DE1447927A1 - Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer Druckzwecke - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von Reliefformen fuer DruckzweckeInfo
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Description
BADISCHE ANILIN-"«' S0äftHFABI?4% AG 1 4 Δ 7 Q 9 7
Unser Zeichen: O.Z. 2?. 774 Bue/Dek
Ludwigshafen am Rhein, 22« Juli 1965
IS.
Es ist bekannt, Reliefformen für Druckzwecke herzustellen, indem
wan Platten oder Folien aus Gemischen von hochpolymeren Cellulosederivaten
mit ungesättigten Monomeren, die mehr als eine polymerisierbare
Doppelblndung haben, und Pot©Initiatoren durch eine
Vorlage belichtet und die unbelichteten Stellen mit geeigneten Lösungsmitteln bis zu der gevrtlnschten Tiefe des Reliefs entfernt.
Derartige Reliefformen eignen sich für den Hochdruck und Trockenoffsetdruck:
(indirekter Hochdruck). Reliefformen dieser Art sind nicht immer abriebfest genug und reproduzierbar herzustellen.
Es ist ferner bekannt, sum Herstellen von Reliefformen für Druckzwecke
Platten, Folien oder Filme aus linearen gesättigten synthetischen
Polyamiden, Monomeren mit mindestens zwei Doppelbindungen und Fotoinitiatoren zu verwenden. V/erden die Monomeren im Gewichts
verhältnis von 1 bis 25 Gewichtsprozent, bezogen auf die Gesamtmischung,
verwendet, so' erhält man nach Belichten dieser Platten durch eine Vorlage und anschließendem Entwickeln mit üblichen
Lösungsmitteln Reliefformen, deren Lichtempfindlichkeit und Konturenschärfe
nicht immer befriedigen. Sucht man dagegen die Monomeren
in größeren Konzentrationen, z.B. über 20 %, einzusetzen,
so stößt man häufig auf* das Problem, daß sich solche Mengen nicht
BAOCmiOJNAL «
HS3 "
" ■ , "· £■ — Us /j.
mehr vollständig in Polyamiden lösen und deshalb zu Trübungen, ·
Ausschwitzen und Inhomogenitäten in den Platten führen.
Man hat daher die Verträglichkeit der Polyamide mit den Monomeren
verbessert, indem man Polyamide verwendet hat, die zunächst mit Formaldehyd methyloliert und den Methylolgruppen dann verethert
worden sind. Beim Verwenden solcher Gemische besteht die Gefahr,
daß schon beim Herstellen der Platten, B'ilme oder Folien unerwünschte
Vernetzungen auftreten. Die Platten, Filme oder Folien
sind darüber hinaus auch wenig lagerstabil.
Es wurde nun gefunden, daß man Reliefformen für Druckzwecke durch
Belichten von Platten, Filmen oder Folien aus Gemischen von 80
bis 40 Gewichtsprozent eines linearen'synthetischen Polyamids, 20 bis 6ö Gewichtsprozent Monomeren mit mindestens zwei, polymer!-
sierbaren Doppelbindungen und einem Fotpinitiator unter einer Vorlage und anschließendem Entwickeln vorteilhaft herstellen kann,
indem man Polyamide verwendet, die 0,5 bis 15, vorzugsweise 0,5
bis 12, Gewichtsprozent Benzolsulfonsäure-n-butylamid enthalten«
Man erhält Reliefformenfür Druckzwecke mit ausgezeichneter Konturenscirärfe
und hoher. Auf-lagefestigkeit. . ■
Geeignete synthetische; lineare Polyamide, sind vorzugsweise Misehpolyainidey
die in;üblichen=Lösungsmitteln oder IjösurigsmittelgemiscHen,
-wie in" Biederen, äliphatiscben Alkoholen oder Alkohol*
Wasser-Gemischen, Ketonen, Aromaten oder Benzol-AIkohol»Waas@F·» .
