DE1497058C - Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern

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DE1497058C
DE1497058C DE19631497058 DE1497058A DE1497058C DE 1497058 C DE1497058 C DE 1497058C DE 19631497058 DE19631497058 DE 19631497058 DE 1497058 A DE1497058 A DE 1497058A DE 1497058 C DE1497058 C DE 1497058C
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DE19631497058
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Robert William Victor; Mott George Robson; Hope William Day; Rochester; Corrsin Lester Penfield; N.Y. Gundlach (V.St.A.)
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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern, bei dem eine photoleitfähige thermoplastische Schicht aufgeladen, bildmäßig belichtet, auf 60° C erwärmt und wieder gekühlt wird.
Bei den gebräuchlichen Formen der Elektrophotographie wird durch das gemeinsame Einwirken eines elektrischen Feldes und eines Lichtmusters auf eine photoleitfähige Schicht ein Ladungsbild erzeugt. Das Ladungsbild wird später oder unmittelbar danach oder in einigen Fällen gleichzeitig in ein sichtbares Bild verwandelt mittels selektiver Anziehung, Abstoßung oder Neuverteilung in Bildform von feinverteilten, festen oder flüssigen Partikeln.
Bei Verfahren von der Art des Erfindungsgegenstandes wird eine photoleitfähige thermoplastische Schicht nach einem vorgegebenen Muster durch Einwirkung eines elektrostatischen Feldes so verformt, daß sie eine sichtbare Aufzeichnung in der Gestalt des Musters trägt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, das oben angegebene Verfahren dahingehend zu verbessern, daß für die thermoplastische photoleitfähige Schicht ein solches Material zu verwenden ist, welches die Eigenschaft hat, auch nach Anwendung von Wärme seine elektrischen Eigenschaften zu behalten.
Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß als photoleitfähige thermoplastische Schicht eine Schicht aus glasigem Selen verwendet wird.
Bei Verwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens können dauerhafte Deformationsbilder erzeugt werden, es ist aber auch möglich das Bild wieder zu löschen und die gleiche photoleitfähige thermoplastische Schicht erneut zu verwenden.
Die vorliegende Erfindung ist in der folgenden Beschreibung einiger beispielsweisen Ausführungsformen näher erläutert. In den Zeichnungen stellen dar:
F i g. 1 eine schematische Darstellung der Aufladung einer elektrophotographischen Platte,
F i g. 2 eine schematische Darstellung der Belichtung einer elektrophotographischen Platte,
F i g. 3 eine schematische Darstellung der Erweichung der photoleitfähigen Schicht einer solchen Platte,
F i g. 4 einen Teilschnitt durch eine Platte, die ein erfindungsgemäßes Bild trägt, in perspektivischer Sicht.
F i g. 1 zeigt die elektrostatische Aufladung einer elektrophotographischen Platte 30, bestehend aus einem Schichtträger 31 (der in einigen Fällen wegbleiben kann), und einer daraufliegenden photoleitfähigen, thermoplastischen Schicht 32. Der Schichtträger 31 ist im allgemeinen und vorzugsweise ein elektrischer Leiter, der. in Verbindung mit der photoleitfähigen thermoplastischen Schicht 32 steht. Dafür können, wie in der üblichen elektrophotographischen Praxis, Stoffe wie Aluminium, Messing oder andere Metalle, metallisiertes Papier oder Papier mit relativ hohem Feuchtigkeitsgehalt, Glas mit einem durchscheinenden oder einem anderen leitenden Überzug oder andere bekannte: Schichten verwendet werden. Der Schichtträger 31 kann auch aus
ίο einem dem Fachmann bekannten Nichtleiter bestehen; in diesem Fall werden einige der hier beschriebenen Verfahrensschritte abgeändert, wie es dem fachmännischen Wissen entspricht. Die Schicht 32 besteht aus glasigem Selen. Die Schicht 32 zeichnet
»5 sich allgemein dadurch aus, daß sie im Dunkeln ein guter elektrischer Isolator ist, der in der Dunkelheit eine Oberflächenladung festzuhalten vermag, aber wesentlich stärker leitend wird, wenn er mit sichtbarem Licht, Röntgenstrahlen oder anderer aktivie-
ao render Strahlung belichtet wird. Ferner ist die Schicht 32 zusätzlich in der Lage, durch Anwendung von Wärme aufgeweicht zu werden, vorzugsweise nur zeitweilig, ohne daß dabei ihre elektrischen Eigenschaften bleibend geschädigt werden. Die
as Schicht 32 kann eine Dicke haben, die im Bereich der üblicher Weise in der Elektrophotographie angewandten liegt, das heißt in der Größenordnung von einem Mikron bis zu einigen hundert Mikron. Beispielsweise soll die Schicht aus glasigem Selen
eine Dicke von 20 μηι haben.
Wie weiter in F i g. 1 gezeigt wird, wird die Platte 30 dadurch elektrostatisch aufgeladen, daß sie relativ zu einer Sprühentladevorrichtung 33 bewegt wird, die mit einer Hochspannungsquelle 34 verbunden ist.
Sprühentladevorrichtungen sind in der elektrophotographischen Technik bekannt. Es sind auch andere Verfahren zur Aufbringung einer gleichmäßigen Ladung auf einer isolierenden Oberfläche bekannt und können angewendet werden. In Überein-Stimmung mit der üblichen elektrophotographischen Praxis kann eine Ladung mit einem Potential von einigen hundert Volt auf die Platte 30 aufgebracht werden. Die Polarität der aufgebrachten Ladung kann entweder positiv oder negativ sein je nach den besonderen Eigenschaften der Schicht 32. Der nächste Schritt ist die Belichtung der Platte 30 mit einem Lichtmuster, wie in F i g. 2 gezeigt. Die Belichtung kann mittels eines photographischen Vergrößerungsapparates 35 vorgenommen werden, wie gezeigt, oder in einer Kamera, oder durch Kontaktbelichtung oder durch andere Mittel. Wenn der Schichtträger 31 durchsichtig ist, kann die Belichtung besser durch den Schichtträger 31 hindurch vorgenommen werden als in der dargestellten Weise. Dort wo sie vom Licht getroffen wird, wird die photoleitfähige Schicht 32 elektrisch leitend und läßt die Ladungen an ihrer Oberfläche abfließen. Auf diese Weise entsteht auf der Oberfläche der Schicht 32 ein Ladungsbild und dementsprechend auch ein Muster des elekirischen Feldes in der Schicht 32, das gleichfalls die Bildform aufweist.
Der nächste Schritt ist die zeitweilige Aufweichung der photoleitfähigen Schicht 32 derart, daß sich ihre Form oder ihre Oberflächengestaltung unter der Wirkung der mechanischen Kräfte, die mit dem Ladungsbild auf der Oberfläche verbunden sind, verändert.
Dabei kann irgendein Verfahren zum Aufwei-
3 4
chen angewandt werden vorausgesetzt, daß es die kann. Übermäßiges Aufweichen durch Erwärmung elektrische Leitfähigkeit der Schicht 32 nicht so über- ist auch deshalb zu vermeiden, um die Gefahr herabmäßig erhöht, daß die elektrischen Ladungen auf zusetzen, daß die photoleitfähige Schicht 32 beder Schicht rasch abfließen und sich zerstreuen schädigt wird.
können, und vorausgesetzt, daß es die Schicht 32 5 Wenn ein bleibendes Bild gewünscht wird, ist mit nicht bleibend beschädigt. Das gebräuchlichste Ver- den voranbeschriebenen Verfahrensschritten die Erfahren zum Aufweichen ist die Erwärmung der findung ausgeführt. Im allgemeinen ist es jedoch erSchicht 32, da sich Selen durch seine Widerstands- wünscht, die Platte 30 wieder zu verwenden und es fähigkeit gegenüber nahezu allen bekannten Lösungs- wird notwendig, das Bild auf ihr auszulöschen. Das mitteln auszeichnet. Dieses Verfahren ist in F i g. 3 io kann geschehen, indem man dieselben Verfahren andargestellt, worin die Platte 30 unter der Heizvor- wendet, die vorher zur Aufweichung der Schicht 32 richtung 36 hegend gezeigt ist. Selen kann durch benutzt wurden. Folglich kann die Schicht 32 neuerzeitweilige Erwärmung auf eine Temperatur von dings erhitzt werden, vorzugsweise in Anwesenheit etwa 60° C aufgeweicht werden. Es wurde gefunden, von Licht. Das Licht verursacht eine Zerstreuung daß die Erwärmung auf diese Temperatur das Selen 15 der elektrischen Ladungen auf der Schicht 32, die nicht schädigt, vorausgesetzt, daß die Dauer der Er- Aufweichung der Schicht 32 gestattet eine Diffusion wärmung kurz gehalten wird. Wenn die Schicht 32 und Neutralisation der Ladungen und läßt die Obererwärmt ist, kann sie entsprechend den elektrosta- flächenspannung wirksam werden, die die Obertischen Kräften, die auf sie einwirken, fließen und fläche der Schicht 32 wieder glättet. Wenn eine öftere so ein verformtes Oberflächenbild entwickeln, das 20 Wiederholung ins Auge gefaßt ist, ist es insbesonmit dem ursprünglichen Lichtmuster übereinstimmt, dere wichtig, Staubteilchen von der Schicht 32 fernweiches während der in F i g. 2 dargestellten Beiich- zuhalten, die sonst bleibende, auf den Bildern ertungsphase auf ihn eingewirkt hat. Dieses Muster scheinende Fehler verursachen,
kann im reflektierten Licht, oder, wenn sowohl der Auf diese Weise wird auf einer elektrophotogra-Schichtträger 31 als auch die photoleitfähige Schicht 25 phischen Platte durch physikalische Einwirkungen 32 im wesentlichen durchsichtig skid, im durchge- auf die Platte selbst und ohne die Verwendung von henden Licht betrachtet werden. Übliche Projektions- speziellen Tinten, Pigmenten, Tonern, Kunststoffen verfahren für durchgehendes oder spiegelnd reflek- oder anderen der Entwicklung eines Ladungsbildes tiertes Licht können verwendet werden. dienenden Stoffen ein sichtbares Bild erzeugt. Es Der nächste Verfahrensschritt ist im allgemeinen, 30 können auch verschiedene Abwandlungen der vorandie Schicht 32 wieder zu erhärten, wobei das defor- gegangenen Verfahren angewandt werden. So kann mierte Oberflächenmuster an Ort und Stelle einge- die Schicht 32 zuerst aufgeweicht und dann aufgelafroren wird. Dies kann beispielsweise dadurch be- den und belichtet werden, bevor sie die Möglichkeit werkstelligt werden, daß man die Wärmquelle ent- hatte, wieder zu erhärten. Es ist auch möglich, entfernt. Im allgemeinen ist es erwünscht, die Schicht 35 sprechend bekannten elektrophotographischen Ver-32 wieder zu härten, sobald das Bildmuster erscheint. fahren, die elektrophotographische Platte gleichzeitig Übermäßig starkes oder übermäßig langes Aufwei- mit einem Lichtmuster zu belichten und elektrostachen der Schicht 32 ist zu vermeiden, weil beides tisch aufzuladen, während sie sich im erweichten ein Schwinden des Bildmusters zur Folge haben Zustand befindet.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern, bei dem eine photoleitfähige thermopla-. stische Schicht aufgeladen, bildmäßig belichtet, auf 60° C erwärmt und wieder gekühlt wird, dadurch gekennzeichnet, daß als photoleitfähige thermoplastische Schicht eine Schicht aus glasigem Selen verwendet wird.
DE19631497058 1962-05-08 1963-05-06 Verfahren zur Herstellung von Deformationsbildern Expired DE1497058C (de)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US19324662 1962-05-08
US19327662 1962-05-08
US193246A US3196009A (en) 1962-05-08 1962-05-08 Electrostatic image liquid deformation development
US19324562 1962-05-08
US193245A US3238041A (en) 1962-05-08 1962-05-08 Relief imaging of photoresponsive member and product
US193276A US3615388A (en) 1962-05-08 1962-05-08 Deformation imaging process and element
DER0035104 1963-05-06

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1497058A1 DE1497058A1 (de) 1969-02-20
DE1497058B2 DE1497058B2 (de) 1972-10-19
DE1497058C true DE1497058C (de) 1973-05-10

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