DE1653203A1 - Vorrichtung zur Bildung eines gleichmaessigen Vlieses aus schuettfaehigem Gut auf einer bewegten Unterlage unter Verwendung einer volumetrischen Feindosierungseinrichtung - Google Patents
Vorrichtung zur Bildung eines gleichmaessigen Vlieses aus schuettfaehigem Gut auf einer bewegten Unterlage unter Verwendung einer volumetrischen FeindosierungseinrichtungInfo
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Description
PATfNTAfIWALT
MTWKG.ΠV F ^r?AC- 1653203
MTWKG.ΠV F ^r?AC- 1653203
Fred ffahrni
Züriclx (Schweiz)
Züriclx (Schweiz)
Vorrichtung zur Bildung eines gleichinässigen Vlieaea aus
schüttfähigem Gut auf einer "bewegten Unterlage unter
Verwendung einer volumetrischen ffeindosierungaeinrichtung
. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung
zur Bildung eines gleichmässigen Vlieses aus schüttfähigem Gut auf einer bewegten Unterlage unter Verwendung
einer volumetrischen Ifeindosierungseinrichtung mit einer
mit Mitnehmern "besetzten, umlaufenden Oberfläche, einer
IHihrungswand mit einer dem abwärts laufenden Teil der genannten
Oberfläche gegenüberliegenden Leitfläche und ferner
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~2~ 1SS3203
einem im Bereiche des oberen Teils der leitfläche angeordneten Nivellierelement.
Den bekannten Vorrichtungen dieser Art haftet der schwerwiegende Sfachteil an, daas sich keine genügend
gleichmäsaigen Vliese herstellen lassen. Bildet man beispielsweise
mit einer solchen Vorrichtung ein Vlies aus Holzspänen, Pasern od.dgl» und verpresst das Vlies hernach
in einer normalerweise beheizten Presse, dann zeigt es sich, dass die gepresste Platte hinsichtlich ihrer
Dicke und Dichte nicht die erwünschte G-leichmässigkeit
und Genauigkeit aufweist. Solche Platten bedürfen einer intensiven Nachbearbeitung, wodurch die Wirtschaftlichkeit
des Herstellungsverfahrens leidet.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, aus schüttfähigen Teilchen Vliese bsw. .Formlinge grösster
Gleichmässigkeit und Genauigkeit herzustellen, so dass
die durch Verpressung solcher Vliese erhaltenen Platten möglichst fehlerfrei sind und dementsprechend keiner oder
höchstens einer minimalen Hachbearbeitung bedürfen, und
zwar unabhängig davon, ob es sich um schmale oder breite Vliese handelt»
Der Urheber der vorliegenden Erfindung hat nun erkannt, dass die festgestellten Mangel auf zwei Gründe
zurückzuführen sind. Erstens iat der iüllgrad der Zellen
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BAD ORIGINAL,
zwischen iüitnehmern der umlaufenden Oberfläche (Pörderole^ent)
nicht konstant, da er in hohem Masse von der
κ ;ii£,e der an der Eintritts sei te der FeindosierungseinricLtung
vorhandenen Teilchenmenge abhängt. Bei den frülier vorgeschlagenen Vorrichtungen ist diese Teilchen—
.aen^e zu gross und auch nicht konstant genug, selbst
wenn man durch "besondere Steuermittel die Menge der dem
umlaufenden Förderelement der Peindosierungseinrichtung Ä
augeführten Teilchen regelt, wie stwa mit einem Yorratsfühler,
welcher über elektrische Mittel das Arbeiten
einer vorgeordneten Grobdosierungseinrichtung steuert.
Zweitens liegt die beschriebene Unzulänglichkeit in dem Uastand, dass sich die genannten Zellen der ]?eindosierungs—
einrichtung unregelmässig und stossweise entleeren, sobald
das geförderte Gut von der Leitfläche nicht mehr zurückgehalten wird.
Ausgehend von diesen Erkenntnissen ist nun die ™
Vorrichtung erfindungsgeiaäss derart ausgebildet, dass das
genannte liivellierelement das im Bereiche der Eintrittsseite der Feindosierungseinrichtung vorhandene überschüssige
Gut einer Fördervorrichtung zuführt, die es zur Eingangaaeite einer der leindosierungseinrichtung
funktionell vorgeordneten Grobdosierungseinrichtung zurücktransportiert·
Aueeerdem ist im Bereiche der unteren
Begrenzung der genannten !lauffläche ein bewegtes Abkämmorgan
angeordnet·
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Mit Vorteil ist das mit einer umlaufenden Oberfläche
und Mitnehmern versehene Sörderelement der Feindosierungseinrichtung
als rotierende Fö'rderwalze ausgebildet,
die einerseits mit einer rotierenden Nivellierwalze und andererseits mit einer rotierenden Abkämmwalze
zusammenwirkt. Zwischen Nivellier- und Abkämmwalze liegt dann eine kreisbogenförmig gestaltete Führungswand. Die
Vorrichtung wird dadurch "besonders kompakt, kostensparend und robust.
Die Zeichnung zeigt in schematischer Darstellung ein AußfUhrungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes.
Die G-robdosierungseinrichtung besteht aus einem in Pfeilrichtung umlaufenden, über eine Holle 2 geführten
Transportband 1 und einer in einer gewissen Höhe darüber angeordneten, rückstauenden, mit Stacheln 3 besetzten
Dosierwalze 4· Auf das Transportband wird das schüttfähige G-ut 5 aus einem nicht dargestellten Bunker in an sich bekannter Weise aufgeschüttet. Die Höhe des vor der Dosierwalze
4 liegenden Teilchenhaufens kann beispielsweise durch eine geeignete Regelung der Eunkeraustragsorgane
innerhalb vorgegebener Grenzen konstant gehalten werden.
Mit 6 ist eine Plügelabwurfwalze bezeichnet,
die die Teilchen gegen eine sog. Käfigwalze wirft. Diese besteht aus zwei Sndflanschen 7 und einer Anzahl von
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unter sich, parallelen, mit Abstand voneinander angeordneten
Stäben 8. Dank der Tatsache, dass die Teilchen die rotierende Käfigwalze zweimal durchqueren, ergibt sich
eine gleichmässige Verteilung und Auflockerung derselben.
Die in der beschriebenen Weise vordosierten und
aufgelockerten Teilchen werden nun einer exakten Dosierung unterworfen, und zwar mit Hilfe einer dosierenden 2Pörderwalze
9» einer ITivellierwalze 13 und einer Abkämmwalze
17. Die eigentliche Dosier- oder Förderwalze 9 dreht um eine horizontale Achse. Der Antrieb ist zweckmäSBigerweiee
stufenlos regulierbar, so dass sich die Binstreumenge nach
Belieben während des Betriebes auf das gewünschte Abs einstellen
lasst. Auf der äusseren Oberfläche des Walzenkörpere
9 sitzen-Mitnehmerflügel 10 oder Stacheln. Eine Bleohwand
11 bildet mit der jeweils oben liegenden Y/alzenober«-
flache eine Art Vorratskammer für das ankommende (hit. Auf
seiner unteren Seite ist das Blech derart gebogen, dass
die vorübergehend aufgespeicherten Gutteiloheii nickt
zwischen den Mitnehmerflügeln IO und der Blechwand 11
herausfallen können. Auf der dem abwärts laufenden Oberflächenteil der Walae 9» in einem gewissen Abstand ron den
Mitnehmerflügeln 10, befindet sich eine kreisbogenförmige Wand 12 mit einer inneren Leitfläche für die Teilchen.
!örderwalzG 9 und Leitwand 12 begrenzen somit einen genau definierten Durchschleusweg für die Guttsilohen» Die pro
Zeiteinheit geförderte Teilchenmenge hängt lediglich von
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der Drehzahl der Waise 9 ano, s of err. man dafür sor^t, dass
der SHillungsgrad des genanntsn jjurciischleusv/e^es konstant
bleibt· Zu diesem Zwecke ist die l,rivellierwalze 13 vorhanden.
Sie weist mehrere rechenartige Organe 14 auf, die das Überschüssige Gut auf eine schiefe ^bene 15 werfen» von wo
es auf ein senkrecht zur Längsrichtung des Bandes 1 laufe tides
Förderband 16 rutscht und hernacii suu Haufen 5 zurückgeführt
wird»
Es ist klar, dass der von der G-robdosierung herkommende
T eil c he iist rom etwas stärker sein raus β als die
effektiv eingestreute Teilchenmenge. Im allgemeinen genügt ein Ueberschuss von 10-15%.» uni unvermeidbare
Schwankungen zu überbrücken und eine gleichmässige Beaufschlagung der Dosierungseinrichtung über die ganze
Breite zu gewährleisten. Unter Umständen wird man die Zufuhr des Teilchengutes in Abhängigkeit des Gutüberschussee
automatisch regulieren. Beispielsweise kann eine durch das auf dem Förderband 16 zugeführte Gut beaufschlagte
Bandwaage die Drehzahl der das Förderband antreibenden Umlenkrolle 2 je nach Bedarf erhöhen oder
herabsetzen.
Von Bedeutung ist auch der Winkel **- , den das
untere Ende der Leitfläche der Führungswand 12 mit einer
Horizontalebene bildet. Dieser Winkel ist derart zu wählen, dass das sich in der Nähe des Auslaufteils der Leit-
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fläche befindliche Teilchengut "bei Wahl eines bestimmten
Konstruktionsmaterials für die Führungswand und "bei vorgegebenen Eigenschaften der Teilchen nicht plötzlich abbricht
und ins Rutschen koa.mt und damit die Gleichinässigkeit
des Einstreuvorganges stört. Es hat sich gezeigt, dass bei einer Führungswand 12 aus glattem Metallblech
und bei Verwendung von Holzspänen ein Winkel <?£ von etwa
5-10° einerseits das Abrutschen verhindert und andererseits die Grösae der für das Weiterschieben der Teilchen
erforderlichen, sich zu der Schwerkraftkomponente addierenden Zusatzkraft auf einem geringen Y/ert zu halten vermag.
Unter dem Begriff "Schwerkraftkomponente1· ist hierbei diejenige Komponente der Schwerkraft zu verstehen,
die zu einer Tangente an das Auslaufende der kreisförmig gebogenen Führungswand 12 parallel liegt.
Das wie beschrieben mittels der Förderwalze 9 und unter Wirkang der Schwerkraft entlang der Leitfläche
bewegte Gut wird nun von einer schnell und entgegen dem ankommenden Teilciienstrom drehenden, mit Schleuderelementen
18 besetzten Abkäinmwalze 17 erfasst und schief nach unten geschleudert. Man könnte von einem "Abfräsen" des
Teilchenstromes durch die in die Bewegungsbahn des ankommenden Gutes greifenden Flügel oder Stacheln der Abkämmwaise
17 sprechen.
Eine weitere Käfigwalze 19 mit Stäben 20 zieht
den nunmehr genau dosierten Teilchenstrom, wie bei 21 an-
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gedeutet, auseinander, wodurch ein dachziegelartiges
Uebereinanderliegen der Teilchen vermieden und die Güte
der Einstreuung weiter erhöht wird. Das auf der gleichförmig bewegten' Transportunterlage 23 gebildete Vlies
ist mit 22 bezeichnet.
Aus der Zeichnung ist ersichtlich, dass sich die Achsen der veranschaulichten Walzen in einer zur Fortbewegungsrichtung
der Transportunterlagen senkrechten Richtung erstrecken. Alle Walzen sind mindestens so lang wie
die Breite des Vlieses 22. Ferner ist ersichtlich, dass die Walzen mit Endscheiben oder -flanschen ausgestattet
sind. Es ist nun beispielsweise möglich, die Vorrichtung mit zwei seitlichen AbSchlusswänden zu versehen, von denen
die eine mit allen Wellenendscheiben der einen Seite der Vorrichtung und die andere mit allen Wellenendscheiben der
anderen Seite in einer Ebene liegt. Diese zueinander parallelen Abschlusswände können sich bis in die unmittelbare
ITähe der Transportunterlage 25 erstrecken, wodurch die
seitliche Begrenzung des Vlieses 22 besonders scharf ausfällt.
Die in ihrem Aufbau beschriebene Konstruktion der Vorrichtung gestattet durch eine verhältnismässig
einfache Erweiterung eine laufende oder periodische Ueberwachung der Qualität der Einstreuung und/oder des Gewichtes
der eingestreuten Teilchenmenge. Diese Erweiterung be-
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steht darin, dass man bei allen umlaufenden Elementen jeweils
auf der gleichen Seite der Vorrichtung ein mehr oder weniger langes gleichartiges Element ansetzt, das
vom Hauptelament lediglich durch die eine Endscheibe getrennt
ist. So würde z.B. die dosierende Förderwalze 9 durch eine vornehmlich kürzere IPö'r der walze ergänzt, die
auf derselben Welle sitzt. Sine derartige Zusatzeinrichtung wäre von der eigentlichen Vliesbildungsvorrichtung
normalerweise ferner durch die eine seitliche Abschlusswand abgesondert. Das in einera solchen ITebenstrom dosierte
und gestreute Gut wird nach Vornahme der notwendigen deasungen
entweder zu Prüfplatten gepresst oder dann direkt zur Aufgabe zurückgeführt„
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Claims (1)
- Cttentans prLlche ;1.) Vorrichtung zur Bildung eines gleiciiiaässigen Vlieses aus schüttfähigeia G-ut auf einer bewegten Unterlage unter Verwendung einer volumetrischen ieindosierungseinrichtung mit einer mit ±;iitnehmern besetzten, umlaufenden Oberfläche, einer Püjarungswand Jiit einer dem abwärts laufenden leil der genannten Oberfläche gegenüberliegenden Leitfläche und ferner einem im .Bereiche des oberen Seils der Leitfläche angeordneten Nivellierelement, dadurch gekennzeichnet, dass das genannte Tivelliereleaent (13, 14) das im Bereiche der Eintrittsseite der !"eindosiereinrichtung (9-12) vorhandene überschüssige G-ut einer !Fördervorrichtung (16) zuführt, die es zur Eingangssaite einer der Feindosierungseinrichtung funktionell vorgeordneten G-robdosierungseinrichtung (3» 4) zurücktransportiert, und dass ferner im Bereiche der unteren Begrenzung der genannten Leitfläche (12) ein bewegten Abkämmorgan, wie eine Abkämmwalze od.dgl. (17, 18), angeordnet ist.2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Eeindosierungseinrichtung (9-12) in an sich bekannter Weise eine mit üitnehmern (10), wie flügeln, Stacheln od.dgl. besetzte Walze (9) ist, und dass die Führungswand in an sich bekannter Art als von den freien Enden der genannten Mitnehmer distanziert angeordnetes Hohlzylindersegment (.12) ausgebildet ist.2098 0 9/0433 bad original"Vorrichttang nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass sich das ITivellierelement über die ganze Breite der dosierenden Förderwalze (S) erstreckt und aus einer im gleichen Sinne wie die Förderwalze drehenden Uivellierwalze (15, 14) od.dgl. besteht, welche das überschüssige 3-ut entfernt und auf ein bewegtes Band (16) od.dgl. wirft, cie das G-ut zur Eingangs sei te der G-robdosierungseinriclitung (3, 4) zuführt.4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass sich das Abkämnorgan aber die ganze Breite der dosierenden Förderwalze (9) erstreckt und aus einer mit Schleuderelementen, wie Flügeln (18), Stacheln od.dgl. besetzten, im gleichen Sinne wie die dosierende Förderwalze (9), jedoch mit grösserer Umfangsgeschwindigkeit als diese drehenden Abkämmwalze (17) besteht, und dass die genannten Schleuderelemente (18) in die Bewegungsbahn des am Ende der Leitfläche (12) ankommenden G-utes hineinragen.5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der Abkämmwalze (17) und der bewegten Unterlage (23) eine rotierende und hohle Verteil- und Streuwalze (19, 20) vorgesehen ist, deren Mantel mit Durchtrittsöffnungen für das zu verteilende G-ut ausgestattet ist.6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-5, gekennzeichnet durch ein oberhalb des dosierenden Förder-209809/0433 Mo owe««.organe (9-12) beweglich angeordnetes AufIockerungeelement, wie eine mit Durohtritteöffnungen versehene Hohlwalze (7, 8) od.dgl,7· Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, dass das auslaufende untere Ende der inneren leitfläche der IHihrungswand (12) eine derartige Neigung besitzt, dass bei Wahl eines bestimmten Konstruktionsmaterials und bei vorgegebenen Eigenschaften der für die Bildung des Vlieses verwendeten Teilchen ein Rutschen derselben entlang der Leitfläche lediglich dann stattfinden kann, wenn auf diese ausser der Schwerkraftskomponente eine geringe Zusatzkraft in Richtung der unteren Leitflächenbegrenzung wirkt.8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-7» gekennzeichnet durch einen stufenlos regelbaren Antrieb der dosierenden Fö'rderwalze (9» 1 ).9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, dass die Grotdosierun&seimichtung ein Gutzuführungsband (1) und ein darüber angeordnetes, umlaufendes und rückstauendes Dosierelenient (3, 4) enthält.10. lorrichtung nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, dass die Geschwindigkeit des Gutzuführungebandes (l) in Abhängigkeit des bei der !eindosierungseinrichtung (9-12) auftretenden Gutüberichuese· gesteuert ist.209809/0433BAD ORDINAL
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