DE2456180C2 - Substituierter Berylliumlanthanat-Einkristall und dessen Verwendung - Google Patents

Substituierter Berylliumlanthanat-Einkristall und dessen Verwendung

Info

Publication number
DE2456180C2
DE2456180C2 DE2456180A DE2456180A DE2456180C2 DE 2456180 C2 DE2456180 C2 DE 2456180C2 DE 2456180 A DE2456180 A DE 2456180A DE 2456180 A DE2456180 A DE 2456180A DE 2456180 C2 DE2456180 C2 DE 2456180C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crystal
beryllium
lanthanate
melt
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2456180A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2456180A1 (de
Inventor
Carl Franklin Mendham N.J. Cline
Robert Craig Flanders N.J. Morris
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Allied Corp
Original Assignee
Allied Corp Morris Township NJ
Allied Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Allied Corp Morris Township NJ, Allied Corp filed Critical Allied Corp Morris Township NJ
Publication of DE2456180A1 publication Critical patent/DE2456180A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2456180C2 publication Critical patent/DE2456180C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • C30B11/04Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt
    • C30B11/08Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the melt every component of the crystal composition being added during the crystallisation
    • C30B11/10Solid or liquid components, e.g. Verneuil method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/163Solid materials characterised by a crystal matrix
    • H01S3/1663Solid materials characterised by a crystal matrix beryllate
    • H01S3/1665La2Be2O5 [BEL]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

