DE1519908A1 - Vorrichtung zum Herstellen eines kristallinen Stabes durch tiegelfreies Zonenschmelzen - Google Patents
Vorrichtung zum Herstellen eines kristallinen Stabes durch tiegelfreies ZonenschmelzenInfo
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Description
Vorrichtung zum Herstellen eines kristallinen Stabes durch
tiegelfreies Zonenschmelzen
Zum Züchten von stabförmige« Halbleitereinkristallen, aus denen
elektronische Halbleiterbauelemente hergestellt werden sollen, hat sich seit langem das tiegelfreie Zonenschmelzen bewährt.
Hierzu kann ah einem Ende eines stabförraigen, polykristallinen
Haibleiterkörpers ein einkristalliner Keimkristall mit geringerem Durchmesser als dem des Halbleiterkörpers, beispielsweise mittels
einer lnduktionoheizspule,. angeschmolzen werden. Anschließend
wird von der Arujchinei/.s teile ausgehend-die Gchmelzzone mindestens
einmal durch deu stabförmiger. Halbleiterkörper bewegt. Hierdurch
BAD ORIGINAL
PLA 66/1885
wird der poiykri'e tail ine Halbleiterkörper in einen Einkristall
umgewandelt. Außerdem können Fremdstoffe aus dtm Haloleiterkörper
ausgeschieden oder an einem Snae des Halbleiterkörpers abgelagert werden. Zur Herstellung elektronischer Halbleiterbauelemente ver-,
wendete« Halbleitermaterial muß vielfach nicht nur einkristallin
und arm an Rekombinationszentren bildenden Verunreinigungen sein, sondern es darf auch möglichst wenig Versetzungen aufweisen, die
die Homogenität des Haibleiterkörpers und damit die elektrischen
Eigenschaften des aus ihm hergestellten Halbleiterbauelementes
stören können. Die Versetzungen verringern insbesondere die Lebensdauer der Minoritätsträger im Halbleitermaterial. Die letstgenannte Forderung, d.h. das Zonenschmelzen von versetsungsarsen
Einkristallen, läßt sich insbesondere bti Hftlbleiterstftben alt
großen radialen Abmessungen, beispielsweise alt einem Durchmesser von mehr als 35 mm, nur unter Überwindung beträchtlicher Schwierigkeiten erfüllen. Ss muß insbesondere dafür gesorgt werten, dafl
thermische Spannungen la Halbleiterstau bein Abkühlen des Halbleiterstabes weitgehend vermieden werden»
Es wurde bereits versucht, HaiDlelterstäbe mit sehr großen radialen Abmessungen, beispielsweise mit einem Stabdurchmesser von
ijU mm und mehr mit guter Kristallquaiität, d.h. mit einer geringen
Vereetzungsdichte und einer möglichst gleichmäßigen Dotierung über
den Stabquerschnitt und damit radialen Widerstandenerteilung herzustellen.
Eine weitgehend befriedigende Lösung dieses Problems ist in der
deutschen Auslegeschrift 1 218 404 beschrieben. Hierbei werden
Q Q $$2 7/1441 * BADORiGINAL
bei einem Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines lotrecht an seinen Enden gehalterten kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiters tabee, dessen Halterungen« von denen mindestens
eine um ihre lotrechte Achse in Drehung versetzt wird« relativ zueinander und zu einer den Stab ringförmig uagebenden Heizeinrichtung in Richtung der Stabachse mit derart aufeinander abgestimmten Geschwindigkeiten bewegt, daß die Dicke des aus dtr
Schmelze wieder erstarrenden Stabteilea über die lichte Weite dor
Heizeinrichtung hinaus vergrößert wird· Während ru Beginn dee
tiegelfreien Zonensohmelzprozesses die beiden Halterungen des
Stabes in der gleichen lotrechten Achse angeordnet sind, wird
die Halterung des wieder erstarrenden Stabttiis im Laufe de·
Verfahrene relativ zur Halterung des zu lehneIzenden Stabteile·
und zur Heizeinrichtung fortlaufend leitlich und in der Huh· νerichoben. Dadurch wird der Querschnitt de· aus der Schmelze auskristailieierenden Stabt*^lee ständig, vergrößert. SoDaid der
Sollquerschnitt dee wieder erstarrenden Stabteile· erreicht ist, wird dessen Halterung in der exzentrischen Lage festgehalten und
nur noch in der Höhe verstellt.- In Weiterbildung diese· Verfahrene wurde bereite vorgeschlagen, den wieder erstarrenden
Stabteil in unigekehrter Richtung seitlich zu verschieben und die seitliche Verschiebung während des Zonenechmteizvorganges in
neiden Richtungen mehrfach zu wiederholen (vgl. deutsche Patent« anraeldung S 98 115 IVc/12c - PLA Ο5/14ί?6). Durch.die periodische
seitliche Verschiebung des auskristallisierenden Stabteiiee
wahrend des Zonensohmelzvorpangea konnte vor allen Dinßen der
spezifische niaerstandsveriaui üoer den Stabquerschnitt noch
weiter vergleichmäßigt werden.
