DE1769405B2 - Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen

Info

Publication number
DE1769405B2
DE1769405B2 DE19681769405 DE1769405A DE1769405B2 DE 1769405 B2 DE1769405 B2 DE 1769405B2 DE 19681769405 DE19681769405 DE 19681769405 DE 1769405 A DE1769405 A DE 1769405A DE 1769405 B2 DE1769405 B2 DE 1769405B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
laser
single crystals
melting
production
zone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19681769405
Other languages
English (en)
Other versions
DE1769405A1 (de
Inventor
Karl Dr.Dipl.-Phys. 6231 Niederhöchstadt. BOIk 3-00 Gürs
Original Assignee
Battelle-Entwicklungs-Gesellschaft mbH, 6000 Frankfurt
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Battelle-Entwicklungs-Gesellschaft mbH, 6000 Frankfurt filed Critical Battelle-Entwicklungs-Gesellschaft mbH, 6000 Frankfurt
Priority to DE19681769405 priority Critical patent/DE1769405B2/de
Priority to NL6907016A priority patent/NL6907016A/xx
Priority to CH716869A priority patent/CH509823A/de
Priority to GB1226473D priority patent/GB1226473A/en
Priority to FR6916127A priority patent/FR2016750A1/fr
Priority to DE19702028008 priority patent/DE2028008A1/de
Publication of DE1769405A1 publication Critical patent/DE1769405A1/de
Priority to US249998A priority patent/US3897590A/en
Publication of DE1769405B2 publication Critical patent/DE1769405B2/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/12Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special atmosphere, e.g. in an enclosure
    • B23K26/127Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special atmosphere, e.g. in an enclosure in an enclosure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/0006Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring taking account of the properties of the material involved
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/12Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring in a special atmosphere, e.g. in an enclosure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone
    • C30B13/22Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge
    • C30B13/24Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge using electromagnetic waves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
    • B23K2103/56Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26 semiconducting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