20
Die Erfindung betrifft substituierte Berylliumlanthanat-Einkristalle sowie deren Verwendung als Lasergrundmaterial.
Die Verwendung von Lasern in Wissenschaft und Industrie nimmt auf einer ständig wachsenden Zahl von Anwendungsgebieten zu. Laser finden Verwendung auf so unterschiedlichen Gebieten, wie bei Entfernungsmeßgeräten, in der optischen Chirurgie und beim Metallbohren. Kurz gesagt arbeiten Laser nach dem Prinzip der Lichtverstärkung durch angeregte Strahlungsemission und können extrem intensive Lichtkonzentrationen erzeugen.
Der in dem Laserraum produzierte Lichtstrahl wird in einem Lasergrundmaterial verstärkt. Materialien, die als Lasergrundmaterialien verwendet wurden, sind beispielsweise Gase, Flüssigkeiten, Gläser und Einkristalle.
Wenn Einkristalle als Lasergrundmaterialien benutzt werden, liegen die Kristalle allgemein in der Form länglicher Stäbe vor. Die Strukuir des kristallinen Materials muß nahezu perfekt sein, da irgendwelche optische Inhomogenitäten eine Verzerrung und Streuung des Laserstrahles verursachen und auf diese Weise die Intensität und Kohärenz der Strahlung vermindern. Unvoilkommenheiten in dem Kristall, die die Laserleistung nachteilig beeinflussen, sind beispielsweise Fehl- « Orientierungen, chemische Konzentrationsgefälle, Verschiebungen, Einschlüsse und Blasen.
Lasergrundmaterialien sind beispielsweise solche mit Ionen Seltener Erden, wie beispielsweise Y3AI5O12: Nd und Y2AI2O6 : Nd, sowie auf Fluorapatit und Silicatoxy- 5" apatit basierende Materialien. Y3AI5O12: Nd hat sowohl die größte wirtschaftliche Bedeutung unter diesen Materialien wegen seiner günstigen Kombination spektroskopischer Eigenschaften, thermischer Eigenschaften, Transporteigenschaften und optischer Eigen- 5S schäften bei Beanspruchung. Dieses Material ist jedoch schwierig und teuer zu bekommen, besonders bei hohen Substitutionsmengen.
Aus »Phys. stat, sol.« (ε) 17, K 41-43 (1973) sind Berylliumlanthanat- und substituierte Berylliumlanthanat-Einkristalle der Formeln La2Be2Os bzw. La2Be2O5: Nd3+ bekannt.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe bestand nun darin. Einkristalle mit gegenüber diesem Stand der Technik verbesserten Eigenschaften als Lasergrundmaterial zu bekommen.
Die substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung sind gekennzeichnet, durch die allgemeine Formel Be2La2-2iZ2»O5, wobei Z Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb oder mehrere hiervon und χ einen Wert nicht größer als 0,2 bedeuten. Dabei ist Z bevorzugt Nd, Eu, Dy und/oder Ho, besonders Nd.
Die Einkristalle können nach irgendeiner Standardkristailzüchtungs- oder Wachstumstechnik gezüchtet werden, wie nach einer Schmelzzüchtungsmethode, einschließlich der Czochralski-Methode, der Verneuil-Methode oder der Bridgman-Stockbarger-Methode, von denen die Czochralski-Methode bevorzugt ist, die in einem Artikel von J. Czochralski in »Zeitschrift für physikalische Chemie«, Band 92, Seiten 219 bis 221 (1918) und in jüngerer Zeit in einem Artikel von K. Nassau und L G. van Uitert »Journal of Applied Physics«, Band 31, Seite 1508 (1960) beschrieben ist Gemäß dieser Methode wird eine Schmelze aus einem Gemisch der Ausgangsbestandteile hergestellt, wobei die Zusammensetzung der Schmelze die Zusammensetzung der wachsenden Kristalle reguliert. Ein Keimkristall wird in die Schmelze gegeben und gleichzeitig gedreht und langsam herausgezogen, wodurch ein Kristallwachstum auf dem Keimkristall gefördert wird.
Einkristalle von Lasergrundmaterialien wurden auch nach der Verneuil-Methode erhalten, bei der durch eine Flamme geschmolzenes pulverisiertes Material auf die geschmolzene Kuppe eines Keimstabes aultropft und auskristallisiert, so daß die Länge des Keimstabes sich vergrößert. Der Keimstab wird langsam abgesenkt, so daß die geschmolzene Oberfläche in einem im wesentlichen konstanten Abstand von der Wärmequelle bleibt. Andere Wachstumsmethoden, wie die Bridgman-Stockbarger-Methode, sind dem Fachmann bekannt.
Zur Erläuterung der mit den Berylliumlanthanat-Einkristallen nach der Erfindung erzielbaren Vorteile wird Y3AI5O12: Nd verglichen, welches in großem Umfang als Lasergrundmaterial verwendet wird.
Die erfindungsgemäßen Einkristalle ermöglichen eine stärkere Substituierung durch Z. Berylliumlanthanat-Einkristal'e nach der Erfindung sind weicher als die herkömmlichen Kristalle von Y3AI5O12: Nd. Dies gestattet eine leichtere und schnellere maschinelle Bearbeitung der Kristalle, um das gewünschte Kristailprodukt zu bekommen.
Weiterhin sind die Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung optisch biaxial, besitzen eine monokline Kristallstruktur und emittieren linear polarisierte Strahlung, wenn sie als Lasergrundmaterial verwendet werden. Wenn somit polarisierte Strahlung erwünscht ist, ist es möglich, linear polarisierte Strahlung aus den Berylliumlanthanat-Einkristallen nach der Erfindung zu gewinnen, ohne daß eine zusätzliche Optik, wie ein Polarisator, erforderlich wäre, so daß man Stärkeverluste vermeidet, die mit der Verwendung einer solchen zusätzlichen Optik verbunden wären.
