DE1539736B2 - Silizium-plantransistor und schaltungsanordnung zum inganghalten der schwingungen eines mechanischen resonators - Google Patents
Silizium-plantransistor und schaltungsanordnung zum inganghalten der schwingungen eines mechanischen resonatorsInfo
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Description
55
Die Erfindung betrifft einen Silizium-Planartransistor
mit einer Halbleiterscheibe mit einer Emitterzone, die an die obere Hauptfläche der Halbleiterscheibe
grenzt, einer Basiszone, die die Emitterzone umgibt und an die obere Hauptfläche der Halbleiterscheibe
grenzt, und einer Kollektorzone, die die Basiszone umgibt, und an die obere sowie an die
untere Hauptfläche der Halbleiterscheibe grenzt, mit einer Emitterkontaktelektrode und einer neben der
Emitterzone angeordneten Basiskontaktelektrode an der oberen Hauptfläche und einer Kollektorkontaktelektrode
an der unteren Hauptfläche der Halbleiterscheibe, und zwar einen solchen Silizium-Planartransistor,
der zum Inganghalten der Schwingungen eines mechanischen Resonators, z. B. für eine elektrische
Armbanduhr dient.
Bei elektronischen oder elektrischen Uhrentypen können prinzipiell zwei Arten von Antriebsschaltungen
unterschieden werden, von welchen die eine keine Trennung von Gleich- und Wechselstrom vorsieht.
Solche Schaltungen können sehr einfach sein und bestehen stets aus einer Kombination von einer
Antriebs- und Rückkopplungsspule, einem Transistor, einem Kondensator, der die Eigenschwingung
dieser Schaltung unterdrücken soll, und einer Batterie.
Diese einfache Schaltung hat speziell für Kleinuhren große Nachteile. Um den Transistor als
Schalter zu benutzen, bedarf es eines Steuerstromes. Dieser wird durch den sich bewegenden Magneten
in einer Rückkopplungsspule erzeugt. Nun ist aber die Emitterkennlinie eines wegen seines kleinen
Leckstromes bevorzugten Siliziumtransistors sehr nichtlinear. Für Emitter-Basis-Spannungen bis zu
0,2 oder 0,3 V fließt praktisch kein Emitter- und daher auch kein Kollektor- oder Antriebsstrom. Bei
0,4 V hingegen beginnt der Emitter-B asis-pn-Übergang zu leiten. Die Nachteile sind: Bei kleinen Oszillatoramplituden
fließt praktisch kein Kollektorstrom. Das Anschwingen eines solchen Systems ist daher ohne äußere mechanische Hilfe schwierig. Um
gegen Stöße unempfindlich zu sein und ein rasches Einschwingen auf die normale Frequenz zu gewährleisten,
muß der normale Arbeitsstrom groß gewählt werden, damit auch im ungünstigsten Fall noch
genügend Steuerspannung induziert wird. Dies bedeutet hohen Energieverbrauch. Eine andere Möglichkeit,
um eine große Sicherheitsmarge für die Steuerspannung zu gewährleisten, ist eine große
Rückkopplungsspule mit vielen Windungen. Diese braucht Platz und erhöht die Kosten. '
Aus diesen Gründen finden Antriebsschaltungen ohne Trennung von Gleich- und Wechselstrom nur
in Standuhren Anwendung. Eine separate mechanische Einrichtung kann bei diesen das Anschwingen
erleichtern. Stöße sind, verglichen mit einer Armbanduhr, selten, und normale, große Taschenlampenbatterien
liefern genügend Energie. Für eine Armbanduhr sind solche Schaltungen praktisch unbrauchbar.
Die zweite Art von Antriebsschaltungen, die eine Trennung von Gleich- und Wechselstrom im Steuerkreis
vorsieht, benötigt in der Regel als zusätzliche Bauelemente einen Trennkondensator und einen
Widerstand, der den Arbeitspunkt des Transistors vor allem beim Anschwingen festlegt.
Der Widerstand erlaubt den Fluß eines Basis-Emitter-Stromes
und setzt so den Arbeitspunkt fest. Im Gegensatz zur Schaltung ohne Trennung von
Gleich- und Wechselstrom ist hier der Basis-Emitterpn-Ubergang bereits in Flußrichtung vorgespannt.
Ein kleiner induzierter Wechselstrom, der über den Trennkondensator den Basisstrom schwach moduliert,
wird so bereits verstärkt und erlaubt ein Anschwingen des mechanischen Resonators, ohne ihn
extra anstoßen zu müssen. Ein weiterer Kondensator zwischen Basis und Kollektor dient der Unterdrükkung
der Eigenschwingung der elektronischen Schal-
tung, deren Frequenz zur Hauptsache durch die Spule gegeben wäre.
