DE1614229B2 - Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, das mindestens teilweise die Form einer Verzögerungsleitung aufweist - Google Patents
Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, das mindestens teilweise die Form einer Verzögerungsleitung aufweistInfo
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- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/70—Arrangements for deflecting ray or beam
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Description
Die Erfindung betrifft ein Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, insbesondere eine Oszillographenröhre
für sehr hohe Frequenzen, das mindestens teilseise die Form einer Verzögerungsleitung aufweist,
bei dem der Abstand zwischen den beiderseits des Elektronenstrahles liegenden Teilen des Ablenksystems
in der Laufrichtung der Elektronen größer wird, bei dem das Ablenksystem über eine Anzahl von sich im
wesentlichen am Ablenksystem entlang und parallel zu diesem entstreckenden Isolierstäben abgestützt wird
und bei dem der Wellenwiderstand des Ablenksystems über die gesamte Länge des Systems konstant ist.
Um eine hohe Ablenkempfindlichkeit zu erreichen, müssen Ablenksysteme eine gewisse Mindestlänge aufweisen,
und die Teile des Systems müssen möglichst nahe beieinander liegen. Um zu verhindern, daß der
Elektronenstrahl bei der Ablenkung Teile des Ablenksystems berührt, muß der Abstand zwischen diesen Teilen
in Laufrichtung der Elektronen größer werden.
Bei Hochfrequenzbetrieb ergeben sich dabei Nachteile, weil die Laufzeit der Elektronen durch das Ablenksystem
nicht mehr vernachlässigbar ist. Es ist bekannt (DT-AS 11 56 512), das Ablenksystem mindestens
teilweise in Form einer Verzögerungsleitung auszubilden. Dadurch, daß jedoch die Kapazität zwischen den
Teilen des Ablenksystems in Laufrichtung der Elektronen infolge der Vergrößerung des gegenseitigen Abstandes
abnimmt, wird der Wellenwiderstand des Ablenksystems in der Laufrichtung der Elektronen allmählich
höher, so daß die Fortpflanzungsgeschwindigkeit des Signals durch das Ablenksystem nicht konstant ist
und Reflexionen auftreten. Bei dem bekannten Ablenksystem sind darum die Ablenkelektroden so ausgebildet,
daß der Wellenwiderstand des Ablenksystems über seine gesamte Länge konstant ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein als Verzögerungsleitung ausgebildetes Ablenksystem für
eine Elektronenstrahlröhre, bei dem die Ablenkelektroden von Isolierstäben abgestützt werden, die sich am
Ablenksystem entlang und parallel zu diesem erstrekken, zu schaffen, das besonders einfach aufgebaut ist
und keine besondere Gestalt der Ablenkelektroden erfordert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein sich in der Laufrichtung der Elektronen
vergrößernder Teil der Oberfläche mindestens eines der isolierenden Stützstäbe mit einem Leiter abgedeckt
ist.
Dadurch, daß die leitende Abdeckung in der Laufrichtung der Elektronen allmählich ausgedehnter wird,
nimmt deren Kapazität in bezug auf die einander gegenüberliegenden Teile des Ablenksystems zu, wodurch
der Wellenwiderstand über die gesamte Länge des Ablenksystems konstant gehalten wird.
Vorzugsweise wird der abdeckende Leiter jedes Stützstabes durch eine metallene Rinne gebildet, die
einen U-förmigen Querschnitt mit in der Laufrichtung der Elektronen wachsender Länge der Schenkel des
U-Profils hat und die auf dem isolierenden Stützstab befestigt ist.
Diese leitende Abdeckung kann auch aus einer auf die Oberfläche der Stützstäbe aufgebrachten leitenden
Schicht bestehen, die in der Laufrichtung der Elektronen allmählich breiter wird. Als Material für diese
Schicht sind z. B. Kohlenstoff und/oder ein Metall geeignet.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es
zeigt
F i g. 1 im Schnitt ein Ablenksystem mit den Merkmalen der Erfindung,
F i g. 2 einen Schnitt durch einen Stützstab und
F i g. 3 einen Leiter zum Abdecken eines Stützstabes.
F i g. 1 zeigt ein Ablenksystem, das die Form einer Verzögerungsleitung aufweist, die aus zwei schraubenlinienförmig
gewickelten Bändern 1 besteht, zwischen denen ein Elektronenstrahl 2 läuft. Der gegenseitige
Abstand der wirksamen Teile der Bänder 1 des Ablenksystems nimmt in der Laufrichtung des Elektronen-Strahles
2 zu.
Die Bänder 1 der Verzögerungsleitungen sind durch Stäbe 3 an isolierenden Stützstäben 5 befestigt, die z. B.
durch einen keramischen Stab gebildet werden, in dem eine Nut vorgesehen ist, in der ein Glasteil 4 angeordnet
ist. Die Stäbe 3 sind im Glasteil 4 festgeschmolzen.
Die isolierenden Stützstäbe 5 sind in Stützplatten 8 und 9 des Elektrodensystems einer Elektronenstrahlröhre
befestigt.
Zum Konstanthalten des Wellenwiderstandes der Verzögerungsleitungen 1 über die ganze Länge des Ablenksystems
sind rinnenförmige Metallteile 6 mit etwa U-förmigem Querschnitt auf den Stützstäben 5 angeordnet.
Die Schenkel 7 des U-Profils der Teile 6 werden in der Laufrichtung der Elektronen allmählich länger,
so daß die Kapazität der Teile 1 des Ablenksystems in dieser Richtung derart vergrößert wird, daß
der Wellenwiderstand über die gesamte Länge des Ablenksystems nahezu konstant bleibt. Die Teile 6 können
auf die isolierenden Stäbe 5 gedrückt und mit ihren Enden an den Stützplatten 8 und 9 festgeschweißt werden.
Der Körper 6 kann auch als eine Metallschicht oder eine leitende Kohlenstoffschicht auf die Oberfläche der
Stäbe 5 aufgebracht werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Ablenksystem für eine Elektronenstrahlröhre, das mindestens teilweise die Form einer Verzögerungsleitung
aufweist, bei dem der Abstand zwischen den beiderseits des Elektronenstrahles liegenden
Teilen des Ablenksystems in der Laufrichtung der Elektronen größer wird, bei dem das Ablenksystem
über eine Anzahl von sich im wesentlichen am Ablenksystem entlang und parallel zu diesem erstreckenden
Isolierstäben abgestützt wird und bei dem der Wellenwiderstand des Ablenksystems über
die gesamte Länge des Systems konstant ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein sich in der
Laufrichtung der Elektronen vergrößernder Teil der Oberfläche mindestens eines der isolierenden
Stützstäbe (5) mit einem Leiter (6) abgedeckt ist.
2. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der abdeckende Leiter (6) jedes
Stützstabes (5) durch eine metallene Rinne gebildet wird, die einen U-förmigen Querschnitt mit in der
Laufrichtung der Elektronen wachsender Länge der Schenkel (7) des U-Profiis hat und die auf dem isolierenden
Stützstab (5) befestigt ist.
3. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der abdeckende Leiter (6) als
eine leitende Schicht auf die Oberfläche der Stützstäbe (5) aufgebracht ist.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL6603924 | 1966-03-25 | ||
NL6603924A NL6603924A (de) | 1966-03-25 | 1966-03-25 | |
DEN0030193 | 1967-03-21 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1614229A1 DE1614229A1 (de) | 1970-06-25 |
DE1614229B2 true DE1614229B2 (de) | 1975-09-04 |
DE1614229C3 DE1614229C3 (de) | 1976-04-08 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6603924A (de) | 1967-09-26 |
DE1614229A1 (de) | 1970-06-25 |
GB1145960A (en) | 1969-03-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |