DE1522514A1 - Verfahren zum Herstellen von Abdeckschichten und lichtempfindlichen organischen Filmschichtbildnern hierzu - Google Patents

Description

_βχ ■ Berlin,d.9.6.1961 Power« Chenco,Inc.» 21 Charles Street, Glen Cove,New !fork, USA - ■■

Verfahren zum Herstellen von Abdeckschichten und lichtempfindlichen organischen Pilmschicht-

hierzu 152251

Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues vorteilhaftes Verfahren zum Herstellen von Abdeckschichten auf einer Vielzahl verschiedenartiger Oberflächen. Die bisher bekannt 'gewordenen Verfahren und BeBchichtungsflüssigkeiten weisen als wesentlichen Nachteil eine relativ geringe Widerstandsfähigkeit gegenüber mechanischen und chemischen Einflüssen auf. Ziel der vorliegenden· Erfindung ist es solche Schichten herzustellen, die sowohl in chemischer als auch in mechanischer Hinsicht ausserordentlieh widerstandsfähig sind und sich gleichzeitig in einfacher Weise herstellen und in ihrer Härte und Widerstandsfähigkeit beeinflussen lassen.

Entsprechend den Untersuchungen der Anmelderin hat sich ergeben, daß derartige Schichten dadurch erzielt werden können, daß das entwickelte, lichtempfindliche eigentliche Beschichtungsmaterial, derart wie es für ■ photomechanische Anwendungszwecke bekannt geworden ist eine ausaerordentliche und sichere Härtung, der nach dem Entwickeln verbliebenen Schicht erfahren kann. Derartige. in erfindungsgemäßer Y/eise gehärtete Schichten weisen sla. einen besonderen Vorteil auf, daß sie auch in alkaliscisn Ätz - und Gralvanisierungsbädern ausgezeichnete Be;.-te.r Ugkeit besitzen.

Das erfindungsgemäße Verfahren besteht in der Herstellung lichtempfindlicher Schichten nach Art der Photolaoke auf geeigneten Oberflächen, indem die betreffenden Oberflächen zunächst mit einem Überzug aus einem organischen, filmbildenden, lichtempfindlichen

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Material versehen werden, dessen Löslichkeit in geeigneten Lösungsmitteln sich bei Belichtung verändert und das OH, NH oder NH₂ Gruppen besitzt, die mit einem organischen Isocyanat reagieren können, das. anschließend · die einem gewünschten Muster entsprechenden Bezirke belichtet werden, wodurch sich in diesen Bezirken die Löslichkeit der aufgebrachten Schicht verringert, daß anschließend daran die nicht belichteten Teile der Schicht in ansich. bekannter Weise weggelöst werden und daß schließlich die in den den gewünschten Mustern entsprechenden Bezirken befindliche Schicht einem organischen Isocyanat ausgesetzt wird um sie dadurch stärker zu härten.

^wie sieh weiterhin gezeigt hat gelingt es mit diesem Veriaaren auscerordentlich widerstandsfähige Schichten selbst d:nn herzustellen wenn der eigentliche Schichtbildner in bisher üblicher Anwendung nur wenig widerstandsfähige außerordentlich laicht verletzbare Schichten ergeben würde. Ein besonderer Vorzug, dsr nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergest:-"*"^{; :} :-..·. AMeckschichten ist ihre ausserordentlich gute mechanische Widerstandsfähigkeit, die sie damit besonder geeignet erscheinen läßt für die Verwendung für Flachdruckvorlagen.

Ein weiterer Vorzug des erfindungsgemäßen Verfahrens ist, daß die Belichtungszeit der aufgebrachten Schicht ehe sie entwickelt wird wesentlich geringer gewählt."-' werden kann als bei Verwendung des gleichen Filmbildners in biher üblich gewesener V/eise. Das Verfahren zeichnet ^; sich ausaerdem durch ausserordentliche Zuverlässigkeit aus und führt in einfacher Weise zu fehlerfreien insbesondere Blasenfreien Abdeckschichten. .

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Typische Vertreter der lichtempfindlichen filmbildner der vorliegenden Erfindung sind solche, die ein großes Molekulargewicht besitzen und entweder selbst lichtempfindlich Bind oder durch Zusatz eines Chromsalzes wie beispielsweise Ammonium - Natrium - Kalium- oder Magnesiumchromat oder Bichromat lichtempfindlich gemacht werden. Als derartige Filmbildner hohen Molekulargewichts mögen beispielsweise angeführt werden Kohlehydrate, Gelatine und ähnliche Verbindungen, die, durch Zusatz von Chromsäuresalzen lichtempfindlich gemacht werden und unter den eiweißariigen Verbindungen seibb Schellack, Zeine und Polyvinylverbindungen genannt, die ebenfalls mit eine-π ;b ---mpauresalz lichtempfindlich gemacht werden und die Ii ■ ;,.findlichen Zellulose ester hohen Molekulargew-jir ■ o,> 1« Stärke und Polyvinylalkohol.

-JTaöh der Entwicklung der belichteten Seicht auf der für die Äteung oder Plattierung bestimmten Metallplatte, wird die Oberfläche de» entwickelten Abdeckschicht durch Spülen in klarem Walser gereinigt und «aschließend getrocknet. Sodann wird die Schicht einer Härtung durch Eintauchen für wenigstens einige Sekunden in die wasserfreie Lbeung eines organischen Cyanate, Isocyanate oder Polycyanate unterzogen. Die Eintauchzeit kann bis auf IO Minuten und noch, weiter verlängert werden. Danach wird die Platte gespült, getrocknet und wenigstens für einige Stunden bei Raumtemperatur gelagert oder bei milder Wärme für eine halbe Stunde im Ofen nachbehandelt. Die Platte ist dann für die Weiterbehandlung nach den Üblichen Ätz- und Plattierverfahren gebrauchsfertig.

Von den üblicherweise verwendeten lichtempfindliohen Widerstandsiaoken haben sich für das Verfahren nach der vorliegenden Erfindung diejenigen als brauchbar erwiesen, die Molekulargewichte über 900 aufweisen 'vorzugsweise aber solche über 10 OQO. Weiterhin müssen die für das erfindungsgemäße Verfahren brauch-

OW, WtT oder NH_n Gruppen besitzen

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die zur Reaktion mit organischen Oyanaten fähig sind als solches kommt beispielsweise Tolylendisiocyanat in Präge.

Die lichtempfindlichen Abdeckschichten werden durch eine Tauch- Sprüh - oder Schleuderverfahren auf die zum Ätzen oder Plattieren bestimmte Metallplatte aufgebracht und nach dem Trocknen in der üblichen Weise unter Abdeckung durch ein dem gewünschten Muster entsprechendes Negativ ■für die erforderliche Zeit der Belichtung ausgeätzt, wie es im graphischen Gewerbe und verwandten Gebieten üblich ist. Nach der Belichtung wird das Negativ entfernt und die Schicht mit verschiedenen Lösungmitteln entwickelt die die Ablösung der unbelichteten Schicht bewirken. Dabei wird die Metalloberfläche von jeder Schutz- oder Abdeckschicht in den unbelichteten Bezirken befreit, so dai,5 diese dem Ätz-ooer Flsttler.aig^prOzeas nach den speziellen Erfordernissen ausgesetzt werden kann.

Nach der Entwicklung, Spülung und Trocknung aber bevor die Platte dem Ätz- oder Plattierüngsbad ausgesetzt .wird, ./ird diese-inincieütens für einge Sekunden in ein Bad getaucht, das eine Lösung eines Isocyanats, Diisocyanate oder Polyisocyanate in einer gegen die Cyanate inerten, wasserfreien Lösung enthält. Nach der entsprechenden Spülung wird die Platte entweder bei leichter Wärme im Ofen oder bei Raumtemperatur getrocknet.

Zur Entwicklung der Schicht beispielsweise einer Polvvinylbut, ralsciiicht kann man einwertige Alkohole verwenden und diesen aromatische Löirmgsiaittel wie Benzol, Toluol oder Xylol zusetzen. Man beläßt die Platte unter leichter Bfidbewegung für einige Minuten in der Entwicklerlösung und kann dann, vorzugsweise ohn irgendeine mechanische Behandlung wie Bürsten oder dergleichen, die unbelichtete Schicht einfach abler:en. Anschließend läßt man den überschüssigen Entwickler ablaufen, spült und trocknet.