kennzeichnet, daß der Laserstrahl mit einem (ΓΟ.,-Laser er/tugt wird.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus schmelzbaren Stoffen durch tiegelfreies Zonenschmelzen, bei dem eine Schmelzzone von einem Keimkristall aus durch einen an seinen Enden gehalterten und um seine Längsachse rotierenden Stab geführt wird.
Mit dem tiegelfr.'en Zonenschmelzen werden bereits verschiedene Einkristalle hergestellt, z. B. aus Germanium und Silicium. Die Anwendbarkeit dieses Verfahrens ist jedoch aus verschiedenen Gründen begrenzt. Oftmals ist es nicht möglich, das meist stabförmige Material auf eine solche Temperatur aufzuheizen, daß eine Schmelzzone entsteht. Dies hat im wesentlichen zwei Ursachen, nämlich einmal, daß einige Materialien die üblicherweise zur Aufheizung verwendete Hochfrequenzenergie nicht genügend absorbieren oder daß der Schmelzpunkt der Materialien so hoch liegt, daß er auch bei voller Absorption der Hochfrequenzenergie nicht erreicht wird. Auch ist das Aufschmelzen der Kristalle durch indirektes Heizen mittels Wärmestrahlung über eine ζ Β. das stabförmige Material umgebende Widerstandsheizvorrichtung bei hohen Schmelztemperaturen nicht mehr möglich, da auch auf diese Weise die erforderliche Temperatur nicht mehr erreicht wird.
Verwendet man einen Elektronenstrahl als Wärmequelle, so muß einmal der gesamte Ziehvorgang unter Vakuum ausgeführt werden, was einen ganz erheblichen apparativen und auch Zeitaufwand erfordert. Außerdem ist man bei der Anwendbarkeit dieser Beheizungsmethode auf zu bearbeitende Materialien beschränkt, die elektrisch leitfähig sind, da die Materialien als Anoden den Elektronenstrom ableiten müssen. Bei elektrisch nicht leitenden Substanzen kann nicht mit einem Elektronenstrahl die zum Zonenziehen notwendige einwandfreie Schmelzzone quer durch den z. B. stabförmigen Rohling erzeugt werden.
Die Aufgabe der Erfindung ist darin zu sehen, ein relativ einfaches Verfahren zu schaffen, mit dem es möglich ist, Materialien umzuschmelzen und Einkristalle auch aus Materialien herzustellen, die einen vergleichsweise hohen Schmelzpunkt haben und/oder Hochfrequenzenergie nur in nicht ausreichendem Maß absorbieren und/oder elektrisch nicht leitfähig sind.
Diese Aufgabe ist gemäß der Erfindung dadurch gelös;, daß die Schmelzzone durch die Strahlung eines an sich bekannten Lasers erzeugt wird.
Mit dem Laserstrahl ist es möglich, jedes bekannte Material weit über seinen Schmelzpunkt zu erhitzen oder gar zu verdampfen. Dies beruht darauf, daß der Laserstrahl nach Art seiner Erzeugung räumlich kohärent ist. Er läßt sich bis an eine Grenze bündeln, die nur durch die Beugung der elektromagnetischen Welle gegeben ist. Auch gibt es keine grundsätzliche (physikalische) Begrenzung in der Höhe der erzeugten Leistung. Bis jetzt wurden Laserleistungen bis zu etwa 18 Kilowatt erreicht. Auf diese Weise ist es somit möglich, bisher beim Zonenschmelzen nicht er-
reichbare Temperaturen zu erzeugen. Das erfindungsgemäße Verfahren weist im Hinblick auf das
3»„ —u» ι :.*-i- nui.*~„.-.t™ui.„ j.„ e„..,_
besonderen Vorteil auf, daß es ohne Vakuum auskommt. Es kann unter Normaldruck als auch unter Schutzgasatmosphäre gearbeitet werden, wenn dies die zu Einkristallen umzuschmeizenden Materialion erfordern oder angezeigt erscheinen lassen. Durch Vermeiden des Arbeitens unter Vakuum ist der für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
erforderliche apparative Aufwand vergleichsweise gering. Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können z. B. Einkristalle aus Aluminiumoxid, Aluminium-Yttrium-Granat, Bor und Bor-Carbid erzeigt werden. Alle diese Kristalle haben einen Schmelzpunkt von über 2000 C.
Auch ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich, Substanzen zu verarbeiten, deren eine Komponente bei dem Schmelzpunkt der gewünschten Verbindung einen hohen Dampfdruck hat, z. B. Silicium-Carbid. In solchen Fällen ist es erforderlich, das erfindungsgemäße Aufschmelzen in einem Überdruckgefäß derart vorzunehmen, daß die flüchtige Komponente einen aus dem Phasendiagramm ersichtlichen Dampfdruck besitzt. Dieser kann durch Bodenkörper und Temperaturkontrolle geregelt werden.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn gemäß der Erfindung der Laserstrahl mit einem CO2-Laser erzeugt wird.
