DE1514913C - Steuerbares Halbleiterbau element - Google Patents
Steuerbares Halbleiterbau elementInfo
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Description
Wenn man die Oberfläche eines η-leitenden Halbleiterkristalls
sperrschichtfrei mit einem Metalldraht kontaktiert, dann hat diese Anordnung bis zu sehr
hohen Frequenzen Diodeneigenschaften. Diese Diodeneigenschaften sind darauf zurückzuführen, daß der
sperrschichtfreie Kontakt in den Halbleiterkörper immer dann heiße Elektronen injiziert, wenn der
Elektronenstrom vom Metall in Richtung auf den Halbleiterkörper fließt. Durch die Injektion der heißen
Elektroden wird eine Nichtlinearität des Widerstandes des n-Halbleiterkörpers erzielt.
Elektronen, die nicht im thermischen Gleichgewicht mit ihrer Umgebung stehen, werden vielfach, wie sich
beispielsweise aus dem Artikel »Heiße Elektronen für elektronische Bauelemente«, erschienen in der Zeitschrift
»Radio mentor«, Bd. 28, 1962, Nr. 10, S. 822 und 824, ergibt, auch als heiße Elektronen bezeichnet.
Es sind bereits Halbleiteranordnungen bekanntgeworden, die aus einer Kombination von Halbleiterbauelementen
mit Peltierelementen bestehen. Bei diesen bekannten Anordnungen, bei denen das Peltierelement
allein Kühlzwecken dient, wird stets die kalte Lötstelle des Peltierelements zur Wärmeabführung an
den Halbleiterkörper angeschlossen, während die warme Lötstelle nicht mit dem Halbleiterkörper in
Verbindung gebracht wird. Ferner sind aus der
3 4
USA.-Patentschrift 3 051 840 Feldeffekttransistoren p-Halbleiterzone bestehen. Diese beiden p~-Zonen des
bekannt, bei denen der Widerstand einer dünnen zweiten Schenkels des Peltierelements müssen thermo-
Halbleiterschicht dadurch geändert wird, daß ein an elektrisch positiv sein gegenüber den ersten Schenkel
die Halbleiterschicht angrenzender pn-Übergang in des Peltierelements bildenden Halbleiterzone vom
Sperrichtung vorgespannt wird und das von ihm aus- 5 p-Leitungstyp.
gehende ladungsträgerfreie Raumladungsgebiet in Im folgenden werden Ausführungsbeispiele des
seiner Ausdehnung variiert wird. Der Widerstandswert oben beschriebenen Halbleiterbauelements erläutert,
dieser Schicht zwischen zwei an der Schicht befestigten Die F i g. 1 zeigt einen Halbleiterkörper 1 mit zwei
sperrschichtfreien Kontakten kann auch durch Licht- aneinandergrenzenden Halbleiterzonen 2 und 3 vom
einstrahlung verkleinert werden. io n- bzw. p-Leitungstyp. Die Halbleiterzone 2 vom
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein n-Leitungstyp ist in den Halbleiterkörper 1 vom Leisteuerbares
Halbleiterbauelement anzugeben, das mit tungstyp durch Diffusion nach einem Planarverfahren
Hilfe von injizierten heißen Elektronen gesteuert wird. eingebracht. Die Begrenzung der Halbleiterzone 2 auf
Diese Aufgabe wird gelöst durch die Kombination einen begrenzten Bereich des Halbleiterkörpers 1
einer von einem pn-Übergang in einem Halbleiter- 15 erfolgt dadurch, daß auf den Halbleiterkörper eine
körper gebildeten Halbleiterdiode und einem Peltier- Oxydschicht 4 aufgebracht wird, aus der eine Öffnung
element, bei der die eine Halbleiterzone der Halbleiter- herausgeätzt wird, die als Diffusionsfenster beim Ein-
diode gleichzeitig den ersten Schenkel des Peltier- diffundieren der Halbleiterzone 2 dient,
elements bildet und der zweite Schenkel des Peltier- Die beiden Teile 5 und 6 des zweiten Schenkels des
elements aus zwei voneinander getrennten Teilen be- 10 Peltierelements sind im Ausführungsbeispiel der
steht, die die den ersten Schenkel des Peltierelements F i g. 1 n+-Zonen, die ebenfalls durch Diffusion oder
bildende Halbleiterzone sperrschichtfrei kontaktieren, durch Legieren in die Halbleiterzone 2 vom n-Lei-
und daß die den ersten Schenkel des Peltierelements tungstyp eingebracht, werden. An den Grenzflächen
bildende Hälbleiterzone so dünn bemessen ist, daß bei der n+-Zonen 5 und 6 mit der Halbleiterzone 2 vom
Anlegen einer Spannung an die beiden Teile des 25 n-Leitungstyp entstehen dann die nicht sperrenden
zweiten Schenkels des Peltierelements einer von ihnen thermoelektrischen Kontakte 7 und 8. Die Kontak-
Elektronen, die nicht im thermischen Gleichgewicht tierung der n+-Zonen erfolgt durch die sich auf die
mit ihrer Umgebung stehen, in die Halbleiterdiode Oxydschicht 4 erstreckenden Leitbahnen 9 und 10.
