DE1614229C3

DE1614229C3 - Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, das mindestens teilweise die Form einer Verzögerungsleitung aufweist

Info

Publication number: DE1614229C3
Application number: DE19671614229
Authority: DE
Inventors: Erich Eduard Eindhoven Himmelbauer (Niederlande)
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1966-03-25
Filing date: 1967-03-21
Publication date: 1976-04-08

Description

Die Erfindung betrifft ein Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, insbesondere eine Oszillographenröhre für sehr hohe Frequenzen, das mindestens teilseise die Form einer Verzögerungsleitung aufweist, bei dem der Abstand zwischen den beiderseits des Elektronenstrahles liegenden Teilen des Ablenksystems in der Laufrichtung der Elektronen größer wird, bei dem das Ablenksystem über eine Anzahl von sich im wesentlichen am Ablenksystem entlang und parallel zu diesem entstreckenden Isolierstäben abgestützt wird und bei dem der Wellenwiderstand des Ablenksystems über die gesamte Länge des Systems konstant ist.

Um eine hohe Ablenkempfindlichkeit zu erreichen, müssen Ablenksysteme eine gewisse Mindestlänge aufweisen, und die Teile des Systems müssen möglichst nahe beieinander liegen. Um zu verhindern, daß der Elektronenstrahl bei der Ablenkung Teile des Ablenksystems berührt, muß der Abstand zwischen diesen Teilen in Laufrichtung der Elektronen größer werden.

Bei Hochfrequenzbetrieb ergeben sich dabei Nachteile, weil die Laufzeit der Elektronen durch das Ablenksystem nicht mehr vernachlässigbar ist. Es ist bekannt (DT-AS 11 56 512), das Ablenksystem mindestens teilweise in Form einer Verzögerungsleitung auszubilden. Dadurch, daß jedoch die Kapazität zwischen den Teilen des Ablenksystems in Laufrichtung der Elektronen infolge der Vergrößerung des gegenseitigen Abstandes abnimmt, wird der Wellenwiderstand des Ablenksystems in der Laufrichtung der Elektronen allmählich höher, so daß die Fortpflanzungsgeschwindigkeit des Signals durch das Ablenksystem nicht konstant ist und Reflexionen auftreten. Bei dem bekannten Ablenksystem sind darum die Ablenkelektroden so ausgebildet, daß der Wellenwiderstand des Ablenksystems über seine gesamte Länge konstant ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein als Verzögerungsleitung ausgebildetes Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, bei dem die Ablenkelektroden von Isolierstäben abgestützt werden, die sich am Ablenksystem entlang und parallel zu diesem erstrekken, zu schaffen, das besonders einfach aufgebaut ist und keine besondere Gestalt der Ablenkelektroden erfordert.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein sich in der Laufrichtung der Elektronen vergrößernder Teil der Oberfläche mindestens eines der isolierenden Stützstäbe mit einem Leiter abgedeckt ist.

Dadurch, daß die leitende Abdeckung in der Laufrichtung der Elektronen allmählich ausgedehnter wird.j nimmt deren Kapazität in bezug auf die einander ge-| genüberliegenden Teile des Ablenksystems zu, wodurch der Wellenwiderstand über die gesamte Länge des Ablenksystems konstant gehalten wird. !

Vorzugsweise wird der abdeckende Leiter jedes; Stützstabes durch eine metallene Rinne gebildet, die einen U-förmigen Querschnitt mit in der Laufrichtung] der Elektronen wachsender Länge der Schenkel des! U-Profils hat und die auf dem isolierenden Stützstab:

befestigt ist. j

Diese leitende Abdeckung kann auch aus einer auf die Oberfläche der Stützstäbe aufgebrachten leitenden Schicht bestehen, die in der Laufrichtung der Elektronen allmählich breiter wird. Als Material für diese Schicht sind z. B. Kohlenstoff und/oder ein Metall geeignet.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im fol- j genden an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt

F i g. 1 im Schnitt ein Ablenksystem mit den Merkmalen der Erfindung,

F i g. 2 einen Schnitt durch einen Stützstab und F i g. 3 einen Leiter zum Abdecken eines Stützstabes.

F i g. 1 zeigt ein Ablenksystem, das die Form einer Verzögerungsleitung aufweist, die aus zwei schraubenlinienförmig gewickelten Bändern 1 besteht, zwischen denen ein Elektronenstrahl 2 läuft. Der gegenseitige Abstand der wirksamen Teile der Bänder 1 des Ablenksystems nimmt in der Laufrichtung des Elektronen-

Strahles 2 zu. |

Die Bänder 1 der Verzögerungsleitungen sind durch ; Stäbe 3 an isolierenden Stützstäben 5 befestigt, die z. B. j durch einen keramischen Stab gebildet werden, in dem eine Nut vorgesehen ist, in der ein Glasteil 4 angeordnet ist. Die Stäbe 3 sind im Glasteil 4 festgeschmolzen.

Die isolierenden Stützstäbe 5 sind in Stützplatten 8 und 9 des Elektrodensystems einer Elektronenstrahlröhre befestigt.

Zum Konstanthalten des Wellenwiderstandes der Verzögerungsleitungen 1 über die ganze Länge des Ablenksystems sind rinnenförmige Metallteile 6 mit etwa U-förmigem Querschnitt auf den Stützstäben 5 angeordnet. Die Schenkel 7 des U-Profils der Teile 6 werden in der Laufrichtung der Elektronen allmählich länger, so daß die Kapazität der Teile 1 des Ablenksystems in dieser Richtung derart vergrößert wird, daß der Wellenwiderstand über die gesamte Länge des Ablenksystems nahezu konstant bleibt. Die Teile 6 können auf die isolierenden Stäbe 5 gedruckt und mit ihren Enden an den Stützplatten 8 und 9 festgeschweißt werden. Der Körper 6 kann auch als eine Metallschicht oder eine leitende Kohlenstoffschicht auf die Oberfläche der Stäbe 5 aufgebracht werden.

Claims

Patentansprüche:

1. Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, das mindestens teilweise die Form einer Verzögerungsleitung aufweist, bei dem der Abstand zwischen den beiderseits des Elektronenstrahles liegenden Teilen des Ablenksystems in der Laufrichtung der Elektronen größer wird, bei dem das Ablenksystem über eine Anzahl von sich im wesentlichen am Ablenksystem entlang und parallel zu diesem erstreckenden Isolierstäben abgestützt wird und bei dem der Wellenwiderstand des Ablenksystems über die gesamte Länge des Systems konstant ist. d a durch gekennzeichnet, daß ein sich in der Laufrichtung der Elektronen vergrößernder Teil der Oberfläche mindestens eines der isolierenden Stützstäbe (5) mit einem Leiter (6) abgedeckt ist. '

2. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der abdeckende Leiter (6) jedes Stützstabes (5) durch eine metallene Rinne gebildet wird, die einen U-förmigen Querschnitt mit in der Laufrichtung der Elektronen wachsender Länge der Schenkel (7) des U-Profils hat und die auf dem isolierenden Stützstab (5) befestigt ist.

3. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der abdeckende Leiter (6) als eine leitende Schicht auf die Oberfläche der Stützstäbe (5) aufgebracht ist.