Der CO.,-Laser zeigt einen besonders hohen Wi r-
kungsgrad,"der um einen Faktor 10 bis 1000 größer ist als bei den anderen für technische Anwendungen in Betracht kommenden Lasern; sein Gesamtwirkungsgrad liegt bei etwa 15 bis 20° 0.
Der Laserstrahl läßt sich praktisch verlustfrei aut die Schmelzzone bündeln. Daher ist der Gesamtwirkungsgrad der Umwandlung von elektrischer in Wärmeenergie bei dem erfindungsgemäßen größer als bei den bekannten Verfahren. Aus diesem Grund — und weil man ohne Tiegel auskommt — ist das erfindungsgemäße Verfahren preiswert. Schließlich erlaubt die gerichtete Einstrahlung des Laserlichts eine besonders einfache Konstruktion der Ziehvorrichtung.
Das Laserlicht kann durch eine sehr kleine Ausnehmung oder Öffnung in der Verkleidung oder Verstrebung der Ziehvorrichtung auf das zu ziehende Material eingestrahlt werden.
Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels sowie an Hand der schematischen Zeichnung, in der eine Ziehvorrichtung zur Herstellung von Einkristallen unter Verwendung eines Laserstrahls als Energiequelle dargestellt ist.
In der Zeichnung ist ein COvLaser 1 mit strömendem Gas gezeigt. Das Gas tritt durch einen Stutzen 2 in ein Laserrohr 4 ein und durch einen Stutzen 3 aus diesem wieder aus. Der geeignete Fülldruck des
Laserrohres 4 wird dabei durch die Sauggeschwindigkei emer Pumpe und Dosierventile, dielücht dargl
S J t' ^negTelt ES Sei jed0ch darauf hingewicsin, daß auch CO2-Laser mit stehendem Gas verwendet werden können. Der Co2-Laserl kann mit Gleich- oder Wechselstrom betrieben werden. Die Spannung wird an Elektroden 5 und 6 angelegt
Das Laserrohr 4 ist beiderseits mit Laserspiegeln
ILUn t i «VerSehfn- Der LasersPiegel 15 ist so ausgebildet daß er den Laserstrahl? in Richtung der Linse 8 hindurchtreten läßt. Dies kann dadurch erzielt werden rtaR onf,,raj„, „:„ ,_=n „ , ς. α
Spiegel im Bereich seiner Mitte mit einem Loch versehen ist oder daß man einen teildurchiässigen Spiegel verwendet. ^
Durch Anordnung von verschiedenen nicht daree- ^ stellten Zwischenelektroden zwischen den Elektioden5 und 6 im Laserrohr 4 ist es möglich, den COo-Laser abschnittsweise anzuregen und damit die Betriebsspannung herabzusetzen.
Der bei Betrieb aus dem Laserrohr 4 austretende Laserstrahl 7 wird mit einer Linse 8, z. B. einer Germaniumlinse, oder einem nicht gezeigten Spiegel auf eine Schmelzzone 9 gebündelt.
Diese Schmelzzone 9 trennt einen an einen Keim 10 anschließenden, bereits gezogenen einkristallinen Bereich 11 von einem Rohling 12 eines zu ziehenden stabförmigen Materials. Keim 10 und Rohling 12 können zwecks besserer Durchmischung der Schmelze gegeneinander rotieren. Der Keim 10 kann in einer gewünschten Orientierung vorgegeben weri, su uao
uci tu /Llcliciiuc rvllbltlH um
Orientierung wächst.
Die Schmelzzone 9 muß durch ti^; aufzuschmelzende Material hindurchgeführt werden. Dies geschieht beim gezeichneten Ausführungsbeispiel dadurch, daß entweder der CO.,-Laser 1 mit der Linse 8 eine Bewegung in Richtung des Pfeiles 13 oder das zu ziehende stabförmige Material eine Bewegung in Richtung des Pfeiles 14 ausführen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus schmelzbaren Stoffen durch tiegelfreies Zonenschmelzen, bei dem eine Schmelzzone von einem Keimkristall aus durch einen an seinen Enden gehalterten und um seine Längsachse rotierenden Stab geführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzzone durch die Strahlung eines an sich bekannten Lasers erzeugt wird.
DE19681769405 1968-05-18 1968-05-18 Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen Pending DE1769405B2 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681769405 DE1769405B2 (de) 1968-05-18 1968-05-18 Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen
NL6907016A NL6907016A (de) 1968-05-18 1969-05-07
CH716869A CH509823A (de) 1968-05-18 1969-05-09 Verfahren zur Herstellung von Einkristallen
GB1226473D GB1226473A (de) 1968-05-18 1969-05-14
FR6916127A FR2016750A1 (de) 1968-05-18 1969-05-19
DE19702028008 DE2028008A1 (de) 1968-05-18 1970-06-08 Verfahren zur herstellung von Einkristallen
US249998A US3897590A (en) 1968-05-18 1972-05-03 Method and apparatus for making monocrystals

