DE1621516B1 - Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen - Google Patents

Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen

Info

Publication number
DE1621516B1
DE1621516B1 DE19671621516D DE1621516DA DE1621516B1 DE 1621516 B1 DE1621516 B1 DE 1621516B1 DE 19671621516 D DE19671621516 D DE 19671621516D DE 1621516D A DE1621516D A DE 1621516DA DE 1621516 B1 DE1621516 B1 DE 1621516B1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
hydrochloric acid
conductor tracks
etching
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19671621516D
Other languages
English (en)
Inventor
Dipl-Phys Merkenschlag Hermann
Josef Dr Strohmayer
August Stumbaum
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Publication of DE1621516B1 publication Critical patent/DE1621516B1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/18Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen.
Vor dem Löten zur Herstellung der elektrischen Anschlüsse an Leiterplatten werden die Leiterplatten sorgfältig gereinigt. Hierzu bedient man sich Reinigungsverfahren, die bei der Technik des Galvanisieren Verwendung finden. Darüber hinaus ist es bekannt, Oxidschichten auf den Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen kurzzeitig mit einer Lösung aus verdünnter Schwefelsäure mit Natriumdichromat oder mit Eisensulfat und Ammoniumpersulfat zu behandeln. Alle diese Verfahren haben in erster Linie den Zweck, Oxidschichten von den Oberflächen zu entfernen. Weiterhin ist bekannt, daß auf mechanischem Wege durch Sandstrahlen, Scheuern, Schleifen, Schwabbeln, Bürsten und sogar durch Radieren mit einem Spezialgummi das gleiche Ergebnis erzielbar ist. Diese mechanischen Behandlungsmethoden erzeugen über den Reinigungseffekt hinaus rauhe Oberflächen der Leiterbahnen, die die Benetzbarkeit durch das Lot günstig beeinflussen.
Die mechanischen Behandlungsverfahren bringen eine Reihe schwerwiegender Nachteile mit sich. Bei allen diesen Verfahren ist es außerordentlich schwierig, den Umfang der Metallabtragung von der Oberfläche der Leiterbahnen zu kontrollieren. Auch ist es häufig nicht zu vermeiden, daß die Oberfläche des Trägermaterials in unerwünschter Weise beeinträchtigt wird. Die beim Sandstrahlen, Scheuern, Schleifen, Schwabbeln benutzten Schleifmittel können sich sowohl in den Leiterbahnen als auch an schlecht zugänglichen Stellen des Trägermaterials festsetzen und die Lötung beeinträchtigen. - -
Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen müssen nach ihrer Herstellung möglichst rasch bestückt und verlötet werden, denn es hat sich gezeigt, daß die Lötbarkeit dieser Leiterplatten innerhalb von wenigen Wochen derart abnimmt, daß keine einwandfreie Lötverbindungen mehr erzielt werden können, wenn mit den aus bekannten Gründen zu verwendenden nicht oder nur wenig korrosiven Flußmitteln gelötet wird.
Bei der Suche nach Oberflächenbehandlungsverfahren, die sowohl eine hohe als auch eine länger anhaltende Lötbarkeit der Leiterplatten gewährleisten, wurde ein Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen gefunden, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Oberfläche der Leiterbahnen zumindest an den zu lötenden Stellen mit einer an sich bekannten Ätzlösung aus Kupferchlorid, Salzsäure und Ammoniumchlorid angeätzt und nachher in eine wäßrige Salzsäurelösurig getaucht wird.
Durch das Anätzen wird Kupfer von der Oberfläche abgetragen und die Oberfläche angerauht. Der erzielte Rauhigkeitsgrad und die Tatsache, daß nach der Anwendung des Verfahrens reinste Kupfer-Oberflächen vorliegen, dürften die Gründe für die außergewöhnlich gute Benetzbarkeit durch das Lot sein.
Durch das Verfahren gemäß der Erfindung werden Oberflächen erreicht, die eine Lötbarkeit besitzen, die wesentlich höher liegt als die Lötbarkeit, die durch die oben beschriebenen mechanischen Verfahren erreichbar ist. Darüber hinaus hat sich gezeigt, daß die Lötbarkeit der so behandelten Oberflächen mehrere Mo
nate anhält, ohne daß erhebliche Abnahmen der Lötbarkeit festgestellt werden konnten. Es konnte weiterhin festgestellt werden, daß Leiterplatten, die unmittelbar nach dem Behandeln mit einem Kolophoniumlötlack überzogen worden waren, auch nach einjähriger Lagerung noch gute Lötfähigkeit besaßen. Auch konnten durch das Verfahren Oberflächen, die keine Lötbarkeit mehr besaßen, reaktiviert werden.
Die Konzentrationen der zu verwendenden Ätzlösung werden vorzugsweise so eingestellt, daß bei der jeweiligen Betriebstemperatur des Bades kein Löslichkeitsproduktüberschritten wird. Bei Zimmertemperatur haben sich beispielsweise folgende Konzentrationen als günstig erwiesen:
0,5 bis 2,5 Mol Kupferchlorid pro Liter,
2,5 bis 0,5 Mol Ammoniumchlorid pro Liter,
0,2 bis 0,6 Mol Salzsäure pro Liter,
wobei die Summe der Konzentrationen etwa 3 Mol pro Liter ergeben soll. Innerhalb dieses Bereiches der Konzentrationen hat sich eine Ätzlösung aus 0,9 bis 1,1 Mol pro Liter Kupferchlorid, 1,5MoI pro Liter Ammoniumchlorid und 0,6 bis 0,4 Mol pro Liter Salzsäure als besonders geeignet erwiesen.
Bei einem Ausführungsbeispiel des Verfahrens wird die Leiterplatte kurzzeitig in die vorgenannte Ätzlösung getaucht und danach sorgfältig mit Leitungswasser abgebraust. Nach einer kurzen Weiterbehandlung in 12°/0iger Salzsäure erfolgt ein erneutes Abbrausen der Leiterplatte mit Leitungswasser und eine Neutralisation, indem die Leiterplatte in 3°/0ige Ammoniaklösung getaucht und darauf erneut mit Leitungswasser abgebraust wird. Am Schluß der Behandlung steht ein Spülen in entsalztem Wasser und Trocknen an der Luft. - ---.._