Gemischen löslich sind, z.B·,,. Mischpolyainiäefl die in üblicher Weise.
ton'' öder--aktiMer^e 'anionische
8 0 9 8 0 8:
- 3 - O.Z. 23 774
aus zwei oder mehreren Lactamen mit 5 bis 13 Ringgliedern hergestellt
sind. Solche Lactame sind beispiels'tfeise Pyrrolidon, Capro-.
lactam, önanthlactam, Capryllactam, Laurinlactam bzw. entsprechende
C-substituierte Lactame, wie C-Methyl-^-caprolactam, £-Ä*thyl-£~.
caprolactam oder ^-Äthylönanthlactam. Anstelle der Lactame können
die ihnen zugrunde liegenden Aminocarbonsäuren polykondensiert
sein. Weitere geeignete Mischpolyamide sind Polykondensationsprodukte aus Salzen vom Typ Diamin/Dicarbonsäure, die aus mindestens
drei polyamidbildenden Ausgangsstoffen hergestellt sind. Hierfür übliche Dicarbonsäuren bzw. Diamine sind beispielsweise
Adipinsäure, Korksäure, Sebacinsäure, Dodecandicarbonsäure sowie
entsprechende Substitutionsprodukte, wie Qf, (X-Diäthyladipinsäure,
W-Kthylkorksäure, o;»w1^0ctan- oder -Nonandicarbonsäure bzw.
deren Gemische sowie aliphatisch^ oder aromatische- Ringsysteme
enthaltende Di carbonsäuren j Diamine, wie Pent ame thylendiainin,
Hexamethylendiamin, Heptamethylendlamin, Octarnethylendiamiia oder
C- und/oder N-substituierte Derivate dieser Amine, wie N-Methyl-*
N-Äthy!hexamethylendiamin, l,6-Diamino-3~methylhexan, cycloaliphatische
oder aromatische Diamine, wie Metaphenylendiamin,
Metaxylylendiamin, 4,4f-Diaminodiphenylmethan, wobei die Brücken^·
glieder zwischen den beiden Carbonsäuregruppen bzw. Aminogruppen durch Heteroatome unterbrochen sein können. Besonders geeignete
Mischpolyamide sind solche, die durch Mischkondensation eines Gemisches aus einem oder mehreren Lactamen und mindestens einem
Dicarbonsäure/Diaminsalz hergestellt sind, z.B. ^-Caprolactaia,
Hexamethylendiammonium-adipat und p,p'-Diaminodicyclohexylmethanadipat.
Geeignete Monomere, äie mindestens zwei polymerisierbare Doppel-
. ■ . - 4 - O. Z, 25 772T
bindungen enthalten, sind sölehe>
die neben den Doppelbindungen noch Amidgruppen haben, wie Methylen-bis-acrylamid, Methylen-bismethaerylamid
sowie die Bis-aeryl- oder Bis-methacrylamide. von
Äthylendiarain, Propylendiamin, Butylendiamin, Pentamethylendiamin,
Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamih, Octamethylendiasnin, sowie
von Polyaminen und anderen Dlaminen, die verzweigt, durch Hetero-
sind
atome unterbrochen/oder cyclische Systeme enthalten. Gut geeignet sind auch solche Monomere, die neben Amidgruppen noch Urethan- oder Harnstoffgruppen enthalten, wie die Umsetzungsprodukte von Diolmonoacrylaten oder -methaerylaten mit Diisocyanate^ oder die entsprechenden Umsetzungsprodukte der Monoacrylamide von Diaminen mit Dlisocyanaten. Von Stickstoff enthaltenden Monomeren sind ferner geeignet Triacrylformal oder Tfiallylcyanurat. Weiterhin geeignet sind die Di-, Tri- oder Tetra-acrylate oder -methacrylate von zwei oder mehrwertigen Alkoholen und Phenolen. Die Verwendung bi- oder mehrfunktioneller polymer!sierbarer Monomerer ist jedoch nicht auf—die oben genannte Auswahl begrenzt. Sie schließt auch andere Monomere mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen ein, sofern diese zu mindestens 50 % mit den genannten Mischpölyamiden, die BenzolsülfosSure-n-butylamia enthalten, verträglich sind, was sieh durch einen einfachen Handversuch leicht feststellen läßt.