■_■'■■ BAD
" 5:~ 009827/ 114.1
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Eine weitere vorteilhafte Abwandlung des in der deutschen Aualegeschriit 1 218 4ü4 beschriebenen Verfahrene besteht gemäß
einem älteren Vorschlag darin, daü nach Beendigung eine« seitlichen Verschiebungsvorganges der Schmelzzone ein oder mehrere
weitere Stäbe exzentrisch zur Stabschse dea wieder erstarrenden
Stabteilee zugeführt werden, und daß die Enden der der Sohmeiezone zugeführten Stäbe im Bereich der Schmelszone vor der Berührung damit auf Schmelztemperatur gebracht werden· Hierbei kann
nach dem Einbringen der zusätzlichen Stäbe in die Bchaelaeone
der wieder erstarrende Stabteil aenrmla in «ntgeftngesetsten
Richtungen seitlich verschoben oder um eine su »einer Mittelachse
parallele exzentrische Achse in Umdrehung berietet werden« DIt
der Schmeizzone zugeführten Stabteile können mit einer gemein«
samen, vorzugsweise induktiven Heizeinrichtung beheizt werden«
Bei einer Zuordnung von zwei Vorräte»tlhen sun wieder erstarren·
den Stabteil kann die Induktionsspule die Fora einer liegenden
Acht besitzen, durch deren Öffnungen die beiden Vorrateetäbt
hindurchgerührt werden. Damit erhält man einen »iemlioh gleichmäßigen Temperaturverlauf innerhalb der Scheelssone, eo dafi d»r
wieder erstarrende Stabteil ohne nennenswerte Wärmespannungen euskristailisiert (vgl. deutsche Patentanmeldung S 106 157 IVc/ ♦
12g - PLA 66/1684).
Es wurde nunmehr gefunden, daß die Forderung nach einem möglichst
gleichmäßigen Temperaturveriauf Innerhalb der Schmelzzone noch
rächt Z.U optimalen Ergebnissen beim Zonenschmelzen von kristallinen Stäben, insbesondere mit sehr groben radialen Abmessungen*
führt. Es ist vielmehr günstig, wenn der zentrale Bereich der
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PLA 66/1885
Schmelzzone etwas starker erhitzt wird als deren Randbereich.
Dieser Forderung werden die herkömmlichen Beheizungseinrichtungen,
vorzugsweise induktive Heizeinrichtungen, mit einer oder mehreren den Halbleiterstab ringförmig umfassenden Heizspulen
nicht gerecht. . ·
Die vorliegende Erfindung löst dieses Problem mit einfachen
Mitteln. Die Erfindung bezieht eich demgemäß auf eine Vorrichtung
zum Herstellen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes,
durch tiegelfreies Zonenschmelzen mit mindestens
zwei der Schmelzzone zügeführten Stabteilen, deren Enden mittels
einer induktiven Heizeinrichtung auf Schmelztemperatur gebracht
werden. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die induktive Heizeinrichtung mindestens eine sich in den Raum zwischen
den der Schmelzzone zugeführten Stabteilen erstreckend« Leiterschleife
aufweist. Mit dieser Leiterachleife, die günatigerweise
parallel z,ur Schmelzzone angeordnet ist, wird d«r zwischen diesen
Stabteiien liegende zentrale BeTeich der Schmelzzone zusätzlich
beheizt. Mit besonderem Vorteil kann die Intensität der zusätzlichen
Beheizung der Scnmeizzone so eingestellt werden, daß die fest-ti'üssige Phasengrenze des auskristaliisierenden Stabteiis
dem Verlauf der Isothermen im der Sohmelzzone benachbarten Teil
des auakriatailisierenden Stabteiis angepaßt ist. Dadurch wird
erreicht, daß auch bei sehr großen radialen Stababmessungen nennenswerte tfärraespannungen beim Auakrlstailieieren des wieder
erstarrenden Stabteils nicht mehr auftreten.
,u BAD ORIGINAL 009827/U41 —
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Weitere Einzelheiten una Vorteile der Erfindung werden an Ausführungabeiepieien anhand der Zeichnung näher erläutert.
Die Fig. 1a bia 1f zeigen verschiedene Phasen eines Zoaenschaelsv'erfahrens, bei dem der auskristallisierende Stabteil
seitlich gegenüber den der Schmelzzone sugeführten
Stabteilen und der Heizeinrichtung verschoben wird und eine zur Durchfuhrung des Verfahren· geeignete
induktive Heizeinrichtung·
Die Flg. 2a bis 2c zeigen verschiedene Phasen eines weiteren
Zonenschmelsverfahrens Kit eines konsentrisch sur
induktiven Heiseinrichtung angeordneten leiakrietail.
Fig. 3 zeigt in perspektivischer Darstellung ein# sur PurchfUhruni
der vorgenannten Verfahren geeignete induktive Heizeinrichtung. .
If
Die Fig. 4a und 4b zeigen im Schnitt und in der Draufsicht eine
weitere zur Durchführung der vorgenannten Verfahren geeignete induktive Heizeinrichtung.
In der Fig. la ist einer der beiden Vorratsstäbe 1, 2 koaxial
zum einkristallinen Keimkristall > angeordnet. Das Ende des Vorratestabes 1 wird mitteis einer Heizeinrichtung auf Schmelztemperatur gebracht. Im Anschluß hieran werden der Vorratastab 1
und der Keimkristall 3 aufeinander zubewegt und miteinander verschmolzen. Dieser Zustand ist in der Fig. 1b dargestellt. Der
Vorratsstab 1 und der Keimkristall 3 werden außerdem um ihre
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Ache« in Umdrehung versetzt, vorzugsweise in entgegengesetztem
Drehsinn· Bei feststehender Heizeinrichtung werden der Vorrat·- stab 1 und der Keimkristall 5 in gleicher Richtung, aber alt
verschiedenen Geschwindigkeiten bewegt« Sie Geschwindigkeiten des Vorratsstabea .1 und des Keimkristall« 2 sind fo abgestimmt,
dali die radialen Abmessungen des aus der Schmelzeone 4 aus kristallisierenden Stabteües 5 ständig zunehaen. Der Keimkristall
"3 führt nunmehr zusätzlich zu seiner aiialen Bewegung eine seitliche Bewegung aus, beispielsweise wie in Fig« te dargestellt,
nach links, so daß die Schaelzzone 4 sich langes* in Sichtung
auf das bereits angeschmolzene 2ndβ des anderen Vorratsstabes 2
bewegt. Sobald die Sehmelzzone 4 das Ende des Vorratsstabes 2
erreicht hat, wird auch dieser Stab 2 mit der Schmelzsone 4 verschnolzea, in axialer Richtung bewegt und ue seine. Aohse in Ü«-■
drehung versetzt. Wie in Pig. 1d nit Pfeilen angedeutet, wird
der Keimkristall 3 bzw. der auskristallisierende Stabteil*5
'weiterhin seitlich verschoben, bis, gemäß Pig. 1et die erwünschte
Dicke des auskristallisierenden Stabteiles 5 erreicht ist. Ton
diesem Zeitpunkt an werden die Stabte^e 1, 2 und 5 lediglich in
axialer Richtung verschoben, wobei ihre Rotationsbewegung beibehalten wird. A'ls Heizeinrichtung ist eine induktive Heizspule 6
vorgesehen, die die Enden der der Schmeizzoner4 zügeführten
Stab teile 1, 2 (Vorratsstäbe), auf Schmelztemperatur erhitzt und
die mindestens eine zusätzliche Schleife besitzt, die sich in
den Raum zwischen diesen Stabteilen 1,2 erstreckt.
Das vorstehend beschriebene Verfahren kann entsprechend den Fig. ?a bis 2c dahingehend abgewandelt werden, daß den beiden
■ ■ ' BAD ORIGINAL
, - '■ - 009927/1:4 41- ^~
Vorratsstäben 1, 2 ein vergleichsweise dicker Keimkristall 3
zugeordnet ist. Die Dicke des Keimkristalls 3 ist mindestens so
groß wie der Abstand der beiden Stabteile 1, 2. Der Keimkristall 3
ist symmetrisch zu den Stabteilen 1, 2 angeordnet. Nach dem Anschmelzen der Enden der Stabteile 1, 2 können diese gleichzeitig oder zumindest nahezu gleichzeitig mit dem Keimkristall 3
verschmolzen werden. Bei feststehender Heizspule 6 sind die axialen Geschwindigkeiten der Stabteile 1» 2 und 5 so auftinander abgestimmt, daß die Dicke des auakristallisierenden 3tabtellee 5 einen vorbestimmten Sollwert erreicht. Di· Verwendung
eines Keimkristalls 3» der den Abstand der beiden Stabteile 1, 2
Überbrückt, bringt den Vorteil, daß der Zeitaufwand für das
Aufstauchen des auskristallisierenden Stabteil·· 5 muf einen
vorbestimmten Sollwert verringert 1st, Zur Erhitzung der linden
der Stabteile 1, 2 sowie des zentralen Sehmelzzonenbereichs,
der zwischen diesen Stabteilen 1, 2 liegt, kann dieselbe induktiv· Heizeinrichtung verwendet werden, wie b«lm vorstehend beschriebenen
Verfahren.
Dieae Heizeinrichtung ist in Fig. 3 in perspektivischer Darstellung dargestellt.
7 und β, die na gekrümmt sind, daß aie dl« Yorratsstäbe y* 2 '
etwa hulbk.'Vi.jförmig umfao3on. Die Nadel Induktoren 7f θ bilden
glaichzei ti£ di-s den zentral«η Schmeizzonenboreich zwischen den
biiien Stabteilon 1, 2 zuüätzlich erhitzende innere Leiterschleife 9. Die.·,« kar;.i dadurch entstehen, daß die Teile 7a und 8a
der Nadelindluktoren / und 8, die dem riuoKriatallisierendeü Stab**
00tt27/U41
BAD ORIGINAL
teil 5 benachbart sind, miteinander verbunden sind. Sie in Bezug
auf den auekriatallieierenden ^tabteil 5 entfernt liegenden Teile 7b
und 8b der Nadelinduktoren 7 und θ sind mit den Stroaanachlüssen
versehen. Um eine ausreichende Erwärmung der Stabteilt 1, 2 sicherzustellen, beträgt der Abstand der Teile 7a und 7b bzw. 8a und 8b der
Nadelinduktoren 7 und 8 mindestens das 1,5-fach· des Durchmesser· der stromführenden Leiterteile. Um die Wärmeeinwirkung zu verstärken,
können sowohl die Induktoren 7 und 8 als auch die innere Schleift
mit mehreren findungen versehen werttn. Bs itt auch möglich, den
ztntraltn Bertich dtr Schaelzssont 4 mitttls tintr «utatellchsn
induktiven Heizeinrichtung odtr auch tintr andtrtn Snargitquellt,
beispieleweise mittels eines Heizstrahler* odtr auch mittels Bltktrontnstrahlen, zu erwärmen. Bine zusätzliche induktlvt Htistinrichtung bietet den Vorteil, daB bti getrtnnttr Binapt-ituBg die
auf den zentralen SchaslBZontnbtrticto. swiaohtn dtn $tatt«41*A t»
•inwirkend· Energie gut steuerbar ist. BtAit kaum trrtioixt wtrdtn»
dftfl die feet-flUesige Fhastngrt^ict dtr 8che*lM<mt 4 daa Profil
tints flachtn Tellers annimmt» wlt ta in dta FJ ;, 1f und Zo Alt
gestrichelter Linienführung dargestellt let. SIn dtrartig·r Verlauf dtr fest-flUeeigtn Phastngrtnst dtr Sehatlison· 4 tntspricht
weitgehend den Isothermen im dtr Schmelzzone 4 btnaohbarttn Teil
des auekristallisierenden Stabttilta 5. Damit wtrdtn Wärmespannungen
bei der Auskriatallieation des Stabttiles 5 auch bti Stäbtn mit
sehr großen radialen Abmessungen weitgehend vtrmiedtn.Diea txgibt tinen
au3kri3talli3iorenden Stabteil 51 der arm an Versetzungen ist
und damit eine gute Kristullqualität besitzt. Nach etnor weiteren
Abwandlung der Heiz3pulo 6 können die bilden Nadelinduktoren 7
und 8 auch parall#>l£03ehaltet warden. Hierbei aind die Teile 7a
und 8b bzw. 7b und 8a je an ginen "gemeinsamen Stromleiter anzu-
1441 BAD ORIGINAL
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schließen. £3 iat auch möglich, die beiden Induktoren1 7 und 8
mit getrennten Stromunachlussen zu versehen und sie auch getrennt
einzuspeisen. Hierbei kann die innere Leiterachleife von einer ebenfalls getrennt einapeisbareii Flachspule mit einer oder mehreren
Windungen gebildet werden.
In den Pig. 4a uad 4b iat eine weiter© vorteilhafte Auebildungsform
einer induktiven Heizeinrichtung dargestellt.
Die Heizeinrichtung 6 besitzt zwei die Stabteile 1 und 2 weitgehend
ringförmig umfassende Laiterschleifen 11 und 12, deren im Raum zwischen den Stabteilen 1 und 2 angeordnete Teilt 11a
und 12atdie innere Leiterachielfs 13 bilden. Die Ankopplung
der i>eit@rschl*ixs 13 an die Sciiaelasacne 4 kann dadurch gun»tig
beeinflußt werden, daö die Le lter «schleifen 11 bstr. 12 und 13 su-βinander
geneigte Achaan aufweisen. Babel ist ·& günstig, wtiut
die LeiterschJUifs 13 parallel zur Sch»elszone 4 ausgerichtet
iat und die Leiteruchlelfen 11 und 12 derart schräg gestellt sind,
daß die geschnittenen Leiterteile ein Trapez -bilden, dessen kleinere
parallele Seitenfläche von den Leiterteilen 11a und 12a begrenzt iat (Pig". 4a). Die Leiterschleifen 11, 12 und 13 können, wie bereits
in anderem Zusammenhang angedeutet, mehrere Windungen besitzen. £e
ist auch möglich, die itabteile 1 und 2 je eilt eines ringförmigen
Induktor zu versehen und den zentralen Bereich der Scheelzzone
iwiachen diesen Stabteilen 1, 2 aittel» einer zusätzlichen induktiven
Heizeinrichtung, beispielsweise einer flachspule, zu beheizen.
..._ A
BAD ORIGINAL
1 Hl/Ca
/ti
Es ist ersichtlich, daß man weitere Einzelheiten der dargestellten
und beschriebenen Ausführungsbeispiele abändern kann, ohne den Brfindungsgedanken zu verlassen. Insbesondere können die der
Schmelzzone 4 zügeführten Stabteile 1, 2 verschiedene Abmessungen
haben. Dabei können sie auch mit verschiedenen Geschwindigkeiten
der Schmelzzone 4 zugeführt werden. Die Stabteile 1, 2 können
auch schräg zur Stabachse des auekristallisierenden ätabteila
angeordnet sein und zwar derart, dafi die Stabenden la Bereich
der Schaelzzone 4 zusammenlaufen. AuBerde« können auch aehr al«
swei Stabteile der Schaelzzone 4 zugeführt werden. Si· beschriebenen
Hei «einrichtungen können auch dann* alt Torteil angewendet werden,
wenn der auekristallisierende Stabteil 5 oberhalb der Beiseinrichtung 6 angeordnet 1st und dit Sohaelsaone 4 von oben nach unten
duroh die Stäbe 1, 2 gefahren wird.
Die aus der vorstehenden Beschreibung— oder/und die aus der
zugehörigen Zeichnung - entnehabaren Merkaale, Arbeitsvorgänge-
und Anweisungen sind, soweit nicht vorbekannt, la einzelnen, ebenso
wie ihre hier erstmals offenbarten Kombinationen untereinander, als wertvolle erfinderische Verbesserungen anzusehen.
5 Patentanspruch«
4 Figuren
BAD ORIGINAL
Hl/Ca
Claims (5)
1. Vorrichtung zum Herateilen eines kristallinen Stabes, insbesondere
Halbieiterstabes, durch tiegelfreiea Zonenschmelzen
mit mindestens zwei der Jchmelzzone zugeführten Stabteilen,
deren ünden mittels einer induktiven Heizeinrichtung auf Schmelztemperatur
erhitzt werden, dadurch gekennzeichnet, daß die induktive Heizeinrichtung (6) mindestens eine eich in den Raus
zwischen den der öchaelzzone (4) sugeführten Stabteilen. (1, 2)
erstreckende (innere) Leiterschleife (9» 13) aufweist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet» daQ die
induktive Heizeinrichtung (6) Hehrere Leitersohleifen (7 bis 9#
11 bis 13) mit zueinander geneigten Achsen aufweist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dafl
die induktive Heizeinrichtung (6) mindestens zwei Leiterechlei-
fen (11, 12) aufweist, die je «inen der der SehneIstone (4)
zügefuhrten Stabteile (1, 2) weitgehend ringförmig uafassen,
wobei Teile (11a, 12a) dieser Leiterschleifen (11, 12) die innere Leiterschleife (13) bilden.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
dafl die induktive Heizeinrichtung (6) mindestens. Bwei Nadelinduktoren
(7, b) aufweist, die je einen der der Schmelzzon· (4) zugefUhrten Stabteile (1, 2) etwa halbkreisförmig umfassen,
wobei 5eiie (7a, 8a) dieser Nadelinduktoren die innere Leiterschieif-2
(9) bilden.
υ- 3 ORIGINAL
_ ^09877/1441
5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
"innere Leiterschleife (9, 13) von einer getrennt speiebaren, in dei
Raum zwischen den der Schmelzzone (4) zugeführten Stabteilen (1, 2) einfUhrbaren Induktionsheizspule gebildet wird.
- 1.5 - Hl/Ga
009827/1441
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Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
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DE2538812A1 (de) * | 1975-09-01 | 1977-03-03 | Wacker Chemitronic | Verfahren zum dotieren von halbleiterstaeben |
Family Cites Families (7)
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---|---|---|---|---|
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US3014791A (en) * | 1958-10-01 | 1961-12-26 | Merck & Co Inc | Pyrolysis apparatus |
DE1243641B (de) * | 1962-12-12 | 1967-07-06 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstaeben durch Ziehen aus der Schmelze |
DE1208292B (de) * | 1963-03-29 | 1966-01-05 | Siemens Ag | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial |
DE1224273B (de) * | 1964-06-23 | 1966-09-08 | Siemens Ag | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen |
DE1296132B (de) * | 1965-03-19 | 1969-05-29 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstaeben durch Ziehen aus der Schmelze |
DE1619996A1 (de) * | 1967-03-18 | 1971-07-08 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen eines einkristallinen Stabes,insbesondere aus Halbleitermaterial |
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