injiziert, die durch den in Sperr- oder Flußrichtung Am Halbleiterkörper 1 ist schließlich noch auf der
gepolten pn-Übergang gelangen. 30 den n+-Zonen 5 und 6 gegenüberliegenden Seite eine
Das oben beschriebene Halbleiterbauelement hat (p+-)Kontaktelektrode 11 zur sperrschichtfreien Kongegenüber
bekannten Halbleiteranordnungen den Vor- taktierung der Halbleiterzone 3 vom p-Leitungstyp
teil, daß es zur Modulation keine Defektelektronen angebracht.
verwendet, wodurch die Frequenzgrenze höher als bei Legt man mit Hilfe der Spannungsquelle 12 an die
bipolaren Transistoren liegt. 35 Leitbahn 9 und die sperrschichtfreie Kontaktelektrode
Die Sperr- oder die Flußspannung für den pn-Über- 11 eine Spannung an, die den pn-Übergang 14 zwischen
gang liefert eine erste Spannungsquelle, die zwischen den Halbleiterzonen 2 und 3 in Sperrichtung schaltet,
einen der zwei Teile des zweiten Schenkels des Peltier- und legt man zwischen die beiden n+-Zonen 5 und 6
elements und einen Kontakt geschaltet ist, der sperr- mit Hilfe der Spannungsquelle 13 eine Spannung an,
schichtfrei auf der keinen Schenkel des Peltierelements 40 die nicht größer als die doppelte Peltierspannung des
bildenden Halbleiterzone befestigt ist. Die Sperr- oder durch die beiden n+-Zonen 5 und 6 mit der dazwischen-
die Flußspannung am pn-Übergang wird kleiner oder liegenden n-Halbleiterzone 2 gebildeten Peltierelements
höchstens gleich der Durchbruchsspannung oder der ist, dann emittiert derjenige der n+-Kontakte 7 und 8,
Schwellspannung des pn-Übergangs gewählt. An die der negativ gegenüber dem anderen n+-Kontakt ge-
beiden Teile des zweiten Schenkels des Peltierelements 45 schaltet ist, heiße Elektronen, die durch die dünne
wird eine Gleich- und/oder Wechselspannung angelegt, und weniger als 1 μ dicke n-Halbleiterzone 2 in die
die nicht größer als die doppelte Peltierspannung Raumladungszone des pn-Übergangs 14 und weiter
zwischen den beiden Schenkeln des Peltierelements ist. in die p-Halbleiterzone 3 des Halbleiterbauelements
Die beiden Teile des zweiten Schenkels des Peltier- gelangen können. Wenn dieser, den pn-Übergang
elements bestehen bei einer den ersten Schenkel des 5° durchsetzende Teil des injizierten Stromes multipliziert
Peltierelements bildenden Halbleiterzone vom η-Lei- mit der am pn-Übergang anliegenden Spannung
tungstyp z. B. aus in diese η-leitende Halbleiterzone größer ist als der gesamte über die beiden Teile des
eingebrachten n+-Zonen, die an die Oberfläche des zweiten Schenkels, d. h. über die n+-Zonen 5 und 6
Halbleiterkörpers grenzen. Diese n+-Zonen können fließende Strom multipliziert mit der Spannung
z. B. durch Diffusion oder durch Legierung hergestellt 55 zwischen den beiden n+-Zonen 5 und 6, dann ist die
werden. Damit die von dem einen der beiden Teile des Anordnung der F i g. 1 ein aktiver Vierpol,
zweiten Schenkels des Peltierelements injizierten heißen Die Anordnung der F i g. 1 ist im Prinzip eine
Elektronen in die andere, also in die p-Halbleiterzone, Halbleiterdiode mit einem Peltierelement, aus dem
gelangen können, muß die n-Halbleiterzone möglichst heiße Elektronen in die Diode injiziert werden. Außer
dünn und beispielsweise dünner als 1 μ sein. 60 dem einen pn-Übergang können natürlich auch noch
Sind die beiden Teile des zweiten Schenkels des weitere pn-Übergänge vorhanden sein. Ebenso ist die
Peltierelements nicht mit einer den ersten Schenkel des Zahl der Teile des zweiten Schenkels des Peltier-
Peltierelements bildenden Halbleiterzone vom η-Lei- elements, die mit der Halbleiterzone vom n-Leitungs-
tungstyp, sondern mit einer Halbleiterzone vom typ nicht sperrende thermoelektrische Kontakte er-
p-Leitungstyp verbunden, so sind die beiden Teile des 65 geben, natürlich nicht auf zwei beschränkt,
zweiten Schenkels des Peltierelements beispielsweise Die F i g. 2 zeigt ein Halbleiterbauelement, bei
in die p-Halbleiterzone eingebrachte p~-Zonen, die dem am pn-Übergang eine Spannung nicht in Sperr-
z. B. aus einem anderen Halbleitermaterial als die richtung, sondern in Flußrichtung anliegt. Die beiden
5 6
Teile 5 und 6 des zweiten Schenkels des Peltierelements nung der F i g. 3 hat den Vorteil, daß eine bis zu
befinden sich an der Oberfläche einer Halbleiterzone 2 40mal größere Eingangsspannung angelegt werden
vom p-Leitungstyp und bilden mit der Halbleiter- kann als bei dem Einzel-Bauelement der F i g. 1.
zone 2 einen sperrfreien, thermoelektrischen Kontakt. Diese Spannung darf jedoch höchstens so groß wie
Die beiden Teile 5 und 6 des zweiten Schenkels des 5 die Spannung sein, die an den parallelgeschalteten
Peltierelements sind thermoelektrisch positiv gegen- pn-Übergängen der Halbleiterdioden steht,
über der Halbleiterzone 2 vom p-Leitungstyp. Diese Die F i g. 4 zeigt schließlich noch eine Ausbildung Bedingung ist beispielsweise dann erfüllt, wenn die des Halbleiterbauelements, bei der die beiden Teile 5 Teile 5 und 6 aus einem p-Halbleitermaterial bestehen, und 6 des zweiten Schenkels des Peltierelements eine das eine höhere Beweglichkeit besitzt als das p-Halb- io kammf örmige Struktur haben und kammf örmig ineinleitermaterial der Halbleiterzone 2. andergreifen. Unter der Siliziumdioxydschicht 4 be-Die F i g. 3 zeigt eine Halbleiteranordnung, bei der findet sich der Halbleiterkörper der Halbleiterdiode, vierzig der Halbleiterbauelemente nach F i g. 1 einen Bei den beschriebenen Halbleiterbauelementen kann gemeinsamen Halbleiterkörper vom p-Leitungstyp der Halbleiterkörper beispielsweise aus Germanium, haben, und die Halbleiterdioden zueinander parallel 15 Silizium, einer III-V-Verbindung oder einer II-VI-Vergeschaltet sind. Die Teile 5 und 6 des zweiten Sehen- bindung oder aus einem Ionenhalbleiter oder aus kels des Peltierelements, die sich als n+-Zonen in einem organischen Halbleiter bestehen. Die HaIbvoneinander getrennten n-Halbleiterzonen 2 der Halb- leiterzone, die den ersten Schenkel des Peltierelements leiterdioden befinden, sind dagegen, beispielsweise bildet, kann beispielsweise durch Diffusion mittels durch aufgedampfte Leitbahnen, in Reihe hinter- ao eines Planarverfahrens oder durch Einlegieren aufeinandergeschaltet. Von den Halbleiterdioden sind gesdampfter Metallschichten hergestellt werden. Die in der F i g. 3 nur die Halbleiterzonen 2 vom η-Lei- beschriebenen Halbleiterbauelemente eignen sich beitungstyp zu sehen, die von der Oxydschicht 4 aus spielsweise zur Anwendung als aktive Vierpole in inte-Siliziumdioxyd umgeben sind. Die Mehrfachanord- grierten Schaltungen oder in Mikrowellen-Schaltungen.
über der Halbleiterzone 2 vom p-Leitungstyp. Diese Die F i g. 4 zeigt schließlich noch eine Ausbildung Bedingung ist beispielsweise dann erfüllt, wenn die des Halbleiterbauelements, bei der die beiden Teile 5 Teile 5 und 6 aus einem p-Halbleitermaterial bestehen, und 6 des zweiten Schenkels des Peltierelements eine das eine höhere Beweglichkeit besitzt als das p-Halb- io kammf örmige Struktur haben und kammf örmig ineinleitermaterial der Halbleiterzone 2. andergreifen. Unter der Siliziumdioxydschicht 4 be-Die F i g. 3 zeigt eine Halbleiteranordnung, bei der findet sich der Halbleiterkörper der Halbleiterdiode, vierzig der Halbleiterbauelemente nach F i g. 1 einen Bei den beschriebenen Halbleiterbauelementen kann gemeinsamen Halbleiterkörper vom p-Leitungstyp der Halbleiterkörper beispielsweise aus Germanium, haben, und die Halbleiterdioden zueinander parallel 15 Silizium, einer III-V-Verbindung oder einer II-VI-Vergeschaltet sind. Die Teile 5 und 6 des zweiten Sehen- bindung oder aus einem Ionenhalbleiter oder aus kels des Peltierelements, die sich als n+-Zonen in einem organischen Halbleiter bestehen. Die HaIbvoneinander getrennten n-Halbleiterzonen 2 der Halb- leiterzone, die den ersten Schenkel des Peltierelements leiterdioden befinden, sind dagegen, beispielsweise bildet, kann beispielsweise durch Diffusion mittels durch aufgedampfte Leitbahnen, in Reihe hinter- ao eines Planarverfahrens oder durch Einlegieren aufeinandergeschaltet. Von den Halbleiterdioden sind gesdampfter Metallschichten hergestellt werden. Die in der F i g. 3 nur die Halbleiterzonen 2 vom η-Lei- beschriebenen Halbleiterbauelemente eignen sich beitungstyp zu sehen, die von der Oxydschicht 4 aus spielsweise zur Anwendung als aktive Vierpole in inte-Siliziumdioxyd umgeben sind. Die Mehrfachanord- grierten Schaltungen oder in Mikrowellen-Schaltungen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (12)
1. Steuerbares Halbleiterbauelement, dadurch
gekennzeichnet, daß es aus der Kombination einer von einem pn-Übergang (14)
in einem Halbleiterkörper (1) gebildeten Halbleiterdiode und einem Peltierelement besteht, bei
der die eine Halbleiterzone (2) der Halbleiterdiode gleichzeitig den ersten Schenkel des Peltierelements
bildet und der zweite Schenkel des Peltierelements aus zwei voneinander getrennten
Teilen (5, 6) besteht, die die den ersten Schenkel des Peltierelements bildende Halbleiterzone (2)
sperrschichtfrei kontaktieren, und daß die den ersten Schenkel des Peltierelements bildende Halbleiterzone
so dünn bemessen ist, daß bei Anlegen einer Spannung an die beiden Teile (5, 6) des
zweiten Schenkels des Peltierelements einer von ihnen Elektronen, die nicht im thermischen Gleichgewicht
mit ihrer Umgebung stehen, in die Halbleiterdiode injiziert, die durch den in Sperr- oder
Flußrichtung gepolten pn-übergang (14) gelangen.
