DE1919641A1 - Zusammengesetztes Halbleiterbauelement - Google Patents
Zusammengesetztes HalbleiterbauelementInfo
- Publication number
- DE1919641A1 DE1919641A1 DE19691919641 DE1919641A DE1919641A1 DE 1919641 A1 DE1919641 A1 DE 1919641A1 DE 19691919641 DE19691919641 DE 19691919641 DE 1919641 A DE1919641 A DE 1919641A DE 1919641 A1 DE1919641 A1 DE 1919641A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor
- bodies
- conductive
- insulating layer
- semiconductor component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/482—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
- H01L23/485—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body consisting of layered constructions comprising conductive layers and insulating layers, e.g. planar contacts
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01072—Hafnium [Hf]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12036—PN diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12043—Photo diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19043—Component type being a resistor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30105—Capacitance
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Die Bonding (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
* ΠΟ. 3173.
" ■. Va / HJM.
Anmelder: K. V. PiUUPS'GLOflUWENFABRiEKEN
Akt·. ÄI-5171
Akt·. ÄI-5171
vom: 17·4·6φ
ι ι
Die Erfindung betrifft ein zusammengesetztes Halbleiterbauelement
alt »wei Gruppen komplementärer Halbleiterschaltungselemente«
Unter "tomplementSren Halbleiterachaltunsselementen"
sind Sohaltungselenenten zu rerotehen, Ton denen entsprechende Zonen
einen rereohiedentn Leitfa*hiskoit0typ aufweisen, wie 2.B. npn- und ?np- f
Transistor·» oder Feldeffekttransistoren.
Sie Anbringung koBpletaent&ror Halbleiterschaltungselemente
in denselben Halbleiterkörper lässt eich besonders schwer
durchführen. Der Halbleiterkörper nuss dann a.13. in "bezug auf den
LeitfShi^ceitetyp und den apezifiachen Widerstand Eigenschaften aufwoissn,
die ihn aur Aufnahme rerachiedener Arten Sohaltungaelemente
net Bachen· FQr dieses Problem wurden Lösungen gefunden, aber diese
oft nioht sufriedenatellend.
«09141/0170
Ee wurde ».Β, rorgesohlagen, in eines η-leitenden Halbleiterkörper oder in eine« Teil desselben einen üblichen npn-Flächentranaistor,
Bit untereinander liegenden Skitter-, Basis- und Kollektorsonen
und einen lateralen pnp-Tranaietor mit nebeneinander liegenden
bitter-, Basis- und Kollektoraonen anzubringen. Bei derartigen Lösungen
ist Jedooh ststs die Out· eines dsr kcaipleaentÄren Schaltungsele-•ent·
geringer als dls des anderes* Z.B. ist die Oute dea lateralen
pnp-ftmnsistors geringer sls di· des üblichen npn-Transistors infolge
seiner ungünstigen Konfiguration·
Bi wurden feohniken but Herstellung τοη Halbleiterkörpern alt Krietallgebieten sit reraohiedensn Eigens oha ft en entwickelt,
wobei In diesen T»rsohiedenen Kxi>tallg«biet«n rersohiedene Sohalttwgs-•lestemte
aagebraoht werden kennen. Diese Tsohniken sind aber Terwickelt
und/oder kostspielig. Jusssrdeer sind für dis Tersohiedenen.Sohaltnheeele-■ente
oft vsxvohiedene Diffusioes- und/oder Oberflächenbehandlungen
erforderlich, dl« sioh eohwer in denselben Halbleiterkörper ohne gegenseitig· Stäruttg durchführen lass·«·
SIs Erfindung besveokt, di· erwShnte« Haohteile au
rerseidetu .
