durch beidseitipes Aufbringen einer gemusterten Abdeckschicht auf einem Trägerblech, anschließendes Ätzen und Entfernen der Abdeckschicht.

Zum Siebdrucken verschiedener chemisch agressiver Pasten werden metallische Siebdruckschablonen verwendet. Solche Siebdruckschablonen werden beispielsweise zum Aufbringen von Widerstandsschichten in Dickfilmtechnik benötigt.

Bisher wurden solche Siebdruckschablonen in der Weise hergestellt, daß eine dünne Metallfolie beidseitig mit Photolack beschichtet wurde, worauf auf der Rakelseite mit dem Lochraster und auf der Druckseite mit dem gewünschten zu druckenden Muster belichtet wurde. Nach dem Entwickeln des Photolacks wurde beidseitig so lange geätzt, bis die Löcher auf der Rakelseite mii: dem Druckmuster zusammentrafen. Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, daß wegen der sich beim Ätzen des Musters ergebenden ungleichmäßigen Ät;ttiefe verschieden große öffnungen der Siebdurchgangslöcher entstehen. Darüber hinaus stößt das Verfahren bei der Herstellung von Metallsiebdruckschablonen mit sehr verschiedenen Ätzstrukturbreiten auf Schwierigkeiten, da die Ätzgeschwindigkeit struklurabhängig ist.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen anzugeben, bei dem die Nachteile und Schwierigkeiten des bisher gebrauchten Verfahrens vermieden werden.

2iur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verfahren der eingangs genannten Art vorgeschlagen, bei dem erfindungsgemäß die eine Seite im Bereich des Druckmusters, die andere Seite vollständig mit einer galvanikfesten Abdeckschicht versehen, der freigelassene Bereich galvanisch mit Metall überzogen und die galvanikfeste Abdeckschicht entfernt, darauf die eine Seite vollständig und die andere Seite entsprechend dem Siebmuster mit einer ätzfesten Abdeckschicht versehei;, geätzt und die Abdeckschicht entfernt wird.

Zweckmäßigerweise stellt man das Druckmuster in der galvanikfesten Abdeckschicht und das Siebmuster in der ätzfesten Abdeckschicht jeweils auf phototechnischem Weg her, d. h. man verwendet in dem einen Fall eine galvanikfeste Photoschicht, in dem anderen Fall eine ätzfeste Photoschicht, die man über eine das gewünschte Muster aufweisende Maske belichtet und entwickelt.

Um zu vermeiden, daß die aufgalvanisierte Metallschicht beim Ätzen der Sieblöcher vom Ätzmedium angegriffen wird, kann man entweder bei der galvanischen Abscheidung ein ätzfestes Metall auf das metallische Trägerblech abscheiden oder zunächst eine ätzfeste Metallzwischenschicht in Stärke einiger μπι abscheiden, worauf ein beliebiges Metall galvanisch abgeschieden wird, bis die gewünschte Höhe erreicht ist.

Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Siebdruckschablonen weisen Siebdurchgangslochcr gleichen Durchmessers auf, da die Herstellung der Siebdurchgangslöcher bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vom Druckmuster nicht beeinflußt wird. In bestimmten Fällen kann ferner das Muster galvanoplastisch maß- und konturengetreuer hergestellt werden als bei dem bisher angewandten Ätzverfahren, so daß das erfindungsgemäße Verfahren hier die Herstellung noch genauerer metallischer Siebdruckschabloncn gestattet.

Im folgenden wird eii. Ausführungsbeispiel der Erfindung an Hand der Figuren erläutert.

Als Trägerblech wurde im Ausführungsbeispiel ein Messingblech in einer Stärke von 50 μ verwendet. Dieses in F i g. 1 dargestellte Trägerblech 1 wurde zunächst einer Reinigungsbehandlung unterzogen. Hierauf wurde es getrocknet und sodann beidseitig mil einer galvanikfesten Abdeckschicht 2 überzogen, z. B. einer Photolackschicht oder einer lichthärtenden Kunststoffolie. Diese Abdeckschicht wurde sodann auf der Oberseite a unter Verwendung einer das Drucknuister wiedergebenden Photomaske belichtet. Nach dem Entwickeln bzw. Herauslösen der unbelichteten Oberflächenteile erhält man das in F i g. 2 dargestellte Tragerblech 1, das auf der Seite b über die gesamte Fläche auf der Seite a an den von dem Druckmusier freizuhaltenden Teilen mit einer galvanikfesten Abdeckschicht 2 überzogen war. Auf dem so vorbehandelten Trägerblech 1 wurde nun in einem galvanischen Bad Kupfer abgeschieden, und zwar eine Kupferschicht 3 in einer Höhe von 50 μ. Hierauf wurde die galvanikfeste Abdeckschicht 2 durch Tauchen in ein geeignetes Lösungsmittel entfernt und das mit der Kupferschicht 3 versehene Trägerblech 1 einer Reinigungsbehandlung unterzogen. Das sich hierbei ergebende Produkt zeigt Fig.3. Hierauf wurde das Trägerblech auf seiner gesamten Oberfläche mit einer Photolackschicht 4 überzogen und auf der Unterseite b durch eine das Siebmuster aufweisende Belichtungsmaske belichtet und der Photolack entwickelt, so daß die gesamte Oberseite a mit dem Photolack 4 überzogen war, während die Unterseite b eine Photolackschicht trug, die die Sieböffnungen freiließ. Hieraul erfolgt, wie in F i g. 4 darge-

stellt, das Ätzen der Sieblöcher, beispielsweise in Chromschwefelsäure. Nach dem Ätzen wurde die ätzfeste Photolackschicht in einem geeigneten Lösungsmittel entfernt und die so hergestellte Siebdruckschablone nochmals gereinigt. Das Ergebnis zeigt F i g. 5. Will man vermeiden, daß die gilvanisch aufgebrachte Schicht 3 bei der Ätzung angegriffen wird, so muß man entweder im Weg der galvanischen Herstellung der Schicht 3 zunächst eine dünne Zwischenschicht aus einem ätzfesten Metall, z. B. Gold, galvanisch niederschlagen oder die Schicht 3 ganz aus einem ätzfesten Metal! herstellen. In diesem Fall ergibt sich als Endprodukt eine Siebdruckschablone wie sie in F i g. 6 dargestellt ist.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (4)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen durch beidseitiges Aufbringen einer gemusterten Abdeckschicht auf einem Trägerblech, anschließendes Ätzen und Entfernen der Abdeckschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die eine Seite im Bereich des Druckmusters, db andere Seite vollständig mit einer galvanikfesten |₀ Abdeckschicht versehen, der freigelassene Bereich galvanisch mit Metall überzogen und die galvanikfeste Abdeckschicht entfernt, darauf die eine Seite vollständig und" die andere Seite entsprechend dem Siebmuster mit einer ätzfesten Abdeckschicht versehen, geätzt und die Abdeckschicht entfernt wird.

2. Verfahren nach Anspruch !, dadurch gekennzeichnet, daß die galvanikfeste Abdeckschicht und die ätzfeste Abdeckschicht aus lichtempfindlichem Material bestehen und auf photographischem Weg durch Belichten und Entwickeln mit dem Druckmuster bzw. dem Siebmuster versehen werden.

3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei der galvanischen Abscheidung ein ätzfestes Metall abgeschieden wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf das Trägerblech zunächst eine ätzfeste Metallzwischenschicht in Stärke einiger μηι abgeschieden wird, worauf ein beliebiges Metall galvanisch abgeschieden wird, bis die gewünschte Höhe erreicht ist.