DE1621516B1 - Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen - Google Patents
Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzenInfo
- Publication number
- DE1621516B1 DE1621516B1 DE19671621516D DE1621516DA DE1621516B1 DE 1621516 B1 DE1621516 B1 DE 1621516B1 DE 19671621516 D DE19671621516 D DE 19671621516D DE 1621516D A DE1621516D A DE 1621516DA DE 1621516 B1 DE1621516 B1 DE 1621516B1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- copper
- hydrochloric acid
- conductor tracks
- etching
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/18—Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten mit
Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen.
Vor dem Löten zur Herstellung der elektrischen Anschlüsse an Leiterplatten werden die Leiterplatten sorgfältig
gereinigt. Hierzu bedient man sich Reinigungsverfahren, die bei der Technik des Galvanisieren Verwendung
finden. Darüber hinaus ist es bekannt, Oxidschichten auf den Leiterbahnen aus Kupfer oder
Kupferlegierungen kurzzeitig mit einer Lösung aus verdünnter Schwefelsäure mit Natriumdichromat oder
mit Eisensulfat und Ammoniumpersulfat zu behandeln.
Alle diese Verfahren haben in erster Linie den Zweck, Oxidschichten von den Oberflächen zu entfernen.
Weiterhin ist bekannt, daß auf mechanischem Wege durch Sandstrahlen, Scheuern, Schleifen, Schwabbeln,
Bürsten und sogar durch Radieren mit einem Spezialgummi das gleiche Ergebnis erzielbar ist. Diese mechanischen
Behandlungsmethoden erzeugen über den Reinigungseffekt hinaus rauhe Oberflächen der Leiterbahnen,
die die Benetzbarkeit durch das Lot günstig beeinflussen.
Die mechanischen Behandlungsverfahren bringen eine Reihe schwerwiegender Nachteile mit sich. Bei
allen diesen Verfahren ist es außerordentlich schwierig, den Umfang der Metallabtragung von der Oberfläche
der Leiterbahnen zu kontrollieren. Auch ist es häufig nicht zu vermeiden, daß die Oberfläche des Trägermaterials
in unerwünschter Weise beeinträchtigt wird. Die beim Sandstrahlen, Scheuern, Schleifen, Schwabbeln
benutzten Schleifmittel können sich sowohl in den Leiterbahnen als auch an schlecht zugänglichen Stellen
des Trägermaterials festsetzen und die Lötung beeinträchtigen. - -
Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen müssen nach ihrer Herstellung
möglichst rasch bestückt und verlötet werden, denn es hat sich gezeigt, daß die Lötbarkeit dieser Leiterplatten
innerhalb von wenigen Wochen derart abnimmt, daß keine einwandfreie Lötverbindungen mehr erzielt
werden können, wenn mit den aus bekannten Gründen zu verwendenden nicht oder nur wenig korrosiven
Flußmitteln gelötet wird.
Bei der Suche nach Oberflächenbehandlungsverfahren, die sowohl eine hohe als auch eine länger anhaltende
Lötbarkeit der Leiterplatten gewährleisten, wurde ein Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit
elektrischer Leiterplatten mit Leiterbahnen aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen gefunden, das
dadurch gekennzeichnet ist, daß die Oberfläche der Leiterbahnen zumindest an den zu lötenden Stellen
mit einer an sich bekannten Ätzlösung aus Kupferchlorid, Salzsäure und Ammoniumchlorid angeätzt
und nachher in eine wäßrige Salzsäurelösurig getaucht wird.
Durch das Anätzen wird Kupfer von der Oberfläche
abgetragen und die Oberfläche angerauht. Der erzielte Rauhigkeitsgrad und die Tatsache, daß nach der Anwendung
des Verfahrens reinste Kupfer-Oberflächen vorliegen, dürften die Gründe für die außergewöhnlich
gute Benetzbarkeit durch das Lot sein.
Durch das Verfahren gemäß der Erfindung werden Oberflächen erreicht, die eine Lötbarkeit besitzen, die
wesentlich höher liegt als die Lötbarkeit, die durch die oben beschriebenen mechanischen Verfahren erreichbar
ist. Darüber hinaus hat sich gezeigt, daß die Lötbarkeit der so behandelten Oberflächen mehrere Mo
nate anhält, ohne daß erhebliche Abnahmen der Lötbarkeit festgestellt werden konnten. Es konnte weiterhin
festgestellt werden, daß Leiterplatten, die unmittelbar nach dem Behandeln mit einem Kolophoniumlötlack
überzogen worden waren, auch nach einjähriger Lagerung noch gute Lötfähigkeit besaßen. Auch
konnten durch das Verfahren Oberflächen, die keine Lötbarkeit mehr besaßen, reaktiviert werden.
Die Konzentrationen der zu verwendenden Ätzlösung werden vorzugsweise so eingestellt, daß bei der
jeweiligen Betriebstemperatur des Bades kein Löslichkeitsproduktüberschritten wird. Bei Zimmertemperatur
haben sich beispielsweise folgende Konzentrationen als günstig erwiesen:
0,5 bis 2,5 Mol Kupferchlorid pro Liter,
2,5 bis 0,5 Mol Ammoniumchlorid pro Liter,
0,2 bis 0,6 Mol Salzsäure pro Liter,
2,5 bis 0,5 Mol Ammoniumchlorid pro Liter,
0,2 bis 0,6 Mol Salzsäure pro Liter,
wobei die Summe der Konzentrationen etwa 3 Mol pro Liter ergeben soll. Innerhalb dieses Bereiches der Konzentrationen
hat sich eine Ätzlösung aus 0,9 bis 1,1 Mol pro Liter Kupferchlorid, 1,5MoI pro Liter Ammoniumchlorid
und 0,6 bis 0,4 Mol pro Liter Salzsäure als besonders geeignet erwiesen.
Bei einem Ausführungsbeispiel des Verfahrens wird die Leiterplatte kurzzeitig in die vorgenannte Ätzlösung
getaucht und danach sorgfältig mit Leitungswasser abgebraust. Nach einer kurzen Weiterbehandlung
in 12°/0iger Salzsäure erfolgt ein erneutes Abbrausen der Leiterplatte mit Leitungswasser und eine
Neutralisation, indem die Leiterplatte in 3°/0ige Ammoniaklösung getaucht und darauf erneut mit
Leitungswasser abgebraust wird. Am Schluß der Behandlung steht ein Spülen in entsalztem Wasser und
Trocknen an der Luft. - ---.._
Claims (6)
1. Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten mit Leiterbahnen aus
Kupfer oder Kupferlegierungen durch Ätzen, dadurch gekennzeichnet, daß die
Oberfläche der Leiterbahnen zumindest an den zu lötenden Stellen mit einer an sich bekannten Ätzlösung
aus Kupferchlorid, Salzsäure und Ammoniumchlorid angeätzt und nachher in eine wäßrige
Salzsäurelösung getaucht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration an Kupferchlorid,
Ammoniumchlorid und Salzsäure in derÄtzlösung so aufeinander abgestimmt werden, daß bei der
jeweiligen Betriebstemperatur kein Löslichkeitsprodukt überschritten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentrationen der Ätzlösung
bei Zimmertemperatur etwa in folgenden Grenzen 0,5 bis 2,5 Mol Kupferchlorid pro Liter,
2,5 bis 0,5 Mol Ammoniumchlorid pro Liter und 0,2 bis 0,6 Mol Salzsäure pro Liter gehalten werden.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Leiterbahnen mit
einer Lösung geätzt wird, die 0,9 bis 1,1 Mol/l Kupferchlorid, 1,5 Mol/l Ammoniumchlorid und
0,6 bis 0,4 Mol/l Salzsäure enthält.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche
1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
3 4
Oberfläche der Leiterbahnen in die Ätzlösung ge- Leitungswasser abgebraust, mit entsalztem Wasser
taucht, danach mit Leitungswasser abgebraust und gespült und schließlich an der Luft getrocknet wird,
mit einer etwa 12%igen Salzsäurelösung weiter-
6. Verfahren nach einem oder mehreren der
behandelt wird, darauf wieder mit Leitungswasser Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß
abgebraust und durch eine etwa 3°/oige Ammoniak- 5 die Oberfläche zusätzlich mit einem Lötlack Überlösung
neutralisiert wird, danach abermals mit zogen wird.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1621516 | 1967-10-11 | ||