Außerdem kann bei Verwendung eines substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalles nach der Erfindung als Lasergrundmaterial sowohl mit gepulsten als auch mit kontinuierlichen Wellen bei Raumtemperatur gearbeitet werden.
Berylliumlanthanat-Einkristalle hoher optischer Qualität können aus der Schmelze mit einer Geschwindigkeit gezüchtet werden, die wesentlich größer als die Wachstumsgeschwindigkeit ist. die beim Züchten von Y3AI5O12: Nd-Kristallen aus der Schmelze möglich ist. Diese Tatsache ist wirtschaftlich besonders wichtig, da eine schnellere Wachstunisgeschwindigkeit oder Züchtungsgeschwindigkeit zu einer effizienteren Verwen-
dung der Züchtungsapparatur und ihrer Zusatzeinrichtungen führt Außerdem können Kristalle von substituiertem Berylliumlanthanat nach der Erfindung bei einer geringeren Temperatur gezüchtet werden, was zu einer Senkung der Stromkosten und zu geringeren Schmelztiegelverlusten führt Schließlich entfällt der unerwünschte Materialkern oder ist zumindest relativ sehr klein beim Wachstum von Einkristallen nach der Erfindung, so daß man eine wesentliche Abnahme an Abfallmaterial bekommt
Durch die Zeichnung wird die Erfindung weiter erSäutert In dieser bedeutet
F i g. 1 einen Aufriß, teilweise geschnitten, der Apparatur zur Durchführung des bevorzugten Schmelzzüchtungsverfahrens zur Herstellung der neuen substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung,
F i g. 2 eine schematische Darstellung einer typischen Laserapparatur unter Verwendung der Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung als Las^rgrundmaterial im Aufriß,
F i g. 3 eine Darstellung eines aus einem substituierten Berytliumlanthanat-Einkristall nach der Erfindung hergestellten Stabes, der als Lasergrundmaterial brauchbar ist, und
Fig.4 ein optisches Absorptionsspektrum eines speziellen Nd+3-substituierten Berylliumlanthanatkristalles nach der Erfindung, d. h. Be2LaI5SzNd01OnO5.
χ ist vorzugsweise 0,001 bis 0,2 und am meisten bevorzugt 0,007 bis 0,015. Beispiele substituierter Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung sind etwa folgende:
Tabelle I Atom-%
Kristallformel Zusatzstoff
(a/o)
0,1
Be2Lai,998Pro,oo205 0,3
Be2LaI-994Nd0-OOiO5 0,9
Be2Lai,982SmCOuOs 1,5
Be2La1-97EUo1O3O5 2,5
Be2LaI95Gd01OsO5 5,5
Be2La189Tb01nO5 10,5
Be2Lali7?Dy021O5 15,5
Be2LaI-69HOo13]O5 10,0
Be2La,i8Eroi205 20,0
Be2La16Tm0^O5 0,2
BejLali996Yb0ioo405 0,8
Be2Laii984Ndo,oi605 8,7
Be2La11826EUo1174O5
Der Ausdruck »Einkristalle« von substituiertem Berylliumlanthanat bedeutet hier Kristalle mit einer linearen Mindestquerschnittsabmessung von 0,25 mm und einer linearen Mindestlängsabmessung von 5 mm. Gewerblich als Lasergrundmaterialien verwendete Kristalle haben normalerweise Abmessungen von wenigstens 2,5 χ 25 mm. Wenn die substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung als Lasergrundmaterialien verwendet werden, ist es bevorzugt, daß sie eine hohe optische Qualität besitzen, d. h. fast vollständig frei von Fehlern, wie Blasen, Spannungen, Einschlüssen von Metall- oder Nichimetalloxiden, einer zweiten Phase und Korngrenzen mit kleinem Winke! sein sollten und daß sie allgemein nicht mehr als 10 Gewichts-ppm Verunreinigungen und am meisten bevorzugt nicht mehr als 5 ppm Verunreinigungen enthalten. Sie sollten in solchem Umfang fehler- und verunreinigungsfrei sein, daß durch solche Fehler und Verunreinigungen verursachte optische Verluste nicht größer als 0,005/cm und vorzugsweise nicht größer als 0,003/cm sind.
Verunreinigungen, die erwünschtermaßen vermieden werden, sind beispielsweise Metallionen, wie solche von Strontium und Quecksilber, die Ionenradien ähnlich denen von Lanthanionen besitzen, die aber Wertigkeiten besitzen, die vom Valenzzustand +3 der Lanthanionen abweichen. Dies ist wichtig, da solche Verunreinigungen Farbzentren verursachen können, die die Laserwirkung stören, indem sie Pumpenergie als Wärme verzehren oder indem sie Energie mit Nichtlaserwellenlängen ausstrahlen.
Obwohl verschiedene Methoden angewendet werden, um die substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung zu erhalten, ist die Czochralski-Schmelzwachstumsmethode bevorzugt. Viele der nachfolgend angegebenen Verfahrensparameter, wie die Ausgangsmaterialreinheit und die enge Temperatureinstellung, sind jedoch auch bei anderen Methoden wichtig.