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19681769405 DE1769405B2 (de) 1968-05-18 1968-05-18 Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1769405A1 DE1769405A1 (de) 1970-11-05
DE1769405B2 true DE1769405B2 (de) 1972-08-03

Family

ID=5700116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681769405 Pending DE1769405B2 (de) 1968-05-18 1968-05-18 Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen

Country Status (5)

Country Link
CH (1) CH509823A (de)
DE (1) DE1769405B2 (de)
FR (1) FR2016750A1 (de)
GB (1) GB1226473A (de)
NL (1) NL6907016A (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3944640A (en) * 1970-09-02 1976-03-16 Arthur D. Little, Inc. Method for forming refractory fibers by laser energy
US4197157A (en) * 1975-03-19 1980-04-08 Arthur D. Little, Inc. Method for forming refractory tubing
US4012213A (en) * 1973-06-14 1977-03-15 Arthur D. Little, Inc. Apparatus for forming refractory fibers
US4040890A (en) * 1975-06-27 1977-08-09 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Neodymium oxide doped yttrium aluminum garnet optical fiber
US4120743A (en) * 1975-12-31 1978-10-17 Motorola, Inc. Crossed grain growth
US4468279A (en) * 1982-08-16 1984-08-28 Avco Everett Research Laboratory, Inc. Method for laser melting of silicon
JPS59190300A (ja) * 1983-04-08 1984-10-29 Hitachi Ltd 半導体製造方法および装置

Also Published As

Publication number Publication date
CH509823A (de) 1971-07-15
DE1769405A1 (de) 1970-11-05
FR2016750A1 (de) 1970-05-15
NL6907016A (de) 1969-11-20
GB1226473A (de) 1971-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2120401C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Trennung von zwei Isotopen eines Stoffes
DE3342531A1 (de) Verfahren und einrichtung zum erzeugen von kurz dauernden, intensiven impulsen elektromagnetischer strahlung im wellenlaengenbereich unter etwa 100 nm
DE1639431A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Entgasen von Dauermagneten,insbesondere fuer Neutronengeneratoren
DE19815362A1 (de) Verfahren zur Beeinflussung eines parasitären Ladungsträgergitters in optisch nichtlinearen Materialien bei der Frequenzkonversion von Laserstrahlung
DE112016006006T5 (de) Optische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung der optischen Vorrichtung
DE2312194A1 (de) Verfahren zur isotopentrennung
DE1769405B2 (de) Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen
DE2335495B2 (de) Verfahren und vorrichtung zum abstimmen der eigenfrequenz mechanischer schwingkoerper aus piezoelektrischem kristall
DE1489673B2 (de) Drei-Energieniveau-Glaslaser
DE2456180A1 (de) Einkristall und dessen verwendung
DE1946434C3 (de) Ionenlaserapparatur
DE3936716C2 (de) Vorrichtung zur Beeinflussung von Material durch gepulste Lichteinstrahlung sowie Verwendung hierzu
DE2544431A1 (de) Lasersystem
DE3535062A1 (de) Ionenstrahlerzeuger
DE2213431A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Plasmaerzeugung durch langwellige Laser
DE4430582C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erwärmung eines Materials, das eine molekulare Eigenfrequenz aufweist
DE2062085A1 (de) Einrichtung zur Auswahl eines Licht strahlenbündel innerhalb eines Resonators
WO2021197929A1 (de) Verfahren zum herstellen einer lichtablenkungsstruktur, verwendung eines substrats mit einer solchen lichtablenkungsstruktur, und lichtablenkeinheit mit einer solchen lichtablenkungsstruktur
DE102010054858B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung
DE2120891A1 (de) Verfahren zum Herstellen beliebig langer Hohlkörper aus Halbleitermaterial, insbesondere aus Silicium
DE102013013069B3 (de) Verfahren zur beschleunigten Degradation von OH-armen Quarzgläsern für UV-VUV-Anwendungen
DE2028008A1 (de) Verfahren zur herstellung von Einkristallen
DE1157317B (de) Optischer Kristallverstaerker und dafuer bestimmte Materialien
WO1998017831A1 (de) Verfahren zur veränderung der struktur von dünnen, oberflächennahen materialschichten
DE2025376A1 (de) Einkristall-Züchtungsverfahren für Bariumnatriumniobat und verwandte Materialien