DE1514706C2 - Ablenksystem für Korpuskularstrahlgeräte - Google Patents
Ablenksystem für KorpuskularstrahlgeräteInfo
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (11)
1. Ablenksystem für Korpuskularstrahlgeräte, bei dem der Korpuskularstrahl als Ganzes mittels
elektrischer oder magnetischer Felder abgelenkt wird, dadurch gekennzeichnet, daß dem
Ablenksystem zur Korrektur des Ablenkastigmatismus ein Stigmator zugeordnet ist, dessen Erregung
mit der Erregung des Ablenksystems derart gekoppelt ist, daß sich beide Erregungen im gleichen
Sinne ändern.
2. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator in Strahlenrichtung
vor dem Ablenksystem angeordnet ist.
3. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator ein oder mehrere aus einander gegenüberliegenden
Spulen bestehende Spulenpaare enthält, daß jedes Spulenpaar bezüglich seiner gemeinsamen Mittelachse
senkrecht zu einem elektrischen oder magnetischen Feld des Ablenksystems sowie senkrecht zur
Richtung der Korpuskularstrahlen angeordnet ist und daß in den einander gegenüberliegenden Spulen
Magnetfelder mit entgegengesetzter Richtung erzeugt werden.
4. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß einander gegenüberliegende
Spulen gleich erregt werden.
5. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß einander gegenüberliegende
Spulen unterschiedlich erregt werden.
6. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung des Stigmators etwa dem Quadrat der Erregung des
Ablenksystems proportional ist.
7. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung des
Stigmators der Erregung des Ablenksystems direkt proportional ist.
8. Ablenksystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator an dieselbe
Spannungsquelle wie das Ablenksystem angeschlossen ist. *
9. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß-in Reihe mit jedem Spulenpaar
des Stigmators ein Netzwerk mit veränderbaren Widerständen liegt, das einen einmaligen Abgleich
des Stigmators auf das ihm zugeordnete Ablenksystem ermöglicht.
10. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator für Ablenksysteme
zur Ablenkung des Korpuskularstrahles in zwei zueinander senkrechten Richtungen zwei Spulenpaare
enthält, die senkrecht zu den beiden elektrischen oder magnetischen Feldern des Ablenksystems
und senkrecht zur Richtung der Korpuskularstrahlen angeordnet sind.
11. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Spulen des Stigmators als Zusatzwicklungen auf einem in an sich bekannter
Weise vor dem Ablenksystem angeordneten elektromagnetischen Stigmator, der zur Korrektur des
axialen Astigmatismus dient, aufgebracht sind.
Die Erfindung beschäftigt sich mit einem Ablenksystem für Korpuskularstrahlgeräte, bei dem die Ablenkung
von Korpuskularstrahlen mittels elektrischer oder magnetischer Felder erfolgt.
Bei der Ablenkung von Korpuskularstrahlen durch elektrische oder magnetische Felder von Ablenksystemen
wird der Korpuskularstrahl astigmatisch verzerrt. Bei Bestrahlung eines Objektes mit einem solchen j
verzerrten; Strahl macht sich der Astigmatismus als
Intensitätsverlust bemerkbar. Um diesen Intensitätsverlust bei abgelenkten Korpuskularstrahlen zu vermeiden,
wird ein Ablenksystem vorgeschlagen, dem gemäß der Erfindung ein Stigmator zugeordnet ist, der dadurch
eine selbsttätige Korrektur des Ablenkastigmatismus bewirkt, daß seine Erregung von der Erregung des
Ablenksystems abhängig ist.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß bei Ablenkung eines Korpuskularstrahles die Richtung der
durch Ablenkastigmatismus hervorgerufenen Verzerrung durch die Ablenkrichtung, d. h. durch die Richtung
des ablenkenden Feldes, und die Größe der Verzerrung durch die Größe des Ablenkwinkels bestimmt ist. Wird
zur Strahlenablenkung ein elektromagnetisches Feld verwendet, das durch zwei sich gegenüberliegende
Spulen erzeugt wird, so ist der Ablenkwinkel der Stromstärke durch die Spulen proportional. Auch die
Größe der durch Ablenkastigmatismus hervorgerufenen Verzerrung hängt im allgemeinen von der Stärke
des Stromes durch die Spulen ab.
Diese Erkenntnis führte zu dem Erfindungsgedanken, dem Ablenksystem zur Korrektur des Ablenkastigmatismus
einen Stimulator zuzuordnen, dessen Erregung mit der Erregung des Ablenksystems derart gekoppelt
ist, daß sich beide Erregungen im gleichen Sinne ändern. Der Stigmator ist vorteilhafterweise in Strahlenrichtung
vor dem Ablenksystem angeordnet und kann ein oder mehrere aus einander, gegenüberliegenden Spulen
bestehende Spulenpaare enthalten, wobei jedes Spulenpaar bezüglich seiner gemeinsamen Mittelachse senkrecht
zu einem elektrischen oder magnetischen Feld des Ablenksystems sowie senkrecht zur Richtung der
Korpuskularstrahlen angeordnet ist; in den einander gegenüberliegenden Spulen werden Magnetfelder mit
entgegengesetzter Richtung erzeugt.
Um den feldfreien Punkt zwischen den einander gegenüberliegenden Spulen des Stigmators in einer
senkrecht zur Strahlenrichtung liegenden Ebene verschieben zu können, sind die Spulen derart (beispielsweise
durch Parallelschalten von Widerständen) geschaltet, daß sie unterschiedlich erregt werden; soll sich
der feldfreie Punkt in der Mitte zwischen den sich gegenüberliegenden Spulen befinden, dann müssen die
Spulen unter der Voraussetzung gleichen Wicklungsaufbaues gleich erregt sein.
Wie die F i g. 1 zeigt, in der die Größe des Astigmatismus A eines Ablenksystems in Abhängigkeit
von dem das Ablenksystem erregenden Strom / dargestellt ist, nimmt der Astigmatismus nichtlinear mit
dem Strom /und damit mit dem Ablenkwinkel, sondern etwa quadratisch zu (Kurve K\\ Soll dieser Astigmatismus
vollkommen kompensiert werden, dann ist durch eine Erregung des Stigmators, die etwa dem Quadrat
der Erregung des Ablenksystems proportional ist, eine Vorverzerrung etwa in der Art erforderlich, wie es die
Kurve Ki in der F i g. 1 zeigt.
Um eine Vorverzerrung gemäß Kurve Ki zu erzeugen, sind jedoch, da die Erregung des Stigmators
gemäß der Erfindung zwecks selbsttätiger Korrektur des Ablenkastigmatismus von der Erregung des
Ablenksystems abhängig sein muß, relativ aufwendige
angeschlossen, so daß die Erregung des Stigmators der Erregung des Ablenksystems direkt proportional
ist. Die Spulen S5 und S6 sind derart geschaltet, daß
ein von der Spannung U durch sie hindurchgetriebener Strom I2 in den Spulen Magnetfelder mit entgegengesetzter
Richtung erzeugt. Das sich solchermaßen im Stigmator Si ausbildende Magnetfeld bewirkt
eine Vorverzerrung des Korpuskularstrahles gemäß Kurve K3 der F i g. 1, so daß die durch die
obere und untere Ablenkeinheit A0 und A11 durch Ablenkastigmatismus
hervorgerufene Verzerrung nahezu aufgehoben wird (vgl. dazu die Kurve K4 in der
Fig. 1). Die Kompensation der durch Ablenkastigmatismus hervorgerufenen Verzerrung ist dann
erfolgreich, wenn zusätzlich zu der obengenannten Bedingung, daß nämlich die Spulen S5 und S6 des
Stigmators Sf gegeneinandergeschaltet und in der angegebenen Weise erregt sind, die Bedingung erfüllt
ist, daß die Spulen S5 und S6 bezüglich ihrer gemeinsamen
Mittelachse senkrecht zu.den magnetischen Feldern der Ablenkeinheiten A0 und A11 sowie senkrecht
zur Richtung der Korpuskularstrahlen angeordnet sind.
Um den Stigmator Si einmalig auf das ihm zugeordnete,
aus den Ablenkeinheiten A0 und A0 bestehende
Ablenksystem abzugleichen, ist ihm ein Netzwerk mit veränderbaren Widerständen, z. B. der
veränderbare Widerstand W, vorgeschaltet, der ebenfalls von dem Strom I2 durchflossen wird.
Wird in Abweichung von dem in der F i g. 2 dargestellten Ablenksystem ein solches verwendet, das
den Korpuskularstrahl in zwei zueinander senkrechten Richtungen ablenkt, dann muß zur Kompensation
der durch Ablenkastigmatismus hervorgerufenen Verzerrung ein Stigmator mit zwei Spulenpaaren
verwendet werden.
Durch die Erfindung wird ein Stigmator für Ablenksysteme von Korpuskularstrahlgeräten geschaffen,
der durch Vorverzerrung des Korpuskularstrahles die durch Ablenkastigmatismus hervorgerufene Verzerrung
bei Ablenkung durch ein Ablenksystem kompensiert. Die Kompensation wird, nachdem ein einmaliger
Abgleich des Stigmators auf das ihm zugeordnete Ablenksystem erfolgt ist, bei Veränderung
des Ablenkwinkels selbsttätig vorgenommen. Mittels des vorliegenden Stigmators wird daher bei jedem
Ablenkwinkel eine durch Ablenkastigmatismus hervorgerufene Verzerrung vermieden.
Patentansprüche:
1. Ablenksystem für Korpuskularstrahlgeräte, bei dem der Korpuskularstrahl als Ganzes mittels
elektrischer oder magnetischer Felder abgelenkt wird, dadurch gekennzeichnet, daß dem
Ablenksystem zur Korrektur des Ablenkastigmatismus ein Stigmator zugeordnet ist, dessen Erregung
des Ablenksystems derart gekoppelt ist, daß sich beide Erregungen im gleichen Sinne
ändern.
2. Ablenksystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator in Strahlenrichtung
vor dem Ablenksystem angeordnet ist.
3. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator
ein oder mehrere aus einander gegenüberliegenden Spulen bestehende Spulenpaare enthält,
daß jedes Spulenpaar bezüglich seiner gemeinsamen Mittelachse senkrecht zu einem elektrischen
oder magnetischen Feld des Ablenksystems sowie senkrecht zur Richtung der Korpuskularstrahlen
angeordnet ist und daß in den einander gegenüberliegenden Spulen Magnetfelder mit entgegengesetzter
Richtung erzeugt werden.
4. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß einander gegenüberliegende
Spulen gleich erregt werden.
5. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß einander gegenüberliegende
Spulen unterschiedlich erregt werden.
6. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung
des Stigmators etwa dem Quadrat der Erregung des Ablenksystems proportional ist.
7. Ablenksystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Erregung
des Stigmators der Erregung des Ablenksystems direkt proportional ist.
8. Ablenksystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator an dieselbe
Spannungsquelle wie das Ablenksystem angeschlossen ist.
9. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß in Reihe mit jedem Spulenpaar
des Stigmators ein Netzwerk mit veränderbaren Widerständen liegt, das einen einmaligen
Abgleich des Stigmators auf das ihm zugeordnete Ablenksystem ermöglicht.
10. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Stigmator für Ablenksysteme
zur Ablenkung des Korpuskularstrahles in zwei zueinander senkrechten Richtungen zwei
Spulenpaare enthält, die senkrecht zu den beiden elektrischen oder magnetischen Feldern des Ablenksystems
und senkrecht zur Richtung der Korpuskularstrahlen angeordnet sind.
11. Ablenksystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulen des Stigmators
als Zusatzwicklungen auf einem in an sich bekannter Weise vor dem Ablenksystem angeordneten
elektromagnetischen Stigmator, der zur Korrektur des axialen Astigmatismus dient, aufgebracht sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0102522 | 1966-03-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE1514706B1 DE1514706B1 (de) | 1970-11-19 |
DE1514706C2 true DE1514706C2 (de) | 1975-11-06 |
Family
ID=7524500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1514706A Expired DE1514706C2 (de) | 1966-03-15 | 1966-03-15 | Ablenksystem für Korpuskularstrahlgeräte |
Country Status (4)
Country | Link |
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US (1) | US3453485A (de) |
DE (1) | DE1514706C2 (de) |
GB (1) | GB1157750A (de) |
NL (1) | NL6701379A (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4090077A (en) * | 1969-03-05 | 1978-05-16 | Siemens Aktiengesellschaft | Particle beam device with a deflection system and a stigmator |
US3619707A (en) * | 1969-08-08 | 1971-11-09 | Rca Corp | Astigmatism correction for electron beam devices |
GB1325540A (en) * | 1969-10-10 | 1973-08-01 | Texas Instruments Ltd | Electron beam apparatus |
GB1284061A (en) * | 1970-01-21 | 1972-08-02 | Cambridge Scientific Instr Ltd | Electron beam apparatus |
US4180738A (en) * | 1977-07-30 | 1979-12-25 | National Research Development Corporation | Astigmatism in electron beam probe instruments |
US4795912A (en) * | 1987-02-17 | 1989-01-03 | Trw Inc. | Method and apparatus for correcting chromatic aberration in charged particle beams |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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NL163078B (nl) * | 1948-10-02 | Dolby Laboratories Inc | Inrichting voor de verzwakking van audioruis. | |
DE879877C (de) * | 1951-01-25 | 1953-06-15 | Sueddeutsche Lab G M B H | Elektrostatische Einzellinse |
BE563662A (de) * | 1957-01-03 | |||
US3150258A (en) * | 1962-07-05 | 1964-09-22 | Philips Electronic Pharma | Electromagnetic stigmators for correcting electron-optical deficiencies in the lenses of electron beam instruments |
NL289547A (de) * | 1963-02-26 | |||
US3371206A (en) * | 1964-02-04 | 1968-02-27 | Jeol Ltd | Electron beam apparatus having compensating means for triangular beam distortion |
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1966
- 1966-03-15 DE DE1514706A patent/DE1514706C2/de not_active Expired
-
1967
- 1967-01-27 NL NL6701379A patent/NL6701379A/xx unknown
- 1967-03-14 US US623110A patent/US3453485A/en not_active Expired - Lifetime
- 1967-03-14 GB GB11854/67A patent/GB1157750A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US3453485A (en) | 1969-07-01 |
GB1157750A (en) | 1969-07-09 |
DE1514706B1 (de) | 1970-11-19 |
NL6701379A (de) | 1967-09-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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