Bei dem Wachstum oder der Züchtung eines Einkristalls aus substituiertem Berylliumlanthanat nach der Erfindung werden die Ausgangsmaterialien, d. h. La2O3, BeO und Zusatzstoff Z, in einen geeigneten hitzebeständigen Behälter oder Tiegel gegeben und erhitzt, bis das Gemisch geschmolzen ist. Der Zusatzstoff Z kann als Verbindung Z2O3, Z2(CO3J3 und Z(NO3)3 oder Gemischen hiervon zugesetzt werden. Um substituierte Berylliumlanthanat-Einkristalle hoher Qualität zu bekommen, ist es natürlich erforderlich, Ausgangsmaterialien hoher Reinheit zu verwenden. Dabei sollten die Ausgangsmaterialien nicht mehr als die folgenden Maximalkonzentrationen an Verunreinigungen enthalten, angegeben in Gewichtsteilen, bezogen auf das Ausgangsmaterial: La2O3 50 ppm Verunreinigungen und vorzugsweise 10 ppm; BeO 100 ppm Verunreinigungen und vorzugsweise 10 ppm; Zusatzstoff 20 ppm Verunreinigungen und vorzugsweise 10 ppm.
Es ist beim Wachstum aus der Schmelze bei vielen Einkristallen bekannt, daß in der Schmelze ein Überschuß des ausgewählten Zusatzstoffes gegenüber der in dem Kristall erwünschten Substitution verwendet werden muß, um einen Kristall der erwünschten Zusatzstoffkonzentration zu bekommen. Der erwünschte Überschuß an Zusatzstoff variiert je nach dem Zusatzstoff. Da beispielsweise der Verteilungskoeffizient für das Wachstum von Be2La2-^Z2A, worin Z Nd ist, aus der Schmelze etwa 0,66 ist, muß etwa das l,52fache der erwünschten Konzentration in dem Kristall in der Schmelze verwendet werden. Da somit die Schmelze während der Züchtung eines Kristalles daraus mit Zusatzstoff angereichert wird, variiert der gewachsene Kristall hinsichtlich des Atomprozentsatzes der Substitution entlang seiner Länge. So soll für einen bestimmten Einkristall aus substituiertem Berylliumlanthanat nach der Erfindung der darin enthaltene Atomprozentsatz an Zusatzstoff den mittleren Zusatzstoffgehalt des Kristalles definieren.
Der Schmelztieeel kann aus Wolfram oder Iridium
bestehen. Es ist bevorzugt, daß eine inerte Atmosphäre um den Schmelztiegel aufrechterhalten wird, um die Wahrscheinlichkeit einer Oxidation von Schmelztiegelmaterialien und das als Folge hiervon auftretende Eindringen metallischer Einschlüsse in die Schmelze auf ein Minimum herabzusetzen. Denn derartige Einschlüsse in der Schmelze wirken als optische Streuzentren in dem Einkristall, so daß seine Brauchbarkeit als Lasergrundmaterial vermindert wird. Eine solche inerte Atmosphäre kann aus einem Inertgas, wie beispielsweise Argon, Helium, Neon. Krypton oder Stickstoff, bestehen.
Wenn in dem Ausgangsmaterialgemisch als Zusatzstoff Z2(CC>3)3 und Z(NO3)3 verwendet werden, führt die Zuführung von ausreichend Wärme, um das Gemisch zu schmelzen, zu einer Zersetzung des Carbonats und/oder Nitrates zu dem entsprechenden Oxid des Zusatzstoffes (Z2O3), was mit der Entwicklung von Kohlendioxid und/oder Stickstoffoxiden verbunden ist. Obwohl die Anwesenheit von Kohlendioxid und/oder Stickstoffoxidgasen oberhalb der Oberfläche der Schmelze nicht das Wachstum der substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle hoher Qualität verhindert, ist in jedem Fall die Zersetzung des Carbonates oder Nitrates des Zusatzstoffes auch bereits im wesentlichen beendet, bevor das Kristallwachstum beginnt, und zwar wegen der Länge der Zeit, die erforderlich ist, um aus den festen Ausgangsmaterialien eine Schmelze zu bekommen. So erhält man eine praktisch vollständige Abgabe solcher Gase aus der Schmelze, so daß die Zahl der Blasen, die sich in dem wachsenden Kristall bei Beginn des Kristallwachstums bilden kann, auf ein Minimum herabgesetzt wird.
Die Temperatur, auf die die festen Ausgangsmaterialien erhitzt werden, um eine Schmelze zu bilden, liegt im allgemeinen zwischen 1370 und 14500C. Ein Erhitzen des Ausgangsmaterials auf die erwünschte Schmelztemperatur erfolgt vorzugsweise durch eine elektrische Induktionsheizung. Andere Heizmethoden können jedoch ebenfalls angewendet werden, wenn sie Steuerbar sind und nicht die Wachstumsumgebung des Kristalles verunreinigen. Bei der Jnduktionsheizmethode wird der Schmelztiegel als Suszeptor in einem elektrischen Wechselfeld verwendet. In dem als Suszeptor fungierenden Schmelztiegel werden Ströme induziert und erhitzen so den Schmelztiegel auf eine hohe Temperatur, wobei das enthaltene Ausgangsmaterial durch Leitung und Strahlung erhitzt wird. Induktionsheizung kann bei Atmosphärendruck oder bei Drücken oberhalb oder unterhalb Atmosphärendruck angewendet werden. Stattdessen kann der Schmelztiegel auch durch direkte Einwirkung eines elektrischen Potentials erhitzt werden, wobei bewirkt wird, daß Widerstandsströme durch den Schmelztiegel gehen. Der Schmelztiegel kann auch durch Bestrahlung von Widerstandsheizelementen oder Widerstandsdrähten aus Edelmetallen oder hitzebeständigen Metallen erhitzt werden. Es ist von äußerster Wichtigkeit bei allen diesen Heizmethoden, die Kristallwachstumsumgebung gegen Verunreinigung zu schützen, und es sollten Einrichtungen vorgesehen sein, die erlauben, daß die inerte Atmosphäre oberhalb der Schmelze eingeführt wird und dort aufrechterhalten wird. Wenn einmal das Ausgangsmateria! geschmolzen ist, neigen Konvektionsströme in der Schmelze dazu, die Schmelze zu rühren und die Schmelzzusammensetzung zu homogenisieren.