atome unterbrochen/oder cyclische Systeme enthalten. Gut geeignet sind auch solche Monomere, die neben Amidgruppen noch Urethan- oder Harnstoffgruppen enthalten, wie die Umsetzungsprodukte von Diolmonoacrylaten oder -methaerylaten mit Diisocyanate^ oder die entsprechenden Umsetzungsprodukte der Monoacrylamide von Diaminen mit Dlisocyanaten. Von Stickstoff enthaltenden Monomeren sind ferner geeignet Triacrylformal oder Tfiallylcyanurat. Weiterhin geeignet sind die Di-, Tri- oder Tetra-acrylate oder -methacrylate von zwei oder mehrwertigen Alkoholen und Phenolen. Die Verwendung bi- oder mehrfunktioneller polymer!sierbarer Monomerer ist jedoch nicht auf—die oben genannte Auswahl begrenzt. Sie schließt auch andere Monomere mit mindestens zwei polymerisierbaren Doppelbindungen ein, sofern diese zu mindestens 50 % mit den genannten Mischpölyamiden, die BenzolsülfosSure-n-butylamia enthalten, verträglich sind, was sieh durch einen einfachen Handversuch leicht feststellen läßt.
Geeignete Fotoinitiatoren sind beispielsweise Verbindungen, die unter der Einwirkung von Licht in Radikale zerfallen und die * *..
Polymerisation starten, beispielsweise vicinale Kefcaldönylyerbindungen,
wie Diacetyl, Benzyl j «-.Ketaldonylalkohole, wie Behzoini
Acyloinäther, wie Benzoinmethylätherj q(-substitutierte aromatische
Acyloine, wie ot-Methylbenzoin, Me Potoinitia.tOFfn werden in *
. - 5 - ■
O.Z. 23 774 · ν.
Mengen von 0,01 bis 10 Gewichtsprozent, vorzugsweise in Mengen
von 0,01 bis 3 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgemisch, verwendet.
Übliche thermische Inhibitoren sind beispielsweise Hydrochinon, p-Methoxyphenol, p-Chinon, Kupfer-I-chlorid, Methylenblau,
ß-Naphthylamin, ß-Naphthol, Phenole, etc.
Das Benzolsulfosäure-n-butylamid kann nach üblichen Verfahren
hergestellt sein, z.B. durch Umsetzung von n-Butylamin mit Benzplsulfosäurechlorid.
Die Platten, Filme oder Folien aus der erfindungsgemäß verwendeten
Mischung können nach üblichen Verfahren hergestellt sein, z.B.
durch Lösen der Komponenten, Entfernen des Lösungsmittels und anschließendes
Pressen, Extrudieren oder Walzen des feinverteilten Gemisches. Ferner können die Lösungen der Komponenten zu Folien
oder Filmen gegossen x»;erden.
Zum Belichten werden energiereiche Lampen, wie Kohlenbogenlampen, Quecksilberdampflampen, Xenonlampen oder Leuchtstoffröhren verwendet.
Man erhält bei relativ kurzer Belichtungszeit erfindungsgemäß
Reliefformen für Druckzwecke mit großer Kontürenschärfe. Der hohe
Monomerengehalt im Gemisch Polyamide/Monomere führt nicht zu Inhomogenitäten.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich sowohl für das Herstellen von ReLiefformen für den Hochdruck, den autotypischen
Tiefdruck als auch für den Trockenoffsetdruck (indirekter
809808/CU93
• - 6 - O.Z. 23 774
Hochdruck), wobei gewünschtenfalls die Platten, Filme oder Folien
vor oder nach dem Belichten mit starren oder flexiblen Unterlasen
aus Metall, Holz, Papier oder Kunststoffen verbunden sein können.
Die in den Beispielen genannten Teile beziehen sich auf das "Gewicht.
90 Teile eines in wäßrigen Alkoholen löslichen Mischpolyamide,
das durch übliche Kondensation von 35 Teilen Hexamethylendiaminadipat,
35 Teilen Adipinsäuresalz des Diaminodicyclohexylmethans und 30 Teilen Caprolactam hergestellt wurde, werden zusammen mit
10 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 23 Teilen Hexamethylenbis-acrylamid,
20 Teilen TrialIyIcyanurat, 1,5 Teilen Benzoin»
methyläther und 0,04 Teilen Hydrochinon bei 50 bis 60°C.in 200 ml Methanol gelöst. Die klare, viskose Lösung wird zum Verdunsten
des Lösungsmittels in Schalen gegossen. Nach zwölfstündigem Trocknen
wird das Produkt zu Schnitzeln zerkleinert und weitere 24
Stunden bei Raumtemperatur in einem Vakuumtrockenschrank getrocknet
und anschließend granuliert. Das Granulat wird bei l60°C zu Platten verpreßt, die klar und transparent sind. Man belichtet
die Platten im Kontakt mit einem Strich- oder Raster-Negativ 15 Minuten» Als Lichtquelle dienen 4 Leuchtstoffröhren mit hohem
UV-Anteil, die sich im Abstand von 3 cm vor der Platte befinden. Nach dem Belichten werden die unbelichteten Teile der Platte mit
einem Benzol-Methanol-Wasser-Gemisch (2:7:1) ausgelöst. Das Relief
hat nach 7-niinütigem Behandeln mit dem Lösungsmittel-Gemisch eine
maximale Tiefe von 0,7 mm und wird nach kurzem Abspülen mit
Methanol sofort mit Preßluft trocken geblasen. ;
■- .-ν*.- ■■■'■- -- - - ■ - -t - 7 - ■
-^ BAD R
■: '. ']:'---y·^ 8 0 9.8 0 8/ΰ 4 930 -
- 7 - 0·Ζ. 23 774
Die Druckplatte hat ein sehr konturenseharfes Relief mit schrägen
Planken, wie sie für die Stabilität beim Drucken erwünscht sind. Ein ähnlich gutes Ergebnis erhält man, wenn statt des beschriebenen
Mischpolyamids z.B. ein solches aus 30 Teilen Hexamethylene
diamlnadipat, 30 Teilen Diaminodicyclohexyladlpat, 25 Teilen
Caprolactam, 5 Teilen Capryllactam und 10 Teilen Aminoundeeancarbonsäure
verwendet wird.
95 Teile des in Beispiel 1 verwendeten alkohollöslichen Polyamids werden zusammen mit 5 Teilen Benzolsuifosäure-n-butylamid, 25 Teilen
Hexamethylen-bis-acrylamid, l8 Teilen MalelnsäureMiiydrid,
1,5 Teilen Benzoinmethyläther und 0,03 Teilen p-tert.-Butylkresol
in 200 ml Methanol gelöst und anschließend zum Verdunsten des Lösungsmittels in Schalen gegossen. Nach 12- bis 24~3tüindigem Trock·
nen wird das Produkt zerkleinert, weitere 2h Stunden bei Raumtemperatur
im Vakuum getrocknet und granuliert. Nach dem Pressen zu
Platten, Belichten und Auswaschen gemäß Beispiel 1 erhält man eine, klare, zähe, nicht spröde Platte, die ein für Druckzwecke
geeignetes Relief trägt. Die maximale Relieftiefe beträgt 0,8 mm.
Ein ähnlich gutes Ergebnis erhält man bei Verwendung eines Misehpolyamids
aus 48 Teilen Caprolactam, 20 Teilen Hexamethylendiaminadlpat,
19 Teilen Hexamethylendiaminsebaeat und 13 Teilen O-Aminoundecancarbonsäure. -. ■ >
90 Teile des in Beispiel 1 beschriebenen Polyamids werden zusam-· men mit 5 feilen igjizplaulfosHure-n-butylamia, 2,5 Tet^m Poly-
8 0 98.06./
BAD
10 Teilen TrialIyIcyanurat, 5 Teilen Styrol, 5 Teilen phthalsäureanhydrid,
5 Teilen Butandiol-il^-monoacrylat, 1,5 Teilen
Benzol nrriethyl M the r und 0»03 Teilen p-tert.-Butylkresol in JQQ-mV
Methanol gelöst und zum Verdunsten des Lösungsmittels in Schalen
gegossen. Nach 12 bis 24 Stunden wird des· Rückstand zerkleinert
und weitere 24 Stunden bei Raumtemperatur Im Vakuum getrocknet.