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BAD Oiw:?;AL

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Nach der Entwicklung aber vor dem Ätz- oder Plattierungsvorgang vd.rd die Platte der bereits beschriebenen Härtungebehandlung in einer wasserfreien Isocyanat Lösung junterzogen, .danach ist die Schicht wesentlich, widerstandsfähiger gegen die Chemikalien des Ätz- oder Plattierimgsbades.

Unter den für die Herstellung von Abdeckschichten brauchbaren stoffen gibt es einige, die bereits von ΪΓ-rtur aus lichtempfindlich sind andere werden d:irch Zusatz geeigneter öhromsäures; lze lichtempfindlich gemacht. Hierfür sind die wasserlöslichen Chromsäuresalze v/ie die des Ammoniums , Natriums, Kaliums und JVt-; gnesiums besondersgeeignet.

Die vorangegangene Beschreibung hat nur beispielhaften Charakter und stellt in keiner l/eise eine Abgrenzung der Erfindung dar in den nun folgenden Beispielen v/ird die Erfindung noch genauer beschrieben.

Der lichtempfindliche Abdecklack wird vorzugsweise aus Lösungen der folgenden Zusammensetzung hergestellt:

Beispiel I

30-100 g einer TQ# äthylalkoholischen Lösung (Viskosität 5O-.1.5Ocpa/2O C) werden mit 1000 G-ev/ichtsteilen

der folgenden -ijösung verdünnt: ■

Einwertiger Aiko·--öl

(1-3 C AtomeJ /50-60 Uew.#

Höherwertiger Alkohol -

(4-6 C Atome) 15-20 Gew.^

Xylol ί'Ο-4'O Gew ^v<>

Wasser ?-7

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Diese Mischung wird vor dem Auftrage lichtempfindlich gemacht indem man ihe O.25$ - 1.5$ vorzugsweise 0.5?? - 1·5'< Gev.iehtsteile der nachfolgenden Lösung zusetzt;

Magnesiumbichromat 15-30 G-ew.^c'

Dimethylformamid 30-4-5 "

30-45 "

Nach der Belichtung wird die Abdeckschicht in

einer Lösung entwickelt die aus einem oder mehreren wasserfreien Alkoholen besteht deren Kohlenstoffatomzahl zv/ischen 1 und 6 liegt und der kleinere Mengen aromatischer Stoffe wie Benzol, Toluol oder Xylol zugesetzt werden.

Genauer wer de ti die lichtempfindlichen Abdecklacke folgendermaßen zusammengesetzt: -

Butvar B 98 (ΡοΓ/vinylbutyral) 5 Gew.^

10?4 äthyl^lkh. Lsg. Viskosität 75cps

Diaceton Alkohol ?Q !' .

n-Propanol 45 "

Xylol 30 "

Zur sensihilisierung v/erden auf 1 1 dieser Mischung ::-'-?0ml vorzugsv/eise 10ml der folgenden Lösung zugegeben

Magnesiumbichroraat . " 200 g

Dimethylformamid 4QQ g

Wasser 400 g

nach Zusatz wird gut d'urchgemischt.

-^iesor Abdeaklacfe wird *zur weiteren Verwend ng vermittels eintra Giels- Tauch- Sprüh - oder ocleuderverfahreriB auf din e.ntt· ure chemie Ifettilloberf^; äche aufgebract. ü'iir- den J-¹-. 11, daß die platte im -Jteindr ickverfaliren ver- et »erden soll wird ein Aufstreichverfanreri angev/endet.

SAD

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Bei Anwendung des Tauchverfahrens kann die erwünschte Schichtdicke durch mehrfaches Tauchen erzielt werden.indem man die Platten zwischen den einzelnen Taxichvorgängen um 180° dr eht

Soll statt einer Platte ein ^wetallzylinder verwendet werden so wird hier der Lack ambesten vermittels eines Sprühverfahrens aufgebracht vorzugsweise bläst'man während des S.prühens Warmluft aiii' die Zylinderoberfläche.

Die Belichtung geschieht für den ijeitra^m von einigen Minuten mit intensivem Actiniumlicht. Während der Belichtung ist die Schicht mit dem Negativ des gewünschten Musters abgedeckt, Nach Entfernung des l'Jegr;tiv is.t die Schicht bereit zur Entwieklung. .

Als Entwickler wird vorzugsweise 99?$ Methanol verwendet vein Zusätze von 20-40^ Benzol, ToIi öl oder Xylol gemacht .werden' könnendes können auch höhere Alkohole verwendet werden.

Die nach Beispiel 1 belichtete -in-.' entwickelte Schicht wird für einen Zeitraum von 15 Sekunden bi« zu einigen Minuten in eine lösung getaucht die bei spie] sveis'.e aus p-p diphenylmethandiisoc5^ranat welches in ein: r Hischung aus gleichen Teilen Xylol und Trichloräthylen oder auch. aus reinem Toluol oder Xyxlol gelöst ist, besteht. Die Konzentration ües Diisocyanats sowie ait· iCintauch daaer sind nicht kritisch, die Konzentration k-^nn zv;ii;chcn 3 und 20^ variiert werden di ' Eintauchzeit zwischen 15 'elr mden und etwa 20 Minuten.

Andere Isocyanate kennen in äqu v=-.lenten Konzentra tionen in ähnlichen Lusv.ngr:mitteln ver .,^;e..det werde unter ihnt;n seien die folgenden genannt :

2.4 Toiylendiisocyanat
p-phenylendiisocyanat
Hexanethylendiisocyanat

1.5 Waphtalindiisocyanat
Äthylieocyanat

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n-Butylisocyanat

octadecyisocyanat .

ρ -chlorphenylisocyanat

Phenylisocyanat

Das Isocyanat des Tolylendisdicyanats und das

dreifunktionale Polyol das ein Verhältnis von

NCO zu OH wie 2:1 hat . Das Polyol hat die Formel

G₂H₅C (CH₂OH)₃ '

Triphenylmethantriisocyanat
Polyisocyanat

Nachdem die Isocyanat lösung kurze ^eit auf die entwickelte und getrocknete Schicht eingewirkt hat wird die Platte unter klarem fließenden Wasser gespült und entweder wenigstens mehrere Stunden vorzugsweise 1-2 Tage bei Raumtemperatur oder 10-3P Minuten im Ofen "bei Temperaturen zviuclii.n 50 und 100 C getrocknet.

Vorzugsweise werden Polyvinylbutyralschichten mit p-p nethyldffiphenyldiisocyanat behandelt, da dieser Stoff vergleichsweise \,enig giftig ist. Bei Verwendung entsprechender Schutzmaßnahmen geben auch 2,4 Tolylendiisocyanat und polylisocyanat zufriedenstellende Ergebnisse.

Im folgenden geben wir weitere Beispiele für die Herstellung von lichtempfindlichen Abdecklacken:

Beispiel 2	50 g
Polyvinylbutyral (?'5cps)	100 g
Diaoetonalkohol	200 g
Xylol	500 g
η - Propanol	200 g
1 - Hexanol

Dieser Lack wird nit -8 rnl/l der folgenden Lösung lichtempfindlich gemacht:

Mt-.gnesiumbichromat 25 g

Dimethylformamid 40 g

y.^ras;jer 40 g

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Beispiel 3

Polyvinylbutyral (75cps) 50 g

Isopropanol 600 g

Äthanol 99^ ~ 200 g

n-Butanol 200 g

• Zum lichtempfindlich machen werden pro Litei ml der folgenden Lösung verwendet:

Ami. ίο ni umb i ehr ο mat 10 g

Dimethylformamid 45 g

Wasser 45 g

Beispiel 4

Polyvinylbutyral (75 cpß) 50 g

n-Propanol 500 g

Methanol ■ 300 g

1-Hexanol 200 g

Zum lichtempfindlich machen werden pro Liter ml der folgenden Lösung verwendet :

Magnesiumbichromat 25 g

Äthanol 95?' 95 g

Beispiel 5

Schellack " . 50 g

, . Alkohol (Denaturiert) 95Og

Zum Lichtempfindlich machen werden 10 ml pro Liter der folgenden Lösung verwendet:

Magnesiumbichromat 25 g

Dimethylformamid 40 g

Wasr.er 35 g

Die belichteten Schichten werden in Methanol oder denaturiertem Alkohol, der vorzugsweise mit Methylviolett gefärbt ist, entwickelt.

