DE1769405A1 - Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus Materialien mit hohem Schmelzpunkt - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus Materialien mit hohem SchmelzpunktInfo
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Description
KRU/mfr 16. Max 1968
385-87, 39/68 ·
Battelle-Institut e.V., Frankfurt am Main, Wiesbadener Straße
Verfahren zur Herstellung von Einkristallen
aus Materialien mit hohem Schmelzpunkt
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Einkristallen aus Materialien vorzugsweise mit hohem Schmelzpunkt, insbesondere höher als 2000° C, nach der
Methode des tiegelfreien Zonenschmelzens.
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Mit dem tiegelfreien Zonenschmelzen werden bereits verschiedene Einkristalle hergestellt, z.B. aus Germanium
und Silicium. Die Anwendbarkeit dieses Verfahrens ist jedoch aus verschiedenen Gründen begrenzt. Oftmals ist
es nicht möglich, das meist stabförmige Material auf eine solche Temperatur aufzuheizen, daß eine Schmelzzone
entsteht. Dies hat im wesentlichen zwei Ursachen, nämlich einmal, daß einige Materialien die üblicherweise
zur Aufheizung verwendete Hochffequenzenergie nicht genügend
absorbieren oder daß der Schmelzpunkt der Materialien so hoch liegt, daß er auch bei voller Absorption der
Hochfrequenzenergie nicht erreicht wird. Auch ist das Aufschmelzen der Kristalle durch indirektes Heizen
mittels Wärmestrahlung über eine z.B. das stabförmige Material umgebende Widerstandsheizvorrichtung bei
hohen Schmelztemperaturen nicht mehr möglich, da auch auf diese Weise die erforderliche Temperatur nicht mehr
erreicht wird»
Die Aufgabe der Erfindung ist darin zu sehen, ein einfaches Verfahren zu schaffen, mit dem es möglich ist,
Materialien umzuschmelzen und Einkristalle auch aus Materialien herzustellen, die einen vergleichsweise
hohen Schmelzpunkt haben und/oder Hochfrequenzenergie nur in nichtausreichendem Maße absorbieren.
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Diese Aufgabe ist gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß
die Materialien unter Zuhilfenahme eines Laserstrahls
zonenförmig aufgeschmolzen werde_n.
Mit dem Laserstrahl ist es möglich, jedes bekannte Material
weit über seinen Schmelzpunkt zu erhitzen oder gar zu verdampfen. Dies beruht darauf, daß der Laserstrahl nach
Art seiner Erzeugung räumlich kohärent ist. Er läßt sich bis an eine Grenze bündeii, die nur durch die Beugung der
elektromagnetischen Welle gegeben ist. Auch gibt es keine grundsätzliche (physikalische) Begrenzung in der Höhe der
erzeugten Leistung. Bis" jetzt wurden Laserleistungen bis
zu etwa 18 Kilowatt erreicht. Auf diese Weise ist es
somit möglich,. bisher beim Zonenschmelzen nicht erreichbare Temperaturen zu erzeugen.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können z.B. Einkristalle
aus Aluminiumoxid, Aluminium-Yttrium-Granat, Bor und Bor-Carbid gemacht werden. Alle diese Kristalle
haben einen Schmelzpunkt über 2000° C.
Auch ist es mit dem erfindungsgemäßen Verfahren möglich, Substanzen zu verarbeiten, deren eine Komponente bei dem
Schmelzpunkt der gewünschten Verbindung einen hohen Dampf-
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druck hat, Z0Bo Silicium-Carbido In solchen Fällen ist es "
erforderlich, das erfindungsgemäße Aufschmelzen in einem Überdruckgefäß derart" vorzunehmen, daß die flüchtige
Komponente einen aus dem Phasendiagramm ersichtlichen Dampfdruck besitzt. Dieser kann durch Bodenkörper und
Temperaturkontrolle geregelt werden.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn gemäß der Erfindung der Laserstrahl mit einem CO2-LaSer erzeugt wird.
Der COo-Laser zeigt einen besonders hohen Wirkungsgrad,
der um einen Faktor 10 bis 1000 größer ist, als bei den anderen für technische Anwendungen in Betracht kommenden
Lasern; sein Gesamtwirkungsgrad liegt bei etwa 15 bis 20%.
Der Laserstrahl läßt sich praktisch verlustfrei auf die Schmelzzone bündeln. Daher 1st der Gesamtwirkungsgrad
der Umwandlung von elektrischer in Wärmeenergie bei dem erfindungsgeir.äßen größer als bei den bekannten Verfahren.
Aus diesem Grund - und weil man ohne Tiegel auskommtist das erfindungsgemäße Verfahren preiswert. Schließlich
erlaubt die gerichtete Einstrahlung des Laserlichts eine besonders einfache Konstruktion der Ziehvorrichtung.
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Das Laserlicht kann durch eine sehr kleine Ausnehmung oder Öffnung in der Verkleidung oder Verstrebung der Ziehvorrichtung
auf das zu ziehende Material eingestrahlt werden.
Weitere Einzelheiten, Merkmale und Vorteile der Erfindung
ergeben sich aus der folgenden Beschreibung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels sowie anhand der schematischen
Zeichnung, in der eine Ziehvorrichtung zur Herstellung von Einkristallen unter %*wendung eines Laserstrahls als
Energiequelle dargestellt ist.
In der Zeichnung ist ein CO^-Laser 1 mit strömendem Gas
gezeigt. Das Gas tritt durch einen Stutzen 2 in ein Laserrohr
4 ein und durch einen Stutzen 3 aus diesem wieder aus. Der geeignete Fülldruck des Laserrohres 4 wird dabei durch,
die Sauggeschwindigkeit einer Pumpe und Dosierventile, die
nicht dargestellt sind, geregelt. Es sei jedoch darauf hingewiesen, daß auch CO2- Laser mit stehendem Gas verwendet
werden können. Der COg-Laser 1 kann mit Gleich- oder
Wechselstrom betrieben werden. Die Spannung wird an Elektroden 5 und 6 angelegt.
Das Laserrohr 4 ist beiderseits raft Laserspiegeln 15 und 16
versehen. Der Laserspiegel 13 ist so ausgebildet, daß
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er den Laserstrahl 7 in Richtung der Linse 8 hindurchtreten läßt. Dies kann dadurch erzielt werden, daß entweder
ein voll reflektierender Spiegel im Bereich seiner Mitte mit einem Loch versehen ist oder daß man einen
teildurchlässigen Spiegel verwendet.
Durch Anordnung von verschiedenen nicht dargestellten Zwischenelektroden zwischen den Elektroden 5 und 6 im
Laserrohr 4 ist es möglich, den COg-Laser 1 abschnittsweise
anzuregen, und damit die Betriebsspannung herabzusetzen.
Der bei Betrieb aus dem Laserrohr 4 austretende Laserstrahl 7 wird mit einer Linse 8, z.B. einer Germaniumlinse, oder
einem nicht gezeigten Spiegel auf eine Schmelzzone 9 gebündelt O
Diese Schmelzzone 9 trennt einen an einen Keim 10 anschließenden, bereits gezogenen einkristallinen Bereich
von einem Rohling 12 eines zu ziehenden stabförmigen Materials. Keim 10 und Rohling 12 können zwecks besserer
Durchmischung der Schmelze gegeneinander rotieren. Der Keim 10 kann in einer gewünschten Orientierung vorgegeben
werden, so daß auch der zu ziehende Kristall mit
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dieser Orientierung wächst.
Die Schmelzzone 9 muß durch das aufzuschmelzende Material
hindurchgeführt werden. Dies geschieht beim gezeichneten Ausführungsbeispiel dadurch, daß entweder der COg-Laser
mit der Linse 8 eine Bewegung in Richtung des Pfeiles 15
oder das zu ziehende stabförmige Material eine Bewegung in Richtung des Pfeiles 14 ausführen.
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Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus Materialien mit vorzugsweise hohem Schmelzpunkt,
insbesondere höher als 2000 C, nach der Methode des tiegelfreien Zonenschmelzens, dadurch gekennzeichnet,
daß die Materialien unter Zuhilfenahme eines Laserstrahles zonenförmig aufgeschmolzen
werdenο
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserstrahl mit einem CO^-Laser erzeugt
wird»
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Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681769405 DE1769405B2 (de) | 1968-05-18 | 1968-05-18 | Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen |
NL6907016A NL6907016A (de) | 1968-05-18 | 1969-05-07 | |
CH716869A CH509823A (de) | 1968-05-18 | 1969-05-09 | Verfahren zur Herstellung von Einkristallen |
GB1226473D GB1226473A (de) | 1968-05-18 | 1969-05-14 | |
FR6916127A FR2016750A1 (de) | 1968-05-18 | 1969-05-19 | |
DE19702028008 DE2028008A1 (de) | 1968-05-18 | 1970-06-08 | Verfahren zur herstellung von Einkristallen |
US249998A US3897590A (en) | 1968-05-18 | 1972-05-03 | Method and apparatus for making monocrystals |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681769405 DE1769405B2 (de) | 1968-05-18 | 1968-05-18 | Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1769405A1 true DE1769405A1 (de) | 1970-11-05 |
DE1769405B2 DE1769405B2 (de) | 1972-08-03 |
Family
ID=5700116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681769405 Pending DE1769405B2 (de) | 1968-05-18 | 1968-05-18 | Verfahren zur herstellung von einkristallen aus schmelzbaren stoffen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH509823A (de) |
DE (1) | DE1769405B2 (de) |
FR (1) | FR2016750A1 (de) |
GB (1) | GB1226473A (de) |
NL (1) | NL6907016A (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3944640A (en) * | 1970-09-02 | 1976-03-16 | Arthur D. Little, Inc. | Method for forming refractory fibers by laser energy |
US4197157A (en) * | 1975-03-19 | 1980-04-08 | Arthur D. Little, Inc. | Method for forming refractory tubing |
US4012213A (en) * | 1973-06-14 | 1977-03-15 | Arthur D. Little, Inc. | Apparatus for forming refractory fibers |
US4040890A (en) * | 1975-06-27 | 1977-08-09 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Neodymium oxide doped yttrium aluminum garnet optical fiber |
US4120743A (en) * | 1975-12-31 | 1978-10-17 | Motorola, Inc. | Crossed grain growth |
US4468279A (en) * | 1982-08-16 | 1984-08-28 | Avco Everett Research Laboratory, Inc. | Method for laser melting of silicon |
JPS59190300A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-10-29 | Hitachi Ltd | 半導体製造方法および装置 |
-
1968
- 1968-05-18 DE DE19681769405 patent/DE1769405B2/de active Pending
-
1969
- 1969-05-07 NL NL6907016A patent/NL6907016A/xx unknown
- 1969-05-09 CH CH716869A patent/CH509823A/de not_active IP Right Cessation
- 1969-05-14 GB GB1226473D patent/GB1226473A/en not_active Expired
- 1969-05-19 FR FR6916127A patent/FR2016750A1/fr not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6907016A (de) | 1969-11-20 |
FR2016750A1 (de) | 1970-05-15 |
CH509823A (de) | 1971-07-15 |
GB1226473A (de) | 1971-03-31 |
DE1769405B2 (de) | 1972-08-03 |
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