Das trockene Produkt wird .granuliert, und * bei 1700C zu Platten
von 1 rrim Dicke verpreßt*
Eine Platte wird 10 Minuten im Abstand von j om mit 4 Leuchte
stoffröhren durch ein Strich-Raster-Negativ belichtet. Nach dem Belichten werden mit einer weichen Bürste die unbelichteten
Anteile der Platte in Gegenwart von Propänol/Wasser (80s 20)
herausgewasehen. Nach 7 Minuten erhält man eine Platte, deren Relief maximal 1,0 mm tief ist und die mit ©iner festen Unterlage,
z.B. einer Metallplatte, verbunden werden kann*
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids,
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthal-Säureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 20 Teilen Hexamethylen-bis-acrylamid,
20 Teilen m-Xylylen-bis-acrylainid, 10
Teilen Styrol und 1,5 Teilen Benzoinmethylather in JOO Teilen, !
Methanol wird nach dem im Beispiel 1 beschriebenen Verfahren zu
einer lichtempfindlichen Platte verarbeitet, weiche durch ein
kombiniertes Strich-Baster-Test-Negativ wie im Beispiel >
be- ·-■'
■■-.■· ; schrieben belichtet und ausgewaschen wird. Die Reliefform besitzt
8O9808/0A93 ' ". '.. " 9 "*
ORIGINAL INSPECTED
- 9 - · O.Z. 23 774
ein sehr konturenscharfee Relief mit schrägen Planken und ausgezeichneter
Versookelung eier einzelnen Punkte. Die Auswasch tiefe
beträgt nach 7 Minuten maximal 0,9 mm.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids,
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-pbutylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 50 Teilen m-Xylylen-bis-acrylamid
und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol wird nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten,
lichtempfindlichen Platte von 1 mm Stärke verarbeitet, die nach Beispiel 3 belichtet und ausgewaschen wird. Die Reliefform hat nach einer Auswaschzeit von 6 Minuten eine maximale
Tiefe von 0,8 mm, gute Reliefschärfe mit schrägen Planken und
ausgezeichneter Versockelung der einzelnen Punkte.
Eine Lösung von 100 Teilen des Im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids,
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 20 Teilen Hexamethylen-bis-acrylamid,
30 Teilen m-Xylylen-bis-aqrylamld und
1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol wird nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten, lichtempfindlichen
Platte verarbeitet, welche nach Beispiel 3 belichtet und ausgewaschen
wird. Die Reliefform hat eine maximale Tiefe von 0,8 mm, sehr gute Reliefschärfe mit schrägen Flanken und ausgezeichneter
Versockelung der einzelnen Punkte.
- 10 -
8098^8/0-493-
.. - 10 - O.Z. 23 77^ *
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Poly«*
amids, 5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 20 Teilen Hexamethylen-bls-acrylamid,
20 Teilen m-Xylylen-bls-aerylamid, 10
Teilen 4,V-Bis-(acryloylaminocyclohexyl)-methan, 31,5 Teilen
Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol wird nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten, lichtempfindlichen Platte verarbeitet,
welche nach Beispiel 3 belichtet und ausgewaschen wird. Die Reliefform hat eine maximale Tiefe.von 0,9 wn, sehr gute
Reliefschärfe mit schrägen Flanken und ausgezeichneter Versoekelung
der einzelnen Punkte.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids,
5 Teilen BenzolsulfosUure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 10 Teilen Hexamethylen-bis-acryiamid,
20 Teilen m-Xylylen-bls-acrylamld, 20
Teilen Styrol und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol wird nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten,
lichtempfindlichen Platte verarbeitet, welche nach Beispiel 3
belichtet und ausgewaschen wird. Die Beliefform hat eine maximale
Auswaschtiefe von 0,9 rnm, sehr gute Relief schärf© mit schrägen Flanken und ausgezeichneter Versookelung der einzelnen Punkte.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschrieben Polyamids,
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthai-
- 11 -
Teilen Styrol und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen
Methanol wird nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten, lichtempfindlichen Platte verarbeitet, mittels einer methanolisehen,
viskosen Lösung des Polyamids auf ein schwarzlackiertes Stahlblech ' von 0,3 mm kaschiert. Diese Platte wird nach Beispiel 3 belichtet
und ausgewaschen. Die Reliefform ist nach einer Auswaschzeit von 12 Minuten an den unbelichteten Stellen bis auf das Metall ausgelöst;
sie hat eine ausgezeichnete Reliefschärfe mit schrägen Flanken und ausgezeichneter Versockelung der einzelnen Punkte.