Diese Schaltung gestattet, den Energiekonsum sowie die Größe der Spule in den für Armbanduhren
nötigen Grenzen zu halten und dazu einen genügenden Schutz gegen Stöße zu gewährleisten.
Der Silizium-Planartransistor nach der Erfindung erlaubt die gleichen Vorteile der Schaltung mit
Trennung von Gleich- und Wechselstrom im Basiskreis, jedoch unter Einsparung des'; Widerstandes
und eventuell des Kondensators zur Unterdrückung der Eigenschwingung.
Die Erfindung, die einen Silizium-Planartransistor mit diesen Vorteilen ermöglicht, besteht darin, daß
die Basiszone einen sich in Scheibenebene erstrekkenden Fortsatz aufweist, der zum größten Teil von
einem an die obere Hauptfläche der Halbleiterscheibe grenzenden Bereich der Kollektorzone bedeckt ist,
und daß das Ende des Fortsatzes der Basiszone an der oberen Hauptfläche der Halbleiterscheibe mit
der Kollektorzone mittels eines Metallkontaktes verbunden ist. .
Gegenstand einer Weiterbildung der Erfindung ist eine Schaltungsanordnung mit diesem Silizium-Planartransistor
zum Inganghalten der Schwingungen eines mechanischen Resonators, z. B. für eine elektrische Armbanduhr, und zwar besteht diese
darin, daß einerseits in an sich bekannter Weise die Schaltung außer dem Silizium-Planartransistor eine
Spule, einen Kondensator und eine Stromquelle aufweist und die Anzapfung der Spule mit dem Emitter
des Silizium-Planartransistors sowie ein Pol der Stromquelle mit dem Kollektor des Silizium-Planartransistors
verbunden sind und andererseits eines der Spulenenden über den Kondensator mit der Basis
des Silizium-Planartransistors und das andere Spulenende mit einem weiteren Pol der Stromquelle
verbunden sind.
Die Zeichnung zeigt eine Ausführungsform des Silizium-Planartransistors und eine Schaltungsanordnung
für seine Verwendung.
Fig. 1 ist eine schaubildliche Darstellung dieser Ausführung in sehr starker Vergrößerung,
Fig. 2 ein Schnitt längs der Linie 2-2 in Fig. 1,
und
F i g. 3 zeigt das Schema einer Schaltungsanordnung, die zum Anstoßen eines mechanischen Resonators
dient und den Silizium-Planartransistor nach der Erfindung enthält.
Der in den F i g. 1 und 2 gezeigte Silizium-Planartransistor weist eine Scheibe 1 aus Silizium auf,
welche η-leitend ist. Ein pn-Ubergang zwischen Basis- und Kollektorzone wird durch Dotieren der
Basiszone 2 mit beispielsweise Bor geschaffen. Dieses Dotieren kann beispielsweise durch Diffusion vorgenommen
werden, wobei das Gebiet, innerhalb dessen diese Dotierung vor sich gehen soll, mit den
bekannten photolithographischen Verfahren bestimmt wird. Die Form dieses pn-Übergangs unterscheidet
sich von jener der üblichen bekannten Planartransistoren dadurch, daß sie einerseits eine
viel größere pn-Übergangsfläche ergibt, als es für die Anordnung der Basiskontaktelektrode 3 und der
Emitterkontaktelektrode 4 erforderlich wäre, und andererseits dadurch, daß sie einen Fortsatz 5 zeigt,
welcher mit einem metallisierten Abschnitt 6 endet. Bei dieser Ausführungsform besteht dieser Fortsatz 5
aus drei geradlinigen Abschnitten, die mit rechten Winkeln aneinander anschließen. In anderen Ausführungsformen
könnte er auch serpentinenartige Form haben.
Der pn-Übergarig zwischen Emitter- und Basiszone,
dessen Umrißform in F i g. 1 mit unterbrochenen Linien gezeigt ist, kann durch Dotieren der
Emitterzone 7, beispielsweise mit Phosphor, erhalten werden, und zwar nach den gleichen Verfahrensschritten wie den zur Bildung der Basiszone 2.
ίο Der Silizium-Planartransistor besitzt einen pnübergang
zwischen Basis- und Kollektorzone nicht üblicher Art, von dem ein Teil durch Dotieren des
Bereiches 7 der Kollektorzone 14 zur gleichen Zeit und in der gleichen Art wie die Emitterzone 7 gebildet
wird. In Fig. 1 ist der Umriß dieses Bereiches 8 ebenfalls mit unterbrochenen Linien dargestellt.
An der Unterseite 9 der Siliziumscheibe 1 ist die Kollektor-Kontaktelektrode angebracht.
Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Anordnung der Oxydschichten nicht erläutert worden, da diese
bei der Erzeugung von Planartransistoren allgemein bekannt ist.
