DE1810818A1 - Korpuskularstrahlgeraet mit einer Abbildungslinse und einer dieser zugeordneten phasenschiebenden Folie - Google Patents
Korpuskularstrahlgeraet mit einer Abbildungslinse und einer dieser zugeordneten phasenschiebenden FolieInfo
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 9
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 208000000474 Poliomyelitis Diseases 0.000 claims description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000003116 impacting effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH558668 | 1968-04-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1810818A1 true DE1810818A1 (de) | 1969-10-23 |
DE1810818B2 DE1810818B2 (nl) | 1970-12-17 |
Family
ID=4296050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681810818 Withdrawn DE1810818A1 (de) | 1968-04-16 | 1968-11-25 | Korpuskularstrahlgeraet mit einer Abbildungslinse und einer dieser zugeordneten phasenschiebenden Folie |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3596090A (nl) |
DE (1) | DE1810818A1 (nl) |
GB (1) | GB1259352A (nl) |
NL (1) | NL170900C (nl) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5814815A (en) * | 1995-12-27 | 1998-09-29 | Hitachi, Ltd. | Phase-contrast electron microscope and phase plate therefor |
JP3942363B2 (ja) * | 2001-02-09 | 2007-07-11 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡の位相板用レンズシステム、および透過電子顕微鏡 |
DE102006011615A1 (de) | 2006-03-14 | 2007-09-20 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Phasenkontrast-Elektronenmikroskop |
US8785850B2 (en) * | 2010-01-19 | 2014-07-22 | National Research Counsel Of Canada | Charging of a hole-free thin film phase plate |
US9953802B2 (en) | 2014-01-21 | 2018-04-24 | Ramot At Tel-Aviv University Ltd. | Method and device for manipulating particle beam |
-
1968
- 1968-11-25 DE DE19681810818 patent/DE1810818A1/de not_active Withdrawn
-
1969
- 1969-02-14 NL NLAANVRAGE6902406,A patent/NL170900C/nl not_active IP Right Cessation
- 1969-04-04 US US813629A patent/US3596090A/en not_active Expired - Lifetime
- 1969-04-14 GB GB1259352D patent/GB1259352A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3596090A (en) | 1971-07-27 |
NL6902406A (nl) | 1969-10-20 |
NL170900B (nl) | 1982-08-02 |
NL170900C (nl) | 1983-01-03 |
GB1259352A (nl) | 1972-01-05 |
DE1810818B2 (nl) | 1970-12-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |