DE1669238C3 - Lichtempfindlicher Lack - Google Patents
Lichtempfindlicher LackInfo
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- 239000002966 varnish Substances 0.000 title claims description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 9
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- -1 methylammonium chromate Chemical compound 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Description
Die Erfindung betrifft einen lichtempfindlichen Lack, der ein wasserunlösliches Polyvinylbutyralharz und ein
Trialkylaminoniumbichromat enthält Derartige Lacke
werden bei photomechanischen Verfahren verwendet
Aus der DTPS 9 72 998 ist ein Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Polyvinylbutyrallacks
bekannt bei welchem ein in Wasser unlösliches Polyvinylbutyralharz verwendet wird, das als lichtempfindliche
Verbindung ein Bkhromat enthält Aus der
DT-PS 6 01 658 ist es bekannt als lichtempfindliche Chromate in Kolliodschichten Methylammoniumchromate
zu verwenden.
In der deutschen Patentanmeldung P 15 72 219.7-51 ist bereits vorgeschlagen worden, durch Bestrahlen
härtbare Lacke des eingangs definierten Typs unter Verwendung eines wasserunlöslichen oder nahezu
unlöslichen, jedoch in Lösungsmitteln, in denen das Polyvinylbutyralharz löslich ist, gut löslichen organischen
Bichromats herzustellen. Die Verwendung organische Bichromate hat den Vorteil, daß die Dunkelreaktion
in Lackschichten auf einem metallischen Untergrund träger verläuft als bei Lacken, die
anorganische Bichromate enthalten. Es stellt:: sich ferner heraus, daß die physikalischen und photomechanischen
Eigenschaften der erhaltenen Lackschichten von den KHmaverhältnissen beim Trocknen weniger
beeinflußt werden. Als Beispiele für organische Bichromate sind in der älteren Patentanmeldung
Dimethyldilaurylammoniumbichromat und Trimethyllaurylammoniumbichromat
genannt
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Lichtempfindlichkeit von Lacken auf Basis wasserunlöslicher
Polyvinylbutyralharze zu erhöhen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen Lack der eingangs erwähnten Art gelöst der dadurch
gekennzeichnet ist daß er als Trialkylammoniumbichromat Dimethyllaurylbenzylammoniumbichromat enthält
Es stellte sich heraus, daß diese Verbindung eine größere Löslichkeit im organischen Lösungsmittel oder
im Gemisch der Lösungsmittel, mit denen die Lacke hergestellt werden, besitzt als die früher vorgeschlage-
S nen Dialkyldimethylbichromate und Monoalkyltrimethylbichromate.
Das bedeutet daß die Chroniatkonzentration im Lack und damit die Lichtempfindlichkeit des
Lacks gewünschtenfalls vergrößert werden kann.
Die Unterschiede in der Löslichkeit gehen z. B. aus
ίο der nachstehenden Tabelle hervor, die sich auf einen
Polyvinylbutyrallack bezieht der ein Gemisch von 62 Volumprozent Methylisobutylketon und 38 Volumprozent
Dimethylformamid als Lösungsmittel enthält in dem die Löslichkeit verschiedener Bichromate bestimmt
wurde.
Bichromat
Löslichkeit bei 200C
in g/100 ml Lack
Trimethyllaurylammonium- 3
Dimethyldilauryl- 5
Dimethyldilauryl- 5
ammonium-
Dimethyllaurylbenzyl- mindestens 20
ammonium-
Die Herstellung und Verwendung eines erfindungsgemäßen Lackes wird nun an Hand eines Ausführungsbeispieles
näher erläutert
Einer Lösung von 13 g Polyvinylbutyral (Vinylalkoholgehalt etwa 20 Gewichtsprozent Viskosität einer
Standardlösung von 10 Gewichtsprozent Polyvinylbutyral
in 95%igem Äthanol 12OcP bei 25° C) in einem Gemisch von 75 ml Dimethylformamid und 125 ml
Butanon werden 4 g Dimethyllaurylbenitylammoniumbichromat
zugesetzt Nachdem sich das Bichromat völlig gelöst hat, wird eine zuvor gereinigte Kupferplatte
derart in diese Lösung getaucht daß nach Trocknung in Luft von 400C eine gleichmäßig dicke Lackschicht
erhalten wird. Diese Schicht wird 1 Minute durch eine
Schablone mit Hilfe von vier 125 Watt Hochdruckquecksilberdampfentladungslampen
belichtet die in den Eckpunkten eines Quadrates mit Seitenlangen von
15 cm angeordnet und 50 cm von der Lackschicht entfernt sind. Die unbelichteten Teile der Schicht
werden danach mit Methanol weggewaschen. Das übrigbleibende Lackmuster ist als Schutzschicht für
mehrere Ätz- oder galvanische Bearbeitungen verwendbar.
Claims (1)
- Patentanspruch:lichtempfindlicher Lack, der ein wasserunlösliches Polyvinylbutyralharz und ein Trialkylammoniiimbichromat enthält, dadurch gekennzeichnet, daß er als Trialkylammoniumbichromat Dinjethyllaurylbenzylammoniumbichromat enthält
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL6605244 | 1966-04-20 | ||
DEN0030363 | 1967-04-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1669238C3 true DE1669238C3 (de) | 1977-02-10 |
Family
ID=
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