Der Irfindung liegt di· sVk«nntais augrunde, dass die
•rwfihntea Kaohtell· durch di· Terwendung sw«i«r Halbleiterkörper Tersieden
werden können«
Kaoh der Erfindung ist ein susaanengeeetztes Halbleiterbauelement
alt Bvei Gruppen kosplenenta'rer Halbleiteraohaltungeelemente
dadurch gekennzeichnet, daas das Halbleiterbaueleoent svei Halbleiterkörper enthält, die je eine der Gruppen enthalten und eine überfluche
haben, die sit einer Isolierschicht überzogen ist, auf der ein
• 0 9 f 41 / 0 S 7 Φ BAD ORIGINAL i
liuater leitender Spuren an ^bracht ist, das durch Cfinungen in der Isolierschicht
Bit den Schaltungseletnenten einer Gruppe in Jeruhrung ist,
v5hrend die Halbleiterkörper derart aufeinander ,gesetzt sind, daas die
Isolierschichten einander lurekehrt sind, uobei die &u3ter elektrisch
miteinander verbunden sind·
Bei der Herstellung der Halbleiterbauelemente nach der Erfindung können die beiden Halbleiterkörper je einer besonderen «um
Erzielen opt iaaler Srpeonies« erforderlichen Behandlung- unterworfen
werden, während ferner komplizierte Schaltkreise mit kurzen elektrischen Verbindungen erhalten werden können, weil der Schaltkreis aus zwei
übereinander liegenden Schichten zusammengesetzt let· Dadurch kann
cue« erden, eine gross ere Dichte von Schal tun^selenenten (packing density)
erzielt werden,
Ei« bevorzugte Iu3fuhrunßsforc eines zueaaisengesetzten
Halbleiterbaueleeentes nach der Erfindung ist dadurch .Tekennseiohnet,
dass die Halbleiterkörper sich nicht völlig überlap. en, vodurch wenigstona
eines der !-hinter leitender Verbindungen einen frei liegenden Teil
hat, der Kontaktstellen enthält» an die Anschlusaleiter angeschlossen
werden kSnnen« Dadurch können auf einfache '«eise aussere Verbindungen i
nit 4ee Baueleemt herr«Bteilt werden·
Eb dürfte einleuchten, dass vorzugsweise wenigstens die
Teil· der beiden Halbleiterkörper, in denen die Gruppen Schaltelemente
an^obreoht sini, einen verschiedenen I.eitfähi^ceitstyn aufweieen.
E3 sei bemerkt, daas eine Gruppe Schaltuni^selecente aus
einen oder cehreren SchaltungseleEenten bestehen kann.
Die Erfindung wird r.unnehr f-fr einige AuafuhrunsBbeiepie-Ie
an Hand dor Zeichnung näher erläutert. Ee seigern
SAS ORIGINAL 909866/0*7* r
19196Al Fm;. 3172.
Fi£. 1. echenatische Draufsichten zweier Halbleiterkörper
einer Ausführungsform eines zusammengesetzten Halbleiterbauelement·
naoh der Erfindung,
Figuren 2 und 3 aohematische Querschnitte durch dies«
ItalbleiterkSrper lange der Linien H-II bzv;. III-III der Pig, 1,
Fi*. 4 die Halbleiterkörper in aufeinander gesetzter
Lage, und
« Pi 5· 5 i-as Schaltbild des Au3führung8beispiels nach
den Figuren 1 bie 4.
Die Figuren 1 bis 4 seifen ein einfaches Ausführungsbeispiel
oinea susaranengesetzten Halbleiterbauelements nach der Erfindung
mit nur suei ilalbl ei torschaltung elementen. Die Schal tu n^s elemente
oind Feldeffekttransistoren nit einer isolierton Gattereleictrrde. *
Die beiden Gruppen Schaltungselemente be3tehcn in diesem Au3fffhrun^obeiepiel
also aus je nur einen Feldeffekttransistor.
Dae ilalbleiterbauelenent enthält zwei monokrietalline
Halbleiterkörper 1 und 21, die je einen Feldeffekttransistor mit Zu-
und AbführungaZonen 2,3 bzw. 22,23 und ait Satterelektroden 4 bsw. 24
enthalten. Der Halbleiterkörper 1 ist .mit einer Isolierschicht 5 überzogen,
auf der ein lauster leitender Bahnen 4,6,7 und 13 angebracht ist,
das durch die Öffnungen 8 und 9 in der Isolierschicht 5 ni* den Zu-
und Abführungszonen 2 und 3 in Berührung iet. Der Halbleiterkörper 21
ist nit einer Isolierschicht 25 überzogen, auf der ein Luster leitender
Bahnen 24,26 und 27 an-e'orscht ist, das durch die öffnungen 2:1 und
29 mit den Zu- und Abfühxun^aonen 22 und 23 in Serührung i3t.
Die .Halbleiterkörper 1 und 21 sini, wie in Pig· A dargestellt
ist, derart aufeinander gesetzt, -lisa lie Isolierschichten
BAD
909-84-8/097«
5 und 25 einander zur-okehrt sind, wobei iie Luster zwischen den Halbleiterkörpern 1 und 21 elektrisch, z.B. mit Hilfe einer Weichlotsohioliti
niteinander verbunden sind.. In Fi;;. 1 3ind die miteinander verbundenen
Teile d"er wüster mit A, B bzw. C angedeutet.
Di· Halbleiterkörper 1 und 21 bestehen *u» p- bzw. nleitandem
Silizium und haben z.3. einen spezifischen V/iderstand ron 1
bis 10ft. .cn und Abmessungen ron 75C M- * 55° V * 200 μ. Die Halbleiterkörper sind auf übliche Weise mit den η-leitenden Diffuaionszonen 2
und 3 bzw. den p-leitenden Difi-U3ior,3zonen 22 und 23, den z.U. aus Siliziumoxyd
und Siliziumnitrid bestehenden Isplierschichten 5 bzw. 25
und den z.J. aus Alumini; m ocstehenden kii3tem 4,6»7»13 bzw. 24,26,27
versehen. Die Zonen 2 und 22 können eine Stärke von einigen Mikrons
haben, während oie ferner Abmessungen von etwa 3CO \x ι 50 μ aufweisen
können. Die Zonen 3 und 23 sind etwas schmäler und haben einen Teil,
mit dem die Spuren 7 und 27 verbunden sind. Der Abstand zwischen den
Zonen 2 und 3 und zwischen den Zonen 22 und. 23 kann etwa 25 α betraren.
Die Isclierschichten 5 und 2p können eine Stärke von einigen Zehnteln
eine3 kikrons haben.
Die beiden komplementären Feldeffekttransistoren kön- |
nen ohne irgendeine gegenseitige Beeinflussung in den Kalbleiterkörpern
1 und 21 angebracht worden, wobai sich die bereit* beechriebenen Vor-
In Fi£. 1 nuss der Halbleiterkörper 21 üb die Aohee
30 gedreht worden, bevor er auf den Halbleiterkörper 1 gesetzt werden
kaxin. Bio Halbleiterkörper können dann noch auf verschiedene Veiae (-»enau
frQi"6ußeiti^ ausgerichtet werden, wonach die Teile A1 -3 und G oiteinander
verbunden werden. Die ?eile A, & und C können auf übliche
9 Q 9 8 4 6 / 0 « 7 § ßAD ®Nal
Weise ait Lotsohiohten versehen sein, di· durch Erhitsung auf ein·
Teaperatur ron s.3. 200 bis 400° C miteinander verbunden werden können.
Die Terbinduiig kann auch auf andere Weise, s.B. duroh Ultrasohallr
sohweissen, hergestellt werden.
Der Halbleiterkörper 21 bedeckt den Halbleiterkörper
1 nicht vollständig, so dass der links von der Linie 31 liegende Teil de« Halbleiterkörper» 1 unbedeokt bleibt. Dadurch besitxt das Muster
4,6,7»13 einen frei liegenden Teil, der die Kontaktstellen 9, 10, 11
und 12 enthllt, alt denen Ansohlusslelter verbunden werden können.