2. Steuerbares Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zwei
Teile (5, 6) des zweiten Schenkels des Peltierelements n+-HaIbleiterzonen sind, die in die den
ersten Schenkel des Peltierelements bildende Halbleiterzone (2) vom n-Leitungstyp eingelassen sind
und an die Oberfläche des Halbleiterkörpers (1) grenzen.
3. Steuerbares Halbleiterbauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die den
ersten Schenkel des Peltierelements bildenden Halbleiterzone (2) vom p-Leitungstyp ist und die
zwei Teile (5, 6) des zweiten Schenkels aus p-Halbleitermaterial mit einer derart großen Defektelektronenbeweglichkeit
bestehen, daß die p-Halbleiterzone (2) den thermoelek Irischen negativen
Schenkel des Peltierelements bildet.
4. Steuerbares Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die den ersten Schenkel des Peltierelements bildende Halbleiterzone (2) dünner als 1 μ ist.
5. Steuerbares Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß der Halbleiterkörper (1) der Halbleiterdiode aus Germanium, Silizium, aus einer III-V-Verbindung,
aus einer ll-VI-Verbindung, aus einem Ionenhalbleiter oder aus einem organischen Halbleiter
besteht.
6. Steuerbares Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die zwei Teile (5, 6) des zweiten Schenkels des Peltierelements kammförmig ausgebildet sind und
kammförmig ineinandergreifen.
7. Schaltungsanordnung mit einem steuerbaren Halbleiterbauelement nach einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine die Sperroder Flußspannung liefernde erste Spannungsquelle (12) zwischen einen der zwei Teile (5, 6) des
zweiten Schenkels des Peltierelements, und die keinen Schenkel des Peltierelements bildende
Halbleiterzone (3) der Halbleiterdiode geschaltet ist.
8. Schaltungsanordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die von der ersten
Spanniiiigsqtielle (12) gelieferte Sperr- oder Fluß-
spannung am pn-übergang (14) kleiner oder hoch-.
stens gleich der Durchbruchsspannung oder der Schwellspannung des pn-Übergangs (14) ist.
9. Schaltungsanordnung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine zweite Spannungsquelle
(13) zwischen die zwei Teile (5, 6) des
zweiten Schenkels des Peltierelements geschaltet ist und die von ihr gelieferte Gleich- und/oder
Wechselspannung nicht größer als die doppelte Peltierspannung zwischen den beiden Schenkeln
des Peltierelements ist.
10. Halbleiteranordnung, bestehend aus mehreren steuerbaren Halbleiterbauelementen nach
einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß sämtliche einzelnen Halbleiterbauelemente
eine gemeinsame Halbleiterzone (3) haben, während die die ersten Schenkel der Peltierelemente
bildenden Halbleiterzonen (2) voneinander getrennt sind, und daß die Teile (5, 6) der
zweiten Schenkel sämtlicher Peltierelemente in Reihe hintereinanderliegend miteinander verbunden
sind.
11. Halbleiteranordnung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindungen (9)
zwischen den zweiten Schenkeln der einzelnen Peltierelemente Leitbahnen (9) sind.
12. Schaltungsanordnung mit einer Halbleiteranordnung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen die Enden der in Reihe geschalteten zweiten Schenkel der einzelnen
Peltierelemente eine Spannüngsquelle geschaltet ist und die von ihr gelieferte Spannung höchstens
so groß wie die Zahl der vorhandenen einzelnen Peltierelemente multipliziert mit der doppelten
Peltierspannung zwischen den beiden Schenkeln des Peltierelements ist.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DET29965A DE1283978B (de) | 1965-12-08 | 1965-12-08 | Elektronisches Festkoerperbauelement mit durch Ladungstraegerinjektion steuerbarem elektrischem Widerstand |
DET0030130 | 1965-12-27 | ||
DET0030180 | 1965-12-30 | ||
DET0030179 | 1965-12-30 | ||
DET0030179 | 1965-12-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1514913A1 DE1514913A1 (de) | 1969-08-14 |
DE1514913B2 DE1514913B2 (de) | 1972-11-30 |
DE1514913C true DE1514913C (de) | 1973-06-20 |
Family
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