Ein Einkristallkeirnling mit der erwünschten Zusammensetzung und erwünschten Kristallorientierung wird dann in Berührung mit der Oberfläche der Schmelze gebracht. Obwohl geeignete Keime Berylliumlanthanat und Platin- oder Iridiumdraht sein können, hat der Keimling vorzugsweise die gleiche Zusammensetzung wie der erwünschte Einkristall. Ein kleiner Anteil des Keimes schmilzt, und man bekommt ein Temperaturgefälle zwischen dem festen Teil des Keimes und der Schmelze. Der Keim wird dann langsam gedreht und aus der Schmelze herausgezogen, während sich die Schmelze an der Grenzfläche zu dem festen Kristall verfestigt. Das Temperaturgefälle in der festen Phase unmittelbar in Nachbarschaft zu dieser Grenzfläche wird auf einem Wert gehalten, der die erwünschten, zu erhaltenden Wachstumsbedingungen ermöglicht. Wenn der Keim herausgezogen wird, wächst ein länglicher Einkristall.
Das Wachstum der substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung nach der Czochralski-Methode kann in irgendeiner der für das Schmelzwachstum von Kristallen unter Verwendung dieser Methode benutzten Standardapparaturen erfolgen. Typischerweise ist eine solche Apparatur die mit Wasser gekühlte Induktionsheizungsapparatur,die in Fig. 1 erläutert ist. Geschmolzenes Ausgangsmaterial 2, das beispielsweise aus BeO, La2Oj und Nd2O3 besteht, wird in den Schmelztiegel 1 eingeführt, der beispielsweise aus Iridium besteht und der auf einer Isolationsplatte 3 ruht, welche von isolierten Trägerteilen 5 abgestützt ist. Der Schmelztiegel 1 ist von einer isolierenden Hülle 4 umgeben, die sich vorzugsweise bis über den Rand des Schmelztiegels 1 erstreckt, so daß der vertikale Wärmeabfall und damit der Wärmeverlust aus der Schmelze 2 vermindert wird. Die Isolierplatte 3, die isolierende Hülse 4 und die isolierten Trägerteile 5 können alle aus einem hitzebeständigen Isoliermaterial, wie beispielsweise Zirkonoxid, hergestellt sein.
Der Schmelztiegel 1 ist zusammen mit den Isolierelementen 3, 4 und 5 von einem Zylinder 6 umgeben, der beispielsweise eine Quarzglasröhre sein kann, die Endplatten 7 und 16 besitzt und so den Hohlraum 18 begrenzt. Die Endplatten 7 und 16 sind mit Sichtöffnungen für optische Pyrometer 10 bzw. 11 versehen, um eine Beobachtung der Schmelze 2 während des Betriebes zu ermöglichen. Die Beobachtung der Schmelze 2 unter Verwendung der öffnung 10 wird dadurch möglich, daß in der Isolierplatte 3 eine öffnung 19 vorgesehen ist. Die Endplatten 7 und 16 sind auch mit Gasrohren 8 bzw. 9 versehen, um Gas in den Hohlraum 18 zu führen und zu verhindern, daß Feststoffe sich in den Öffnungen 10 und 11 ablagern und dadurch die Beobachtung durch diese öffnungen stören.
Beim Arbeiten wird die erwünschte Temperatur der Schmelze 2 durch wassergekühlte Wicklungen 15 aufrechterhalten. Der Keimstab 12, an dem der Keimkristall 13 befestigt ist, wird durch die Öffnung 17 in der Endplatte 16 gesenkt, bis der Keim 13 die Oberfläche der Schmelze 2 berührt. Das anschließende Wachstum des mit Neodym substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalles 14 wird durch gleichzeitiges langsames Drehen und Herausziehen des Keimstabes 12 und des Keimkristalles 13 bewirkt, wobei ein wachsender Kristall 14 gebildet wird. Der Keimstab 14 besteht vorzugsweise aus einem Hitzeschocks widerstehenden hitzebeständigen Material, wie Al2O3 oder BeO. Der Keimstab 12 wird mit Hilfe eines herkömmlichen Führungsschneckenziehmechanismus gedreht und vertikal bewegt. Inertgas, wie Stickstoff, wird in den
Hohlraum 18 entweder durch das Gasrohr 8 oder 9 eingeführt, wobei das andere Gasrohr als Ausgang dient, um gegebenenfalls eine kontinuierliche Durchströmung mit frischem Inertgas zu gestatten.
Um Kristalle mit hoher Qualität zu erhalten, ist es bevorzugt, daß die Schmelztemperatur während des Wachstums des Kristalles innerhalb von ±0,5°C der festgesetzten Temperatur genau eingestellt wird, um die Bildung von Inhomogenitäten in dem gewachsenen Kristall, wie Blasen und Oberflächensprünge infolge von ι ο Spannungskonzentrationen, welche beim Kühlen später zu Kristallbrüchen führen können, zu vermeiden. Diese Temperatureinstellung kann mit Hilfe bekannter Einrichtungen erfolgen, wie durch Einstellung des Generatorleistungsausgangs mit einer Präzisionssteuereinrichtung für drei Betriebstemperaturen, deren Eingang die Schmelz- oder Schmelztiegeltemperatur, gemessen mit einem optischen Siliciumpyrometer, ist.
Nachdem man eine vollständig geschmolzene Charge erhalten hat, wird die Temperatur auf die erwünschte Anfangswachstumstemperatur eingestellt, die natürlich je nach dem speziell verwendeten Zusatzstoff variiert, aber allgemein zwischen 1370 und 14500C liegt. Beispielsweise beträgt die Anfangszüchtungs- oder Wachstumstemperatur für die Züchtung von mit Neodym substituierten Berylliumlanthanat-Einkristallen 14000C. Der Keim wird dann langsam bis zur Berührung mit der Schmelzoberfläche abgesenkt. Sodann beginnt man mit dem Ziehen des Kristalles, und während der Anfangswachstumsperiode wird die Temperatur der Schmelze langsam von der Anfangswachstumstemperatur um etwa 200C vermindert. Nachdem der erwünschte Kristalldurchmesser erreicht ist, wird die Schmelztemperatur an der Kristall-Schmelzen-Grenzfläche für den Rest des Wachstums praktisch konstant gehalten. Die maximale Ziehgeschwindigkeit kann aufgrund des Beginns der Bildung von Fehlern, wie Blasen, Hohlräumen oder Einschlüssen in dem Kristall, bestimmt werden. Wenn beispielsweise Einkristalle von mit Neodym substituiertem Berylliumlanthanat hoher optischer Qualität erwünscht sind, muß die Ziehgeschwindigkeit allgemein kleiner als 13 mm je Stunde sein. Die Rotationsgeschwindigkeit des Keimstabes und wachsenden Kristalles kann allgemein zwischen 10 und 60 U/Min, und vorzugsweise zwischen 20 und 50 U/Min. liegen. Die Rotationsgeschwindigkeit für das Wachstum eines Kristalles eines bestimmten Durchmessers und Zusatzstoffgehaltes wird allgemein so ausgewählt daß eine ebene Grenzfläche zwischen Kristall und Schmelze gebildet wird. Diese ausgewählte Rotationsgeschwin- so digkeit steigt mit abnehmendem Kristalldurchmesser und abnehmendem Zusatzstoffgehalt Beispielsweise fand man, daß eine Kristallrotationsgeschwindigkeit von 40 U/Min, eine nahezu ebene Grenzfläche auf Kristallen mit 20 mm Durchmesser und einem Gehalt von 0,7 a/o Nd+3 als Ersatz für La+3-Stellen produziert
Obwohl die genaue Form der Komponenten eines Lasers stark variiert ist ein typischer Laser, in dem die substituierten Berylliumlanthanat-Einkristalle nach der Erfindung als Lasergrundmaterial verwendet werden können, in F i g. 2 erläutert
Bei dem in Fig.2 erläuterten optisch-gepumpten Laser sind ein Lasergrundmaterial 21, das aus einem substituierten Berylliumlanthanat-Einkrjstall nach der Erfindung besteht und eine Pumpquelle 22, wie beispielsweise eine Xenongasentladungspumpquelle, in einem Behälter 20 untergebracht der eine hochreflektierende Innenfläche 23 besitzt und ejnen elliptischen
40
55
60 Hohlraum begrenzt, wobei beide jeweils an einem Brennpunkt der von dem Behälter 20 gebildeten Ellipse liegen. Das Lasergrundmaterial 21 hat Enden 24 und 25, die einen herkömmlichen dielektrischen Antireflexionsüberzug haben.
Ein vollständig reflektierender Spiegel 27 und ein teilweise reflektierender Spiegel 28 sind außerhalb des Behälters 22 um die Zylinderachse 29 des Stabes 21 herum angebracht. Die Laseraktion tritt durch Emission, die als Pfeil 26 gezeigt ist, in Erscheinung, welche von dem teilweise reflektierenden Spiegel 28 ausgeht. Stattdessen können die Enden 24 und 25 auch mit einem herkömmlichen Reflexionsüberzug versehen sein, um ein teilweise reflektierendes Ende 25 und ein vollständig reflektierendes Ende 24 zu liefern.
F i g. 3 erläutert einen Stab 30 aus einem Einkristall aus substituiertem Berylliumlanthanat nach der Erfindung mit ebenen, parallelen isolierten Enden. Die Vorrichtung der F i g. 3 wirkt in der Weise, daß sie in dem Stab kohärente Strahlung 31 verstärkt, die aus dem anderen Ende des Stabes als emittierte Strahlung 32 austritt.
Die optisch gepumpten Laser, die die Einkristalle aus substituiertem Berylliumlanthanat nach der Erfindung als Lasergrundmaterialien benutzen, können irgendeine geeignete optische Pumpquelle verwenden, und zwar entweder in gepulster oder kontinuierlicher Weise. Beispiele geeigneter optischer Pumpquellen sind Gasentladungspumpquellen, wie Gasentladungspumpquellen unter Verwendung von Xenon und/oder Krypton, kohärente und inkohärente Halbleiter-Diodenemitter, wie Galliumarsenid und Galliumphosphid, und Metalldampfquellen, wie Caesium, Rubidium und/oder Kalium.
Fig.4 ist ein optisches Absorptionsspektrum bei Raumtemperatur (300° K) für einen b-Achseneinkristall von
mit einer Dicke von 3 mm. Die Messungen für F i g. 4 wurden auf einem Doppelstrahlspektrophotometer mit einer Ausgangsaufzeichnung in Einheiten der optischen Dichte durchgeführt. Der für diese Messung verwendete Kristall enthielt 0,7 a/o Zusatzstoff Z.
Es sollte festgestellt werden, daß kontinuierliche Lasertätigkeit mit einem Berylliumlanthanat-Einkristall nach der Erfindung mit einem Gehalt von 0,7 a/o Zusatzstoff für einen b-Achsenstab mit einer Ausgangswellenlänge von 1070 Nanometern beobachtet wurde.
Obwohl auf die Verwendung von Kristallen mit einer b-Achsenorientierung Bezug genommen wurde, brauchen die Kristalle nach der Erfindung, die als Lasergrundmaterialien verwendet werden, nicht hierauf beschränkt zu sein und können auch mit anderen Orientierungen verwendet werden.