Beispiel 10 !
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Poly- j
-ν
amids, 5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 10 Teilen Hexamethylenbis-acrylamid,
20 Teilen m-Xylylen-bis-aerylamid, 10 Teilen Styrol
und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol werden nach Beispiel 1 zu einer klaren, transparenten, lichtempfindlichen
Platte verarbeitet, die nach Beispiel 3 belichtet und ausgewaschen wird. Die Reliefform hat eine maximale Tiefe von 0,9 mm,
S eine ausgezeichnete Reliefschärfe mit schrägen Flanken und aus-P
gezeichneter Versockelung der einzelnen Punkte.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1- Teilen p-tert.-Butylkresol, 10 Teilen Hexamethylen-bis-acrylamid,
10 Teilen m-Xylylen-bis-acrylamid,20 Teilen Styrol und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther in 300 Teilen Methanol wird nach Beispiel 1 zu
einer klaren,
ORIGINAL INSPECTED
"- 12 - 0»Z. 23 77V
■ transparenten, lichtempfindlichen Platte verarbeitet, die nach
Beispiel 3 belichtet und ausgev/aschen wird. Die Relief form hat
oine maximale Tiefe von 0,8 mm, sehr gute Reliafeohärf© mit
schrägen Flanken und ausgezeichneter Versoekelung der einzelnen Punkte.
Eine Lösung von 100 Teilen des im Beispiel 1 beschriebenen Polyamids,
5 Teilen Benzolsulfosäure-n-butylamid, 5 Teilen Phthalsäureanhydrid,
0,1 Teilen p-tert.-Butylkresol, 10 Teilen Hexamethylen-bis-acrylamid,
10 Teilen m-Xyfylen-bis-acrylamid, 10 Teilen
Methacrylsäuremethylester und 1,5 Teilen Benzoinmethyläther
in 300 Teilen Methanol xiird nach Beispiel 1 zu einer* klaren,
transparenten, lichtempfindlichen Platte verarbeitet, die nach
Beispiel 3 belichtet und ausgewaschen wird. Die Reliefform hat
eine maximale Tiefe von 0,9 ncn# ausgezeichnete Relief schärfe mit
schrägen Flanken und ausgezeichneter Versockelung der einzelnen
Punkte.
809808/0493
Claims (1)
- - 13 - O.Z. 23 774PatentanspruchVerfahren aura Herstellen von Reliefformen für Pruckzweoke durch Belichten von Platten, Filmen oder Folien aus Gemischen von 80 bis 40 Gewichtsprozent eines linearen synthetischen Polyamids, 20 bis 60 Gewichtsprozent Monomeren mit mindestens zwei polymer!sierbaren Doppelbindungen und einem Fotoinitiator unter einer Vorlage und anschließendem Entwickeln, dadurch gekennzeichnet, daß man Polyamide verwendet, die 0,5 bis 15 Gewichtsprozent Benzolsulfonsäure-n-butylamid enthalten.BADISCHE ANILIN- & SODA-FABRIK AG „80 9808/0493 Neue UAteii^ejai^^äiAbs.aNnis^
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB0082964 | 1965-07-23 |
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GB (1) | GB1148328A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2023083A1 (de) * | 1969-05-19 | 1970-11-26 | Keuffel & Esser Co | Lichtempfindliches aetzfaehiges Kopiermaterial |
-
1965
- 1965-07-23 DE DE19651447927 patent/DE1447927C3/de not_active Expired
-
1966
- 1966-07-20 CH CH1048966A patent/CH466714A/de unknown
- 1966-07-22 BE BE684502D patent/BE684502A/xx not_active IP Right Cessation
- 1966-07-22 GB GB3301266A patent/GB1148328A/en not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2023083A1 (de) * | 1969-05-19 | 1970-11-26 | Keuffel & Esser Co | Lichtempfindliches aetzfaehiges Kopiermaterial |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1447927C3 (de) | 1974-06-12 |
CH466714A (de) | 1968-12-15 |
BE684502A (de) | 1967-01-23 |
GB1148328A (en) | 1969-04-10 |
DE1447927B2 (de) | 1973-11-22 |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |