DE2050285C3 - Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablone!! aus Metall mittels Galvanoplastik.

Zur Herstellung von Diekfilmschaltungcn werden konturcnscharfe Siebdruckschablonen benötigt, die das Drucken feinster Details zulassen. Dabei wird gefordert, daß sich Konfigurationen bis zu 50 um Breite und weniger einwandfrei drucken lassen. Die bekannten Kunststoffsicbdruckschabloncn besitzen zwar eine hohe Auflösung, jedoch nur eine geringe Kontiircnschräfc, geringe Standzeit und chemische Beständigkeit. Zum Drucken chemisch aggressiver Pasten werden daher Siebdruckschablonen aus Metall verwendet. Die bekannten Metallsiebdruckschablonen werden hergestellt, indem eine dünne Metallfolie von der einen Seite her das Siebraster, von der anderen Seite die gewünschte Druckkonfiguration geätzt wird. Ein Nachteil dieser Verfahren besteht darin, daß wegen der sich beim Ätzen des Musters ergebenden ungleichmäßigen Ätztiefe verschieden tiefe öffnungen des Druckmusters entstehen, wodurch auch beim Druckvorgang unterschiedlich dicke Schichten entstehen.

Tn einer älteren Patentanmeldung ist ein Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen vorgeschlagen, bei dem auf eine Seite eines metallischen Trägerblcchs durch galvanische Metallabschcidung unter Verwendung einer auf photografischem Wege hergestellten Maske des Druckmusleri. hergestellt wird, während nachfolgend auf der anderen Seite, ebenfalls unter Verwendung einer Photomaske, ätztcchnisch das Siebmuster hergestellt wird. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen von Siebdrucksrhablonen

ίο aus Metali mittels Galvanoplastik anzugeben, bei denen das Öffnungsverhältnis des Siebrasters sehr groß und über die gesamte Höhe konstant ist.

Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß auf eine glatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopolymer-

folie laminiert, mit dem Negativ der Siebdruckkonfiguration belichtet und entwickelt wird, daß dann Metall auf die freigelegte Oberfläche der Trägerplatte bis zur Höhe der Fotopolymerfolie auff.alvanisiert wird, daß anschließend eine dünne Metallschicht stromlos auf Metall und Fotopolymerfolic aufgebracht wird, daß auf diese dünne Metallschicht eine weitere Fotopolymerfolie laminiert, mit dem Negativ des Siebrasters belichtet und entwickelt wird, daß dann wiederum Metall bis zur Höhe der weiteren Fotopolymerfolic aufgalvanisiert wird, daß die Siebdruckschablone von der TrägerplaUe abgelöst wird und daß zum Schluß die Reste der Fotopolymere mit einem geeigneten Lösungsmittel herausgelöst werden, wobei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht im Bereich durchgehender Öffnungen mit herausgespült wird.

Damit ergeben sich die Vorteile, daß die gewünschten Druckkonfigurationen genau eingehalten werden, daß die danach hergestellte Druckmaske mechanisch und chemisch beständig ist und daß die Unterseite der Druckmaske, die auf das zu bedruckende Substrat aufgelegt wird, die Ebenheit der Trägerplatte besitzt und scharfkantig ist, so daß beim Druckvorgang keine Druckfarbe seitlich hinausgepreßt werden kann, was zu einer Verschlechterung der Konturenschärfc führen würde.

Vor dem stromlosen Aufbringen der Metallzwischcnschicht wird die Oberfläche der ersten Folopolymeifolic vorteilhaft aufgerauht, vorzugsweise durch Bürsten. Hierdurch wird die stromlose Metallisierung wesentlich erleichtert.

Als Trägerplatte wird vorteilhaft eine Edelstahlplatte verwendet, da die meisten galvanisch abgeschiedenen Metalle während des Herstellungsprozesses einerseits ausreichend gut am Edelstahl haften, sich aber andererseits nach Fertigstellung der Siebdruckschablone einfach abheben lassen.

Als galvanisch und stromlos abzuscheidendes Metall eignet sich Nickel, da es leicht abzuscheiden ist und eine gute mechanische Festigkeit besitzt.

An Hund der Figuren soll die Erfindung näher erläutert werden.

F i g. I zeigt eine Trägerplatte 1 aus Edelstahl, deren Oberfläche geläppt und gut gereinigt ist. Diese Oberfläche der Edelstahlplatte 1 wird mit einer Fotopolymerfolic 2 auflaminicrt, mit dem Druckstrukturnegaliv belichtet und anschließend entwickelt. Auf die freigelegten Teile der Trägerplatte 1 wird anschließend eine erste Nickelschicht 3 bis zur Höhe der Fotopolymerfolie 2 aufgalvanisiert. Für die weitere Platticrung muß über die Fotopolymerfolie 2 eine leitende Schicht 4 vorzugsweise wieder aus Nikkei aufgebracht werden. Hierzu wird die Oberfläche

der Fotopolymerfolie 2 durch Bürsten aufgerauht. Über die stromlos abgeschiedene Schicht 4 wird eine zweite Fotopolymerfolie S !aminiert, mit dem Lochraster 6 beuchtet und entwickelt. Diesen Zustand zeigt F i g. 2. Nach einer zweiten Nickelabscheidung7 wird die Metallmaske von der Trägerplatte I mechanisch abgehoben. Die belichteten Fotopolymere 2, S werden mit geeigneten Lösungsmitteln herausgelöst; dabei wird die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht 4 im Bereich durchgehender öffnungen mit herausgespült (Fi g 3). Geeen-Die F i e 4 und 5 endlich zsigen >n einer uegen üb r teilung ein äu.echnisch i[F i g-4) und em _ßal·- vanopiastisch (Fig. 5) hergeste lter S»bmto ·£ SehnHt. Es ist leicht einzusehen, daß one Siebdruck maske mit einer großen Konturenscharfe wie m Fig. 5 gegenüber weniger exakten Masken Vorteile besitzt.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall mittels Galvanoplastik, dadurch gekennzeichnet, daß auf eine glatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopolymerfolie laminiert, mit dem Negativ der Siebdruckkonfiguration belichtet und entwickelt wird, daß dann Metall auf die freigelegte Oberfläche der Trägerplatte bis zur Höhe der Fotopolymerfolie aufgalvanisiert wird, daß anschließend eine dünne Metallschicht stromlos auf Metall und Folopolymerfolic aufgebracht wird, daß auf diese dünne Metallschicht eine weitere Fotopolymerfolie laminiert, mit dem Negativ des Siebrasters belichtet und entwickelt wird, daß dann wiederum Metall bis zur Höhe der zweiten Fotopolymerfolie aufgalvanisiert wird, daß die Siebdruckschablone von der Trägerplatte abgelöst wird und daß zum Schluß die Fotopolymerfolien mit einem geeigneten Lösungsmittel herausgelöst werden, wohei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht im Bereich durchgehender öffnungen mit herausgespült wird.

2. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der ersten Fotopolymerfolie vor dem stromlosen Metallisieren aufgerauht wird.

3. Veilahi; η nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche durch Bürsten aufgerauht wird.

4. Verfahren nach Anspriic' I bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Trägerplatte eine Edelstahiplatte verwendet wird.

5. Verfahren nach Anspruch I bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als galvanisch und stromlos abzuscheidendes Metall Nickel verwendet wird.