Die Arbeitsweise des Silizium-Planartransistors ist folgende: Die große Kapazität zwischen Kollektor-
und Basiszone ergibt sich vor allem durch die große Flächenausdehnung der Basiszone 2 und des weiteren
durch jene des Bereiches 8 der Kollektorzone 14, die den größten Teil des Fortsatzes 5 der Basiszone
2 überdeckt und damit die Fläche des Basis-Kollektor-pn-Übergangs vergrößert. Der Bereich 8
ist ganz besonders wichtig für das Zustandekommen dieser Wirkung, da seine Konzentration an Verunreinigungen
und damit die Verunreinigungskonzentration am pn-Ubergang zwischen der Basiszone 2
und dem Bereich 8 der Kollektorzone 14 wesentlich höher ist als jene am pn-übergang zwischen dem
an die untere Hauptfläche der Siliziumscheibe 1 grenzenden Bereich der Kollektorzone 14 und der
Basiszone 2, wodurch die Kapazität pro Einheit der Fläche sehr stark vergrößert wird. Beispielsweise
kann die Gesamtkapazität zwischen Basis- und Kollektorzone zwischen 50 und 600 pF bei 0- V
liegen. Bei den üblichen bekannten Planartransistoren, die zur Zwischenfrequenz- und zur Hochfrequenzverstärkung
verwendet werden, ist. diese Kapazität vernachlässigbar gering und wird dadurch vermieden, daß die Fläche des Basis-Kollektor-pn-Uberganges
auf das notwendige Ausmaß zurück-
geführt wird, indem für die Emitterzone 7 und die Basiskontaktelektrode 3 nur die tatsächlich erforderlichen
Flächengrößen zugelassen werden.
Das Verhältnis zwischen der Fläche des Kollektor-Basis-pn-Ubergangs
und der Fläche des Basis-
Emitter-pn-Übergangs ist größer als 10 vorgesehen; vorzugsweise liegt es zwischen 100 und 10 000.
Der Kollektor-Basis-Strom wird durch die Spannung zwischen Kollektor und Basis und durch den
Widerstand des Fortsatzes 5 bis zu der Verbindung 6 gesteuert. Die hohen Widerstandswerte von beispielsweise
0,1 bis 5 Megohm zwischen Basis und Kollektor werden einerseits durch das Vorhandensein
eines Fortsatzes 5 der Basiszone 2 und andererseits durch Verringern des Querschnittes dieses
Fortsatzes 5 der Basiszone 2 unterhalb des dotierten Bereiches 8 der Kollektorzone 14, wie in der F i g. 2
im Schnitt gezeigt, erreicht. Durch die Art der Anordnung des Bereiches 8 befindet sich der wirksame
Teil des Fortsatzes 5 innerhalb des hochohmigen Bereiches der diffundierten (dotierten) Basiszone 2.
Die üblichen Verlustströme über den Basis-Kollektor-pn-Ubergang
werden innerhalb des Bereichs 8 gering gehalten. Es ist auf dem Gebiet der Halbleitertechnik
wohl bekannt, daß bei der Diffusion, die aus auf die Oberfläche aufgebrachtem flüssigem
Glas, welches Bor oder Phosphor enthält, vorgenommen wird, außerdem das flüssige Glas wie
ein Getter wirkt und übermäßige Verlustströme vermeidet. Im Falle, daß der Bereich 8 durch ein solches
Diffusionsverfahren gebildet worden ist, vergrößert die zusätzliche Fläche des Basis-KoUektorpn-Ubergangs
den üblichen Verluststrom über diesen pn-übergang nur unwesentlich.
Nachdem des weiteren der Bereich 8 den größten Teil der Basiszone 2 überdeckt, ergibt sich, daß der
Basis-Kollektor-pn-Übergang nicht in einer Länge an die Oberfläche kommt, die dem Verhältnis der
Flächenvergrößerung entspricht. Dies verhindert das ao Entstehen von Verlustströmen an der Oberfläche,
die im allgemeinen wesentlich größer sind als jene, die durch den Halbleiterkörper selbst fließen.
Der scheinbare Strom ICB0 zwischen Basis und
Kollektor ist demnach durch den Widerstand des Fortsatzes 5 der Basiszone 2 und durch die Spannung
zwischen Kollektor und Basis bestimmt.
Der hohe Verstärkungsfaktor, der sich bei sehr geringem Leistungsniveau ergibt, ist durch die Wahl
der Größe der Emitterzone gegeben, der so klein ausgeführt wird, als dies die technischen Möglichkeiten
zulassen; das ist ein Durchmesser von 4 bis 50 μΐη.
Die Ausbildung des Silizium-Planartransistors nach der Erfindung verlangt bei der Herstellung
keinerlei zusätzliche Maßnahmen. Aus diesem Grunde sind die Herstellkosten durchaus vergleichbar
denen für einen üblichen bekannten Planartransistor.
Trotz der Abänderungen der Form der Zonen bei dem Silizium-Planartransistor nach der Erfindung gegenüber einem bekannten Planartransistor
wird ein hoher Verstärkungsfaktor bei geringem Leistungsniveau erzielt. Das Gesamtvolumen ist
wenig größer als jenes eines üblichen bekannten Planartransistors.
Die F i g. 3 zeigt eine Schaltungsanordnung zum Anstoßen eines mechanischen Resonators. Der
Oszillatorkreis wird durch einen mechanischen, nicht gezeigten Resonator gesteuert und enthält den
Silizium-Planartransistor nach der Erfindung. Diese Schaltung eines LC-Oszillators kann normalerweise
nicht auf der verhältnismäßig hohen Frequenz schwingen, die durch die Selbstinduktion L und
durch deren Kapazität gegeben ist, da die hohe Kapazität des Kollektors des Silizium-Planartransistors
nach der Erfindung für diese Frequenz einen Kurzschluß bildet. Diese Schaltung, dient aber
zum Betrieb eines mechanischen Resonators niedriger Frequenz, welcher mittels Magneten, die am
Resonator angeordnet sind, mit der Spule gekoppelt ist. Diese Magneten drücken der Spule durch Induktion
eine Wechselspannung auf, so daß der Silizium-Planartransistor nach der Erfindung wie ein Unterbrecher
für diese niedrige Frequenz arbeitet, welche die Energie zum Inganghalten der Schwingung des
mechanischen Resonators liefert. Die Kapazität des Kollektors behindert die richtige Funktion bei dieser
niedrigen Frequenz in keiner Weise. Der Strom, welcher durch den Fortsatz 5 der Basiszone 2 zur
Kollektorzone 14 fließt, dient vor allem zum Anstoßen der Schwingungen.
Außer dem Silizium-Planartransistor 10 enthält die Schaltung nur eine Spule 11, die mit einer Anzapfung
am Emitter liegt und deren beide Enden einerseits mit der Basis über einen Kondensator 12
und andererseits mit dem negativen Pol einer Batterie 13 verbunden sind, deren positiver Pol mit dem
Kollektor des Silizium-Planartransistors verbunden ist. Ein Planartransistor üblicher bekannter Bauart
würde in einer derart einfachen Schaltung nicht funktionieren.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Silizium-Planartransistor mit einer Halbleiterscheibe mit einer Emitterzone, die an die
obere Hauptfläche der Halbleiterscheibe grenzt, einer Basiszone, die die Emitterzone umgibt und
an die obere Hauptfläche der Halbleiterscheibe grenzt, und einer Kollektorzone, die die Basiszone
umgibt und an die obere sowie an die untere Hauptfläche der Halbleiterscheibe grenzt, mit
einer Emitterkontaktelektrode und einer neben der Emitterzone angeordneten Basiskontaktelektrode
an der oberen Hauptfläche und einer Kollektorkontaktelektrode an der unteren Hauptfläche
der Halbleiterscheibe, zum Inganghalten der Schwingungen eines mechanischen Resonators,
dadurch gekennzeichnet, daß die Basiszone (2) einen sich in Scheibenebene
erstreckenden Fortsatz (5) aufweist, der zum größten Teil von einem an die obere Hauptfläche
der Halbleiterscheibe (1) grenzenden Bereich (8) der Kollektorzone (14) bedeckt ist, und daß das
Ende des Fortsatzes (5) der Basiszone (2) an der oberen Hauptfläche der Halbleiterscheibe (1) mit
der Kollektorzone (14) mittels eines Metallkontaktes (6) verbunden ist.
2. Silizium-Planartransistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis
zwischen der Fläche des Kollektor-Basis-pn-Überganges größer ist als 10 und vorzugsweise zwischen
100 und 10 000 liegt.
3. Silizium-Planartransistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Fortsatz
(5) abgewinkelt ist.
4. Schaltungsanordnung mit einem Silizium-Planartransistor nach einem der Ansprüche 1
bis 3 zum Inganghalten der Schwingungen eines mechanischen Resonators, dadurch gekennzeichnet,
daß einerseits in an sich bekannter Weise die Schaltung außer dem Silizium-Planartransistor
(10) eine Spule (11), einen Kondensator (12) und eine Stromquelle (13) aufweist und die Anzapfung der Spule (11) mit dem
Emitter des Siliziurri-Planartransistors (10) sowie ein Pol der Stromquelle (13) mit dem Kollektor
des Silizium-Planartransistors (10) verbunden sind und andererseits eines der Spulenenden
über den Kondensator (12) mit der Basis des Silizium-Planartransistors (10) und das andere
Spulenende mit einem weiteren Pol der Stromquelle (13) verbunden sind.
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