Das Schaltbild der erhaltenen integrierten Schaltung ist in Fig. 5 dargestellt. Die Anacklus3kle:nraen in Pig. 5 sind mit
den gleichen Bezugsziffern vie die entsprechenden .Anschlusspunkte in
Fig. 1 versehen.
Venn der Halbleiterkörper 21 während der Herstellung
des Halbleiterbautlenents in der bereits beschriebenen Veiae auf den
Halbleiterkörper 1 gesettt worden ist, ist is in allgemeinen erwünscht,
dass die Körper 1 und 21 genau gegenseitig ausgerichtet werden, bevor
die Muster leitender Bahnen elektrisch miteinander verbunden werden. Die Ausrichtung kann auf verschiedene- Weise erfolgen.
Ia vorliegenden Auafuhrungabeispiel sind zum Durchführen
des Auerichtvorgang* folgende fossnahnen getroffen. Auf der
Isolierschicht 25 (siehe Fig.1) iat der L-förmige Metallstreifen 40
angebracht, der duroh die öffnung 41 in der Isolierschicht 25 nit dem
η-leitenden Körper 21 verbunden ist. Io p-leitenden Halbleiterkörper
1 iat eine L-förnige dem Metall streifen 40 entsprechende n-leiter.de.
überflächcnzone 1.4 unter der Isolierschicht 5 angebracht, welche
Zone durch die Öffnung 15 in dieser Isolierschicht mit der mit den
Anachluespunkt 17 versehenen leitenden Bahn 16 verbunden iat.
909146/QlfO bad 0R(G/NAL
TC ' /-
j* 1919BA1 PI1n, 3172.
Venn der Körper 21 auf die dargestellte Weise auf
den Korper 1 isesetzt wird, liegt der Streifen 40 praktisch über der
Zone 14 (eieh· Fig. 4). In Fi^. 4 lot der Deutlichkeit halber nur
eine Zone, nfallen die Zone 14, in den Korpern 1 und 21 dargestellt,
vährend ferner nur eine- einsige leitende aahn nSmlich der Streifen 40,
dargestellt ist. Während des Ausrichtvorgange kommt der Streifen 40
genau über der Zone 14 zu liegen.
Druckkontakt« 43 und der Weahselsrannungequelle 44 eine Wechselspannung
Ton einigen KHs gelegt. Die Quelle 44 ist zwischen dem Körper
21 und Erde eingeschaltet.
Der r~l°itende Korper wird, wie in Fijr. 4 dargestellt
ist, an Erde gelegt, währoni die η-leitende Zone 14 über einen Widerstand R1 und eine Spamrm^quelle ^f) an eine positive Spannung gelegt
wird. Der pn-t/ber^anc zwisohen der Zone 14 und dem Körper 1 ist also
in der Sperrichtung vorgespannt. Die n-leitenie Zone 14 wird femer
über eine KacacitÄt C und einen Widerstand d0 an Erde gelegt.
Die HSchatkapaxita't pro v.berflä ebene inhe it zwioohen
den Korpern 21 und 1 liegt an der Stelle dos Streifens 40 in der Zone
14, wodurch an dieser Stelle die kapazitive Stromdichte maziaal ist.
Durch Messung der Wechselspannung über dec Widerstand IL mit Hilfe
der Kleer.e f.1 kann der über die η-leitende Zone abfliei3ende Wechselstrom
gomes j en werden. Dieser V.'echsclstron hat ein xaximum, wenn der
Streifen 40 ^enau übc-r der iksne 14 liegt und kann als Anzeige bei«
Ausrichtvor^p.r.fj benutzt werden.
Die Ausrichtung kann auch auf andere Veise erfolt^er..
In einer, ier "Talbleiterkörrer 1 unl 21 kar.r. z.!i. ausaer der." joiriÜnochten
909846/0970 SAD OBIQIMAL
Kreis vSnrend einer Diffusionsbehandlung eine Photodiode angebracht
werden* Hif^Le« anderen Halbleiterkörper wird an der entsprechenden
Stelle eine dünne Laoksohicht mit der gleiohen Geometrie wie die Photodiode angebracht, welche Lacksohioht ein Luoineszenspulver ent-R£lt.
Die Laoksohioht wird belichtet und sendet dann Licht aus, wonaoh
die Halbleiterkörper schnell aufeinander gelegt werden. Der Photodioden·trob wird gemessen und ist maximal, wenn die Photodiode
und die Leuchtsohieht genau übereinander liegen. Der Photostrom
kann somit als Anaeige beim AueriehtVorgang benutet.werden.
Die Feldeffekttransistoren gönnen eine von der beschriebenen Konfiguration verschiedene übliche Konfiguration haben.
Die Zu- und Abführungsionen können z.B. konzentrische Zonen sein*
Hk dürfte einleuchten, dass sich die Erfindung nicht
auf die beschriebenen Ausfuhrungsformen beschränkt und dass im Rahmen
der Erfindung fur den Fachmann viele Abarten tnögiich sind. Z. 3. kann
einer der Halbleiterkörper 1 und 21 aus einem monokristallinen Substrat bestehen, auf dem eine epitaktische Schicht angebracht ist, wobei
die Schaltungselemente in der epitaktischen Schicht oder in den epitaktischen Schichten angebracht sind. Im beschriebenen Ausführungsbeispiel
sollen die epitaktisohen Schichten dann verschiedene Leitfähigjkeitatjpe
aufweisen. Pur die Substrate ist dies nicht erforderlich. Das beschriebene Ausführungabeispiel bezieht sich auf einen npn- und
einen pnp-Feldeffekttransietor mit einer isolierten 'Gitterelektrode.
Die 2rfindun£ kann aber auch bei anderen komr.lemontären Schaltungselementen,
wie r.pn- und pnp~Tran3istoren, angewandt werden. Weiterhin können
die beiden Halbleiterkörper einen frei liegenden Teil haben, auf ilen 3ich Kontaktstellen eine3 löisters leitender Spuren befinden. Kin
eier J ie beiden Kalblei ttrkcrper kennen cehr als ein Ichaltur.gaelement
ontii'ii'if·.-.«
■■ !8 α/09 ? 2 BAD
Claims (1)
- PATESTAHSPRgCHE.ZuMtfwengeaetfttee Halbleiterbaueleeent nit sir·! Oruf*. pM ko»jplene*ttrer Halbleitersohaltungeeleccnte, dadurch gekennzeichnet, dft·« dft« Halbleiterbauelement iwei Halbleiterkörper enthält, die je «in· der Gruppen enthalten und eine Oberfläche haben, die Bit einer Isolierschicht überzogen ist, auf der ein Auster leitender Bahnen angebracht ist, das durch Offnungen in der Isolierschicht mit len Schal« tuagaelenenten einer Oruppe in Berührung ist, während die Halbleiterkörper derart aufeinander gesetzt sind, dass die laollerachichten einander zugekehrt gind, vcbei die Muster elektrisch miteinander verbunden sind,2« Zucanmengeeetztea Halbleiterbauelement n&oh Anspruch1, dadurch gekennzeiohnet, daaa «ich die Halbleiterkörper nicht foilig überlappen, wodurch wenigstens einea der Kuater leitender Verbindungen einen frei liegenden Teil aufweist, der Kontaktstellen enthält, an die Anschlussleiter angeschlossen werden können.909846/Q976Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL6806453A NL6806453A (de) | 1968-05-08 | 1968-05-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1919641A1 true DE1919641A1 (de) | 1969-11-13 |
Family
ID=19803562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691919641 Pending DE1919641A1 (de) | 1968-05-08 | 1969-04-18 | Zusammengesetztes Halbleiterbauelement |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE732607A (de) |
BR (1) | BR6908648D0 (de) |
CH (1) | CH489115A (de) |
DE (1) | DE1919641A1 (de) |
ES (1) | ES168698Y (de) |
FR (1) | FR2009862A1 (de) |
GB (1) | GB1257659A (de) |
NL (1) | NL6806453A (de) |
SE (1) | SE340658B (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2471048A1 (fr) * | 1979-12-07 | 1981-06-12 | Silicium Semiconducteur Ssc | Structure et procede de montage d'un composant semi-conducteur principal et d'un circuit auxiliaire |