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Beispiel 6

Polyvinylbutyral (75 cps) '5Og

Äthanol 95£ ' 500 g

n-Butanol ^00 g

Xylol . 200 g

Zum lichtempfindlich machen werden 10 ml pro Liter der folgenden Lösung verwendet:

Ammoniumchromat 10 g

Dimethylformamid 30 g

Wasser 45 g

Nach dem Jiint v/i ekeln des Lackes nach den Beispielen 2-6 werden die Lackschichten nach dem Spülen und Trocknen gehärtet und dadurch gegen chemische und mechanische ilinflüsüe widerstandfähiger gemacht. Zu diesem Zweck werden die beschichteten, belichteten und entwickelten Platten für einige Sekunden bis Minuten in ein Bad getaucht das ein organisches -Lsocyanat in einem wasserfreien organischen Lösungsmittel zu 5^ oder nehr enthält. Als Lösungsmittel kann Xylol.Toluol '■'•'richloräthylen unü Kiüchun^en von diesen verwendet werden. Wichtig ist, daß das Lösungsmittel vollständig wasserfrei ist, und keine OH, NH Oder NH_{2 Gruppen oder andere Radikale e}nthalt, die mit aem Isocyanat reagieren konnten. Ein Härtungsbad wie es sich auch für die Beispiele 2-7 eignet wurde in Beispiel--T gtJge-Den.

Beispiel 7

Lichtempfindlich gemachter Schellack ist für die vorliegende Erfindung sehr gut geeignet. Die Schellack Lösung enthält hierfür:

'7asuer (von etwa 80⁰C) 5 1' '

Ammoniiimkcrbonat 105 g

Schellack 4^0 g

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Die Herstellung der Lacklösung erfolgt folgendermasüen : etwa 100 g Schellack werden in das heiße Wasser gegeben und dann das vorher schon gelöste Ammoniumkarbonat zugesetzt direkt danach wird der Rest des Schellacks unter fortgesetztem Rühren zugesetzt. Anschließend wird die Mischung etwa 15-20 Minuten unter gelegentlichem Umrühren gekocht und dann abgekühlt. In die abgekühlte Lösung gibt man 150 ecm konzentrierten Ammoniak untfcr .ständigem Rühren anschließend wird die Sensibilisierungslösungbestehend aus:

Ammoniumbichromat 24 g

Wasser 25Og ebenfalls unter

ständigem Rühren zugesetzt. Nach 24 Stunden kann die filtrierte Mischung verwendet werden.

Das Aufbringen der Schicht geschieht in einem Schleuderverfahren in möglichst warmer Atmosphäre. Die Entwicklung der abgekühlten und anschließend belichteten Platte wird in gefärbtem Alkohol vorgenommen, welcher den unbelichteten Schellack weglöst während die belichteten Bezirke den Farbstoff aufnehmen und so ein sichtbares Bild auf der Metallplatte geben. Bei diesem Entwicklungsvorgang kann vorzu^-sweise folgenden Bad verwendet werden:

Alkohol (denaturiert) 18 1 v/asser 2 1 '

Methylviolett oddr
Malachitgrün 30 g

Zur Entwicklung werden die Platten senkrecht ins Bad gebracht md werden anschließend unter fließendem Wasser gewaschen und trocken geschleudert. Dareuf folgt die Härtung der Sehellackschicht durch Eintauchen in ein Bad bestehend aus: 10 Gew <* /Vol. Lösung von p-p diphenylmethanisoeyanat in gleichen Teilen Xylol und Trichlorätiiylen.

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Die Oberfläche der Platten wird dann in fließendem ,'asser gespült und wie vorher beschrieben getrocknet sie können dann sowohl für das Ätz wie für das Plattierungsverfahren verwendet werden.

Beispiel 8

Carboxiliertes Polyvinylacetat kann ebenfalls nach der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Vorzugsweise wird hierfür folgende Mischung benutzt:

Polyvinylacetat	5 g
Diazeton	20 ml
Xj IpI	30 ml
ü- $!Topanol	46 ml
Wasser	4 ml

Zur Sensibilisierung werden 2 ml/iOOinl der unxer Beispiel 7 beschriebenen Lo" si ing ver'.,endet. Nach der Belichtung erfolgt die Entwicklung in

Äthanol 70 Vol.#

Methanol 20 VoI ?5

Xylol 10 VoI $>

!lach der Entwicklung vird die Schicht nach Beispiel 1 weiterbehandelt.