Claims (6)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Leiterbahnen zumindest an den zu lötenden Stellen mit einer an sich bekannten Ätzlösung aus Kupferchlorid, Salzsäure und Ammoniumchlorid angeätzt und nachher in eine wäßrige Salzsäurelösung getaucht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration an Kupferchlorid, Ammoniumchlorid und Salzsäure in derÄtzlösung so aufeinander abgestimmt werden, daß bei der jeweiligen Betriebstemperatur kein Löslichkeitsprodukt überschritten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentrationen der Ätzlösung bei Zimmertemperatur etwa in folgenden Grenzen 0,5 bis 2,5 Mol Kupferchlorid pro Liter, 2,5 bis 0,5 Mol Ammoniumchlorid pro Liter und 0,2 bis 0,6 Mol Salzsäure pro Liter gehalten werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Leiterbahnen mit einer Lösung geätzt wird, die 0,9 bis 1,1 Mol/l Kupferchlorid, 1,5 Mol/l Ammoniumchlorid und 0,6 bis 0,4 Mol/l Salzsäure enthält.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
3 4
Oberfläche der Leiterbahnen in die Ätzlösung ge- Leitungswasser abgebraust, mit entsalztem Wasser taucht, danach mit Leitungswasser abgebraust und gespült und schließlich an der Luft getrocknet wird, mit einer etwa 12%igen Salzsäurelösung weiter-
6. Verfahren nach einem oder mehreren der behandelt wird, darauf wieder mit Leitungswasser Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß abgebraust und durch eine etwa 3°/oige Ammoniak- 5 die Oberfläche zusätzlich mit einem Lötlack Überlösung neutralisiert wird, danach abermals mit zogen wird.
DE19671621516D 1967-10-11 1967-10-11 Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen Pending DE1621516B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES0112343 1967-10-11
DE1621516 1967-10-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1621516B1 true DE1621516B1 (de) 1971-10-07