DES0112343 | 1967-10-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1621516B1 true DE1621516B1 (de) | 1971-10-07 |
Family
ID=25753799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671621516D Pending DE1621516B1 (de) | 1967-10-11 | 1967-10-11 | Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH523971A (de) |
DE (1) | DE1621516B1 (de) |
FR (1) | FR1586321A (de) |
NL (1) | NL6814611A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0757118A1 (de) * | 1995-08-01 | 1997-02-05 | MEC CO., Ltd. | Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer und Kupferlegierungen |
EP1490530A4 (de) * | 2002-03-05 | 2005-04-13 | Rd Chemical Co | Verfahren und zusammensetzungen zur erzeugung von oxid auf kupfer |
-
1967
- 1967-10-11 DE DE19671621516D patent/DE1621516B1/de active Pending
-
1968
- 1968-10-10 CH CH1512868A patent/CH523971A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-10-11 NL NL6814611A patent/NL6814611A/xx unknown
- 1968-10-11 FR FR1586321D patent/FR1586321A/fr not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0757118A1 (de) * | 1995-08-01 | 1997-02-05 | MEC CO., Ltd. | Zusammensetzung zum Mikroätzen von Kupfer und Kupferlegierungen |
EP1490530A4 (de) * | 2002-03-05 | 2005-04-13 | Rd Chemical Co | Verfahren und zusammensetzungen zur erzeugung von oxid auf kupfer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6814611A (de) | 1969-04-15 |
FR1586321A (de) | 1970-02-13 |
CH523971A (de) | 1972-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE639447C (de) | Verfahren zur Herstellung von phosphathaltigen UEberzuegen auf Metallen | |
DE3242899C2 (de) | Wäßrige Entmetallisierungszusammensetzung zur Entfernung von Zinn und Zinn-Blei-Legierungen von einem Metallsubstrat | |
DE2014285C3 (de) | Verfahren für die Vorbereitung von Aluminium oder Aluminiumlegierungsflächen zur stromlosen Vernickelung | |
CH624995A5 (de) | ||
DE3115323C2 (de) | ||
DE2427601C2 (de) | Mittel zur Entfernung von Rußflecken von Aluminium und Aluminiumlegierungen | |
DE2711429A1 (de) | Verfahren zur reinigung von zinn- oberflaechen | |
DE2531163C2 (de) | Verfahren zur Verbesserung der Lötbarkeit elektrischer Leiterplatten | |
DE2412134C3 (de) | Mittel zum Reinigen von Zinn-Blei-Legierungen | |
DE1621516B1 (de) | Verfahren zur Verbesserung der Loetbarkeit von Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen durch AEtzen | |
WO1999055935A1 (de) | Verfahren zum überziehen von oberflächen auf kupfer oder einer kupferlegierung mit einer zinn- oder zinnlegierungsschicht | |
US3562039A (en) | Method of improving the solderability of conductor plates | |
DE2511075A1 (de) | Verfahren zur entfernung von hartloetlegierungen von oberflaechen aus rostfreiem stahl | |
DE1496906B2 (de) | Waessriges bad zum elektrolytischen entzundern von eisen und stahl | |
DE618614C (de) | Verfahren zum Blankbeizen von Metallen | |
DE719549C (de) | Verfahren zur Herstellung korroisonsbestaendiger UEberzueg auf Eisen und Stahl | |
EP1100982B1 (de) | Beizmittel für edelstähle | |
DE2015336A1 (de) | Reinigen und Aufhellen von mit Blei-Zinn-Legierungen abgedeckten Schaltkreisplatten | |
DE2935138A1 (de) | Verfahren zum reinigen von oberflaechen von kupferlegierungen | |
DE1913616C3 (de) | Verfahren zum Ätzen einer an einem Halter angebrachten Halbleiterscheibe | |
DE365702C (de) | Fuer elektrotechnische Zwecke bestimmter Metallgegenstand | |
DE2015336C (de) | Verfahren zum Reimgen und Aufhellen von mit Blei Zinn Legierungen abgedeckten Schaltkreisplatten | |
AT244116B (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von Metalloberflächen vor dem Emaillieren | |
AT144900B (de) | Verfahren zum Überziehen von Metallen mit phosphathaltigen Schutzschichten. | |
DE913977C (de) | Emaillierverfahren |