Beispiel 9 '·

Kodak "KPR" ist ein lichtempfindlicher 3_chutzlack der eine Lös..-.ng des Zimmtsäurepolyvinylesters enthält bei dem 7Of' der OH Gr ippen frei zur Reaktion mit einem organischen Isocyanat sind. Die Los'mg vird wie obenbeschrieben auf eine Metallplatte gebracht getrocknet und belichtet and in einem Bad aus chloriertem Kohlenwasserstoff beispielsweise Methylenchlorid entwickelt.

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Nach, dem Spülen und Trocknen wird die Schicht in einer 10fo igen diphenylmethandiisocyanat lösung in Xylol oder Toluol gehärtet , nach dein Spülen und Trocknen ist sie zur Weiterverarbeitung nach dem Ätz-Oder Plattierverfahren bereit.

Die Erfindung ans!eh ist durch die hier gegebenen Beispiele nur bei.;dirieben aber nicht abgegrenzt, innerhalb der Patentansprüche sind zahlreiche Variationsmöglichkeiten gegeben ohne voiii G-rundged ■ nkvn cUt Et find ing abzuvireichen. ■

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Claims (12)

Patentansprüche

1. Verfahren zum Herstellen einer lichtempfindliehen Schicht nach Art der Photolacke auf geeigneten Oberflächen dadurch gekennzeichnet, daß die betreffenden Oberflächen zunächst mit einem Überzug aus einem organischen filmbildenden lichtempfindlichen Material versehen werden, dessen Löslichkeit in geeigneten Lösungsmitteln sich bei Belichtung verändert und das OH, NH oder UHp Gruppen besitzt, die mit einem organischen Iaocyanat reagieren können, das anschließend die einem gewünschten Muster entsprechenden Bezirke- belichtet werden, wodurch sich in diesen Bezirken die Lößlichkeit der aufgebrachten Schicht verringert, daß anschließend daran die nicht belichteten Teile der Schicht in anaich bekannter Y/eise weggelöst v/erden und daß schließlich

«den,
die in denYgewünschten Mustern entsprechenden Bezirken befindliche Schicht einem organischen Isocyanat ausgesetzt wird um sie dadurch stärker zu härten.

2. Verfahren nach Anspruch 1 in'welchem der filr.ibildende Photolack aus Polyvinylbutyral besteht, das mit einem löslichen Chromsäuresalz lichempfindlich gemacht wurde.

3» Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 in welchem das organische Isocyanat p-p'diphenyldiisocyanat ist.

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4* Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 in welchem das organische Isocyanat 2,4 - tolylen-diisocyanat ist.

5. Verfahren nach Anspruch 1 wobei als lichtempfindlicher Schichtbildner ein Cinnamat des PoIyvinylalkohols verwendet wird. .

6. Verfahren nach Anspruch 1 wobei der lichtempfindliche 3chichtbildner ein Carboxyl des PoIyvinylazetats ist welches ein lösliches Chromsäuresalz enthält.

7. Verfahren nach Anspruch 1 wobei der lichtempfindliche Schichtbildner mit einem Chromsäuresalζ lichtempfindlich gemachter Schellack iöt.

B. Lichtempfindliches Beschiclit urvsmaterial zum Ausführen des Verfahrens nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem organischen lichtempfindlichen Filmbildner besteht wobei der Filmbildner OH, NH oder IiHp Gruppen besitzt, die zu einer Reaktion mit dem organischen Isocyanat verfügb-.r sind.

9) Lichtempfindliches Beschichtungsmaterial nach Anspruch 7 dadarch gekennzeichnet, daß als filmbildner Polyvinylbutyral benutzt wird, das als 10$ Lösung in 95$ Äthanol eine Viskosität zwischen 50 und 150 Centipoise vorzugsweise 75 Centipoiseaufweist.

10) Lichtempfindliches Beschichtungsmaterial nach. Anspruch 8 dadurch geicennzeichnet, daß dieses mit in Dimethylformamid gelöstem Magnesiumdichromat sensibilisiert wird.

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11) Lichenipfindliche Beschiciitungsflüssigkeit nach Anspruch. 7-9 dadurch gekennzeichnet, daß diese Flüssigkeit eine geringe Menge Wasser enthält.

12) Verfahren zum Herstellen von Abdeckschichten, die einem gewünschten und vorbestimmten Muster ent- ■ sprechen dadurch gekennzeichnet, daß diese Abdecksclilcht vermittels Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 oder einem der Ansprüche 2-6 hergestellt wird.

Patentanwälte

Seiler u, Pfenning

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