DE3903346C2 (de) * | 1989-02-04 | 1994-03-17 | Ant Nachrichtentech | Anordnung mit zwei parallelgeschalteten Transistoren |
DE10238835A1 (de) * | 2002-08-23 | 2004-03-11 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterchip, Chipanordnung mit zumindest zwei Halbleiterchips und Verfahren zur Überprüfung der Ausrichtung zumindest zweier übereinander liegender Halbleiterchips in einer Chipanordnung |
-
1968
- 1968-05-08 NL NL6806453A patent/NL6806453A/xx unknown
-
1969
- 1969-04-18 DE DE19691919641 patent/DE1919641A1/de active Pending
- 1969-05-05 SE SE06326/69A patent/SE340658B/xx unknown
- 1969-05-05 GB GB1257659D patent/GB1257659A/en not_active Expired
- 1969-05-05 CH CH679069A patent/CH489115A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-05-06 ES ES1969168698U patent/ES168698Y/es not_active Expired
- 1969-05-06 BE BE732607D patent/BE732607A/xx unknown
- 1969-05-06 FR FR6914403A patent/FR2009862A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-05-08 BR BR208648/69A patent/BR6908648D0/pt unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES168698Y (es) | 1972-06-01 |
FR2009862A1 (fr) | 1970-02-13 |
BR6908648D0 (pt) | 1973-01-02 |
BE732607A (de) | 1969-11-06 |
GB1257659A (de) | 1971-12-22 |
NL6806453A (de) | 1969-11-11 |
SE340658B (de) | 1971-11-29 |
CH489115A (de) | 1970-04-15 |
ES168698U (es) | 1971-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1564475A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE1639254A1 (de) | Feldeffekthalbleitereinrichtung mit isoliertem Gatter und einem Durchschlagverhinderungsschaltelement sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2033532B2 (de) | Halbleiteranordnung mit einer Passivierungsschicht aus Siliziumdioxid | |
DE1564410A1 (de) | Zusammengesetzte Halbleitervorrichtung | |
DE2554612A1 (de) | Integrierte halbleiterschaltung | |
DE2234973A1 (de) | Mis-halbleitervorrichtung | |
DE1789119C3 (de) | Halbleiterbauelement. Ausscheidung aus: 1514855 | |
DE2802799C2 (de) | Planartransistor und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1231812B (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Halbleiterbauelementen nach der Mesa-Diffusionstechnik | |
DE1919641A1 (de) | Zusammengesetztes Halbleiterbauelement | |
DE1546014A1 (de) | Verfahren zum AEtzen von Metallschichten mit laengs der Schichtdicke unterschiedlicher Zusammensetzung | |
DE2105164C2 (de) | Halbleiterbauelement mit Basis- und Emitterzone und Widerstandsschicht und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2527076A1 (de) | Integriertes schaltungsbauteil | |
DE1194501B (de) | Streifenfoermige durch eine Isolierschicht von dem Halbleiterkoerper getrennte Zuleitung zu einer Elektrode eines Halbleiterbauelements, Halbleiterbauelement und Verfahren zum Herstellen | |
DE2444588C2 (de) | Integrierte Darlington-Schaltung | |
DE1564860A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen | |
DE2324554C2 (de) | ||
DE1439757C (de) | Hochfrequenplanartransistor | |
DE2437197A1 (de) | Halbleiteranordnung und verfahren zur herstellung derselben | |
DE2038283C3 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE2026678A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
DE2445023A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines transistors mit niedrigem kollektorwiderstand, sowie nach diesem verfahren hergestellter, integrierter schaltungsbaustein | |
DE1614910C3 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE2015333A1 (de) | ||
DE2050320A1 (de) | Halbleiteranordnung |