In den folgenden Beispielen sind alle Teile Gewichtsteile, wenn nichts anderes ausdrücklich angegeben ist
Beispiel 1
Ein Ausgangsmaterial, das aus 50,02 Teilen BeO zusammen mit 322,5 Teilen La2O3 und 3,36 Teilen NdzO3 bestand, wurde in einen Iridiumschmelztiegel gegeben, der dann jn eine eingeschlossene, mit Wasser gekühlte Induktionsheizapparatur gegeben wurde, wie sie in F i g. 1 erläutert ist Das Ausgangsmaterial wurde auf 14OQ0C erhitzt um eine Schmelze zu bilden, über deren Oberfläche eine Stickstoffatmosphäre verwendet wurde. Ein aus AI2O3 bestehender Keimstab mit einem b-Achsenkristall aus Berylliumlanthant wurde in Berüh
rung mit der Oberfläche der Schmelze gebracht, langsam rotiert und gleichzeitig herausgezogen. Eine Ziehgeschwindigkeit von 2,5 mm/Std. und eine Rotationsgeschwindigkeit von 40 U/Min, wurde während 50 Stunden beibehalten. Am Ende dieser Zeit erhielt man einen mit Neodym substituierten Berylliumlanthanat-Einkristall mit der mittleren Zusammensetzung
und mit einer linearen Abmessung von 14,6 cm und einer Querschnittsabmessung von 2 cm. Die Analyse des resultierenden Einkristalles zeigte, daß er im wesentlichen frei von metallischen Einschlüssen und anderen optischen Fehlern war, was sich daraus ergab, daß sich visuell keine Streuungen, Blasen und Risse feststellen ließen.
Ein Stab mit den Abmessungen von 5 χ 50 mm wurde aus diesem Einkristall von
hergestellt. Dieser Stab wurde in einen optisch gepumpten Laser, wie er durch F i g. 2 erläutert ist, mit einer hochreflektierenden Innenfläche und einer gepulsten Xenonblitzlampe von etwa 5 χ 50 mm Durchmesser zusammen mit hochreflektierenden äußeren ebenen Spiegeln, die mit der Zylinderachse des Stabes fluchteten und einen Zwischenraum zwischen den Spiegeln von 30 cm einschlossen, eingesetzt. Die Lampe wurde mit etwa 10 Joul Eingang je Blitz betätigt, wobei unmittelbar Lasertätigkeit beobachtet wurde. Ein zu 90% reflektierender Ausgangsspiegel wurde dann am Ausgangsende angebracht, und eine Reihe von Ausgangsmessungen erfolgte mit verschiedenen Eingangsenergiewerten. Ein Schwellenwert von 12 Joul wurde aufgezeichnet, und ein Wirkungsgrad linearer Steigung von 0,3% wurde beobachtet. Der höchste Ausgang ■ unter gepulstem Arbeiten mit Xenon lag bei 431 Millijoul für einen Eingang von 200 Joul. Ein Verlustwert für einen einzelnen Durchgang von etwa 0,005/cm wurde beobachtet.
Beispiel 2
Ein b-Achsen-Einkristall von Be2Lai.985Ndo.oi505 wurde aus einer Schmelze mit einem Gehalt von 50,02 Teilen BeO, 322,5 Teilen La2O3 und 3,36 Teilen Nd2O3 nach dem Verfahren des Beispiels 1 gezüchtet. Die Analyse des resultierenden Einkristalles zeigte, daß er im wesentlichen frei von Metalleinschlüssen und anderen optischen Fehlern war, da visuell keine Streuungen, Blasen und Sprünge sichtbar waren.
Ein Stab mit Abmessungen von 5 χ 50 mm wurde aus diesem Einkristall von
gepulste Xenonblitzlampe wurde mit etwa 10 Joul Eingang je Blitz betätigt, wobei unmittelbar Laserwirkung beobachtet wurde. Ein 66% reflektierender Ausgangsspiegel wurde dann am Ausgangsende vorgesehen, und eine Reihe von Ausgangsmessungen wurde mit verschiedenen Eingangsenergiewerten durchgeführt. Ein Schwellenwert von 9,5 Joul wurde aufgezeichnet, und ein Wirkungsgrad linearer Steigung von 0,36% wurde beobachtet. Der höchste Ausgang unter gepulstern Arbeiten mit Xenon lag bei 260 Millijoui für einen Eingang von 90 Joul. Es wurde beobachtet, daß die Ausgangsstrahlung linear polarisiert war.
Beispiel 3
Der b-Achsenstab aus Be2Lai.985Ndo.oi505, der in Beispie! 2 verwendet wurde, wurde in eine doppelelliptische Reflexionspumpkammer unter Verwendung eines Paares von Wolframfadenlampen eingesetzt. Der Stab wurde in der Kammer gepumpt, wobei mit 3 Kilowatt Eingang gearbeitet wurde, und 6,2 Watt gebildete Leistung wurden zur Verwendung eines Ausgangsspiegels mit nominal 1,1% Durchgang aufgezeichnet. Extrapolieren aus den Schwellenwertmessungen ergab einen Verlustwert von 0,0025/cm.
"J Beispiele 4bis 16
In den Beispielen 4 bis 16 v/urde jeweils das Wachstumsverfahren des Beispiels 1 befolgt, jedoch mit der Ausnahme, daß die in Tabelle II nachfolgend angegebenen Gewichtsteile von La2O3 und die in der gleichen Tabelle angegebenen Zusatzstoffe Z anstelle der in Beispiel 1 verwendeten Gewichtsteile von La2O3 und anstelle von Nd2O3 verwendet wurden.
J5 Tabelle!!
Beispiel Gewichtsteile Zusatzstoff Z, Zusatzstoff Z, Nr. La2O3 Verbindung Gewichtsteile
hergestellt. Dieser Stab wurde in den in Beispiel 1 verwendeten optisch gepumpten Laser eingesetzt, die
4 325,5 Sm2O3 0,349
5 325,1 Eu2O3 0,704
6 324,8 Er2O3 1,15
7 323,2 Pr2O3 2,64
8 320,9 Tb2O3 5,49
9 317,7 Dy2O3 9,32
10 307,9 Ho2O3 20,78
11 305,0 Gd2O3 23,20
12 297,5 Nd2O3 29,27
13 293,2 Vd2O3 39,41
14 291,6 Eu2O3 36,95
15 275,3 Tm2O3 59,81
16 260,6 Nd2O3 67,29
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (5)

