DE10337362B4
(de )
2006-05-11
Borosilicatglas und seine Verwendungen
EP2261189B1
(de )
2016-11-23
Mit nanoskaligem metalloxid-pulver versetzte leucit-glaskeramik
DE102010029975A1
(de )
2010-12-16
Bor-armes Neutralglas mit Titan- und Zirkonoxid
DE3009650C2
(de )
1982-11-04
Goldfreie Legierungen zum Aufbrennen keramischer Massen
DE2421704C3
(de )
1980-11-27
Nickel-Eisen-Gußlegierung
DE2450928A1
(de )
1975-04-30
Glaslotzusammensetzung und verwendung derselben bei einer verkapselungseinrichtung
DE1441795U
(enrdf_load_stackoverflow )
DE2241070A1
(de )
1973-03-01
Schmelzofen fuer nichteisenmetall
WO2023035692A1
(zh )
2023-03-16
通过离子交换增强的荧光硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法
DE1608148C3
(de )
1973-10-25
Aluminiumlegierung
DE202005020348U1
(de )
2006-03-09
Edle Dentallegierung
DE1496652B2
(de )
1971-02-25
Knstallisierbares Grundemail mit ho her Erweichungstemperatur über 540 Grad C, guter Temperatureechselbestandigkeit und hoher Schlagfestigkeit
DE3438288C1
(de )
1985-07-04
Verwendung von Silber-Palladium-Legierungen als Werkstoffe zum Aufbrennen von Dentalkeramiken
GB903450A
(en )
1962-08-15
High density, soft phosphate glass and method of making it
DE2440425B2
(de )
1979-03-22
Goldarme Edelmetall-Legierungen zum Aufbrennen von Porzellan für zahnärztliche Zwecke
DE887399C
(de )
1953-08-24
Chemisch widerstandsfaehiges Glas
DE639465C
(de )
1936-12-05
Elektrische Entladungslampe mit Alkalidampffuellung und mit einer aus Borosilicatglas bestehenden Glashuelle
DE2714773C3
(de )
1983-12-08
Gläser auf der Basis SiO↓2↓-PbO-K↓2↓O für das Einkapseln elektrischer Teile
DE2447269A1
(de )
1975-06-12
Vorrichtung zur zugabe von zuschlagstoffen
DE1273757B
(de )
1968-07-25
Glas, insbesondere als lichtdurchlaessige Schutzschicht fuer Elektrolumineszenzanordnungen
DE102018221827A1
(de )
2020-06-18
Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik und Glaskeramik
DE1154904B
(de )
1963-09-26
Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0ª Wellenlaenge mit sehr duennem Querschnitt
DE694635C
(de )
1940-08-05
Schutzmantel fuer elektrische Heizelemente
DE2548736B2
(de )
1977-09-01
Composit-passivierungsglas auf der basis pbo-b tief 2 o tief 3-(sio tief 2-al tief 2 o tief 3) mit einem thermischen ausdehnungskoeffizienten (200-300 grad c) zwischen 40 und 60.10 hoch -7 / grad c fuer silicium-halbleiterbauelemente mit aufschmelztemperaturen von hoechstens 600 grad c
DE631751C
(de )
1936-06-26
Masse fuer Formen zur Herstellung zahnaerztlicher Einsaetze o. dgl. aus Edelmetall odr Edelmetall-Legierungen