Family

ID=25753799

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19671621516D Pending DE1621516B1 (de) 1967-10-11 1967-10-11 Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen

Country Status (4)

Country Link
CH (1) CH523971A (de)
DE (1) DE1621516B1 (de)
FR (1) FR1586321A (de)
NL (1) NL6814611A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0757118A1 (de) * 1995-08-01 1997-02-05 MEC CO., Ltd. Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer und Kupferlegierungen
EP1490530A4 (de) * 2002-03-05 2005-04-13 Rd Chemical Co Verfahren und zusammensetzungen zur erzeugung von oxid auf kupfer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0757118A1 (de) * 1995-08-01 1997-02-05 MEC CO., Ltd. Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer und Kupferlegierungen
EP1490530A4 (de) * 2002-03-05 2005-04-13 Rd Chemical Co Verfahren und zusammensetzungen zur erzeugung von oxid auf kupfer

Also Published As

Publication number Publication date
NL6814611A (de) 1969-04-15
FR1586321A (de) 1970-02-13
CH523971A (de) 1972-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE639447C (de) Verfahren zur Herstellung von phosphathaltigen UEberzuegen auf Metallen
DE2014285C3 (de) Verfahren für die Vorbereitung von Aluminium oder Aluminiumlegierungsflächen zur stromlosen Vernickelung
DE2555809A1 (de) Loesung zum reinigen von oberflaechen aus kupfer und seinen legierungen
CH624995A5 (de)
DE3115323C2 (de)
CH654597A5 (de) Chemische zubereitung zur entfernung von zinn und zinn/blei-legierungen von der metallischen oberflaeche von substraten.
DE2427601C2 (de) Mittel zur Entfernung von Rußflecken von Aluminium und Aluminiumlegierungen
DE2711429A1 (de) Verfahren zur reinigung von zinn- oberflaechen
DE2531163C2 (de) Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten
DE2412134C3 (de) Mittel zum Reinigen von Zinn-Blei-Legierungen
DE1621516B1 (de) Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen
WO1999055935A1 (de) Verfahren zum überziehen von oberflächen auf kupfer oder einer kupferlegierung mit einer zinn- oder zinnlegierungsschicht
US3562039A (en) Method of improving the solderability of conductor plates
DE2511075A1 (de) Verfahren zur entfernung von hartloetlegierungen von oberflaechen aus rostfreiem stahl
DE1496906B2 (de) Waessriges bad zum elektrolytischen entzundern von eisen und stahl
DE618614C (de) Verfahren zum Blankbeizen von Metallen
DE719549C (de) Verfahren zur Herstellung korroisonsbestaendiger UEberzueg auf Eisen und Stahl
EP1100982B1 (de) Beizmittel für edelstähle
DE2015336A1 (de) Reinigen und Aufhellen von mit Blei-Zinn-Legierungen abgedeckten Schaltkreisplatten
DE2935138A1 (de) Verfahren zum reinigen von oberflaechen von kupferlegierungen
DE1913616C3 (de) Verfahren zum Ätzen einer an einem Halter angebrachten Halbleiterscheibe
DE365702C (de) Fuer elektrotechnische Zwecke bestimmter Metallgegenstand
DE2015336C (de) Verfahren zum Reimgen und Aufhellen von mit Blei Zinn Legierungen abgedeckten Schaltkreisplatten
AT244116B (de) Verfahren zur Vorbehandlung von Metalloberflächen vor dem Emaillieren
AT144900B (de) Verfahren zum Überziehen von Metallen mit phosphathaltigen Schutzschichten.