Patentansprüche:
1. Substituierter Berylliumianthanat-Einkristall, gekennzeichnet durch die allgemeine For- s mel Be2La2-2Ä/)5, wobei Z Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb oder mehrere hiervon und χ einen Wert nicht größer als 0,2 bedeuten.
2. Einkristall nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Z Nd, Eu, Dy und/oder Ho ist
3. Einkristall nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß χ 0,001 bis 0,2 ist.
4. Einkristall nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß Z Eu und Nd ist
5. Verwendung des Einkristalles nach Anspruch 1 bis 4 als Lasergrundmaterial.
DE2456180A 1973-12-06 1974-11-28 Substituierter Berylliumlanthanat-Einkristall und dessen Verwendung Expired DE2456180C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US422450A US3866142A (en) 1973-12-06 1973-12-06 Doped beryllium lanthanate crystals

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2456180A1 DE2456180A1 (de) 1975-06-12
DE2456180C2 true DE2456180C2 (de) 1983-11-24

Family

ID=23674941

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2456180A Expired DE2456180C2 (de) 1973-12-06 1974-11-28 Substituierter Berylliumlanthanat-Einkristall und dessen Verwendung

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3866142A (de)
JP (1) JPS595559B2 (de)
CA (1) CA1039156A (de)
CH (1) CH613876A5 (de)
DE (1) DE2456180C2 (de)
FR (1) FR2253713B1 (de)
GB (1) GB1441698A (de)
IT (1) IT1024994B (de)
NL (1) NL183481C (de)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE31057E (en) * 1974-11-29 1982-10-12 Allied Chemical Corporation Chromium-doped beryllium aluminate lasers
US3997853A (en) * 1974-11-29 1976-12-14 Allied Chemical Corporation Chromium-doped beryllium aluminate lasers
US4713820A (en) * 1985-08-02 1987-12-15 Allied Corporation Thermal lensing-compensated lanthanum beryllate laser
JPS6321658U (de) * 1986-07-28 1988-02-13
US4809283A (en) * 1988-02-26 1989-02-28 Allied-Signal Inc. Method of manufacturing chromium-doped beryllium aluminate laser rod and lasers incorporating the rods therein
US4974230A (en) * 1988-08-23 1990-11-27 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Tm,Ho:YLF laser end-pumped by a semiconductor diode laser array
US5299210A (en) * 1992-04-28 1994-03-29 Rutgers University Four-level multiply doped rare earth laser system
US5483062A (en) * 1994-01-21 1996-01-09 Merrill Corporation Photon detector based upon an activated lanthanide beryllate scintillator
GB2290150B (en) * 1994-04-22 1998-08-26 Univ Southampton Doped optical waveguide amplifier
FR2732352B1 (fr) * 1995-03-28 1997-06-13 Rhone Poulenc Chimie Utilisation comme pigment colorant de composes a base de terbium
US6491752B1 (en) * 1999-07-16 2002-12-10 Sumco Oregon Corporation Enhanced n-type silicon material for epitaxial wafer substrate and method of making same
JP4605729B2 (ja) * 2001-01-19 2011-01-05 信越石英株式会社 透光性セラミックス体及びその製造方法
JP4587350B2 (ja) * 2001-01-19 2010-11-24 信越石英株式会社 透光性セラミックス体の製造方法
JP6303146B2 (ja) * 2014-02-19 2018-04-04 株式会社オキサイド 単結晶、放射線検出器及び放射線検出器の使用方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USB275677I5 (de) * 1963-04-25

Also Published As

Publication number Publication date
NL7415836A (nl) 1975-06-10
US3866142A (en) 1975-02-11
DE2456180A1 (de) 1975-06-12
NL183481C (nl) 1988-11-01
CA1039156A (en) 1978-09-26
NL183481B (nl) 1988-06-01
FR2253713B1 (de) 1981-05-22
FR2253713A1 (de) 1975-07-04
IT1024994B (it) 1978-07-20
GB1441698A (en) 1976-07-07
CH613876A5 (de) 1979-10-31
JPS595559B2 (ja) 1984-02-06
JPS5090598A (de) 1975-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2456180C2 (de) Substituierter Berylliumlanthanat-Einkristall und dessen Verwendung
DE69105710T2 (de) Verfahren zur Züchtung von mit seltenen Erden dotierten Orthosilikaten (Ln2-xRExSiO5).
DE69428962T2 (de) Thermische Umwandlung von polykristallinem Aluminiumoxid in festem Zustand zu Saphir unter Verwendung eines Kristallkeimes
DE2551894A1 (de) Laser
DE10010484A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung von großvolumigen orientierten Einkristallen
DE4444844A1 (de) Glaskeramik-Materialien insbesondere für Laser und optische Verstärker, die mit Elementen der Seltenen Erden dotiert sind, und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69107777T2 (de) Laser mit gemischten Yttrium- und Lanthanidsilicateneinkristallen.
US4315832A (en) Process for increasing laser crystal fluorescence yield by controlled atmosphere processing
DE1134761B (de) Leuchtstoff fuer induzierte Floureszenz als kohaerente Lichtquelle bzw. Lichtverstaerker, in Form eines Einkristalls als Medium íÀnegativerí Temperatu
DE19963941A1 (de) Borat-Kristall, Wachstumsverfahren für Borat-Kristalle und Laservorrichtung, die derartige Kristalle benutzt
Tissue et al. Laser-heated pedestal growth of laser and IR-upconverting materials
DE2122192A1 (de) Behandlungsverfahren für Verbindungshalbleiter
Sharp et al. High‐efficiency Nd3+: LiYF4 laser
DE2038932B2 (de) Verfahren zur herstellung einer luminiszierenden fluorverbindung
DE68918821T2 (de) Verfahren zur Fluoreszenzverbesserung von Titandotierten Oxid-Kristallen für abstimmbaren Laser.
DE69736742T2 (de) RAUMTEMPERATURSTABILER FARBZENTRUMLASER,LiF:F2+** MATERIAL UND LASERVERFAHREN
WO2022028800A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum züchten eines seltenerd-sesquioxid-kristalls
DE102011118229B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Flourit-Kristalls
Foulon et al. Nonlinear laser crystal as a blue converter: laser heated pedestal growth, spectroscopic properties and second harmonic generation of pure and-doped single crystal fibres
US3983051A (en) Doped beryllium lanthanate crystals
DE69201849T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Barium-Titanat Einkristallen.
EP0067521A2 (de) Verfahren zur Optimalisierung des Wirkungsgrades eines Laserkristalls durch das Einführen von bestimmten Gitterplätzen für die Dotierung
DE69009617T2 (de) Chrysoberyll-Festkörperlaser.
DE2400911C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Neodym-Ultraphosphaten
DE2046070A1 (de) Laserwerkstoff

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8126 Change of the secondary classification

Ipc: H01S 3/16

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: ALLIED CORP., MORRIS TOWNSHIP, N.J., US

8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: WEBER, D., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. SEIFFERT, K., D

8181 Inventor (new situation)

Free format text: CLINE, CARL FRANKLIN, MENDHAM, N.J., US MORRIS, ROBERT CRAIG, FLANDERS, N.J., US

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition