DE1297782B - Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern - Google Patents

Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern

Info

Publication number
DE1297782B
DE1297782B DE1965D0046199 DED0046199A DE1297782B DE 1297782 B DE1297782 B DE 1297782B DE 1965D0046199 DE1965D0046199 DE 1965D0046199 DE D0046199 A DED0046199 A DE D0046199A DE 1297782 B DE1297782 B DE 1297782B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
ionizer
ionization
discharged
ionized
positive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE1965D0046199
Other languages
English (en)
Inventor
Makedanz Albert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akademie der Wissenschaften der DDR
Original Assignee
Akademie der Wissenschaften der DDR
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akademie der Wissenschaften der DDR filed Critical Akademie der Wissenschaften der DDR
Priority to DE1965D0046199 priority Critical patent/DE1297782B/de
Publication of DE1297782B publication Critical patent/DE1297782B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05FSTATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
    • H05F3/00Carrying-off electrostatic charges
    • H05F3/06Carrying-off electrostatic charges by means of ionising radiation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05FSTATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
    • H05F3/00Carrying-off electrostatic charges
    • H05F3/04Carrying-off electrostatic charges by means of spark gaps or other discharge devices

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern, beispielsweise Glas, Kunststoff, Textilfasern, Filmen oder Gummi.
  • Es sind bereits Verfahren und Vorrichtungen zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern bekannt, bei denen die elektrostatische Rufladung von den zu entladenden Flächen durch direkte Bestrahlung mit Radionukliden abgeleitet wird. Hierbei treten Strahlungsgefährdungen durch Kontamination und Inkorporation auf. Zum Beispiel sind antistatische Optikpinsel bekannt, bei denen die radioaktiven, Strahlungsquellen unmittelbar am Pinselstiel befestigt sind.
  • Es ist auch ein Verfahren der indirekten Ionisierung bekannt, bei dem die zu entladenden Flächen und die umliegende Luft nicht durch direkte Bestrahlung mit Radionukliden leitend gemacht werden. Die Umspülung der zu entladenden Flächen erfolgt mit Luft, die in einem gesonderten Ionisator ionisiert wird. Die Innenwand dieses Ionisators ist mit radioaktiven Stoffen ausgelegt. Bei diesem bekannten Verfahren der indirekten Ionisierung tritt bereits bei Entfernungen von weniger als 1 m eine beträchtliche Rekombination der gebildeten Ionen auf, so daß die Strahlungsquelle auch in der Nähe der Arbeitsstelle oder des Ortes der Entladung angeordnet sein muß. Infolgedessen treten ebenfalls die angeführten Mängel auf. Ein nachteiliger Aufbau liegt auch bei einer bekannten Einrichtung der indirekten Ionisierung vor, bei der unter anderem die Zuführung der Ionen an den Arbeitsplatz durch Kanalleitungen vorgesehen ist. Hier tritt ebenfalls eine beträchtliche vorzeitige Rekombination auf, da die in einem Ionisator gebildeten Ionen mittels eines Luftstromes einem erst nachgeordneten Kondensator zugeleitet werden.
  • Des weiteren ist die Hochspannungsionisation zur Ableitung elektrostatischer Rufladungen bekannt. Diese scheidet z. B. in der optischen Industrie aus, da mir kleine Optikpinsel angewendet werden. Auch bei der Herstellung von Folien und synthetischen Fasern ist die unmittelbare Hochspannungsionisation nicht anwendbar, da fast immer brennbare Flüssigkeiten und Dämpfe im Produktionsablauf vorhanden sind.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, die vorstehend geschilderten Mängel der bekannten Verfahren und Einrichtungen, insbesondere die sofort nach der Ionisierung einsetzende Rekombination, weitgehendst zu beseitigen, mit dem Ziel, eine wirkungsvollere und betriebssichere Vorrichtung zu schaffen, bei der gleichzeitig auch eine Gesundheitsgefährdung des Bedienungspersonals ausgeschlossen ist.
  • Gemäß der Erfindung wird dieses Ziel erreicht, wenn man eine Vorrichtung verwendet, bei der die in einem Ionisator befindliche Ionisierungsquelle im Gleichspannungsfeld angeordnet ist. Hierdurch tritt in dem Ionisator die Trennung der gebildeten positiven und negativen Ionen ein und die gasförmigen Medien mit positiven und die mit negativen Ionen sind unter Ausschluß der Rekombination einzeln oder nebeneinander den zu entladenden Flächen zuführbar. Es empfiehlt sich, die geometrische Anordnung und Abmessung der Ionisierungsquelle bzw. des Ionisators in Abhängigkeit von einer oder mehreren Betriebsgrößen, beispielsweise des Ionisierungsgrades der zu behandelnden Oberflächen, veränderbar auszuführen. Die Vorrichtung kann in der Weise ausgebildet sein; daß der Ionisatör ein öder mehrere radioaktive Strahlungsquellen enthält und/oder die Innenwandungen des Ionisators - zumindest teilweise - mit radioaktiven Stoffen belegt sind. Die Ionisierungsquelle ist vorteilhaft stabförmig auszubilden und in der Nähe der Längsachse des als Durchlaufgefäß ausgebildeten Ionisators verstellbar anzuordnen. Weiter ist es von Vorteil, für das Gehäuse des Ionisators einen Werkstoff mit hohem Rückstreukoeffizienten für Betastrahlen, beispielsweise aus Elementen mit hoher Ordnungszahl, zu verwenden. Die Innenseite der Gehäusewandung ist aus Isoliermaterial herzustellen oder mit Isoliermaterial zu versehen.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann auch angewendet werden, wenn die Ionen durch eine andere Ionisierungsmöglichkeit - z. B. eine Hochspannungsquelle - erzeugt werden. Von wesentlicher Bedeutung ist es, die positive und negative Ionen führenden Leitungen erst unmittelbar vor der zu entladenden Oberfläche miteinander zu vereinigen. Bei räumlich benachbarten Arbeitsplätzen oder Maschinen besteht die Möglichkeit, nur einen lonisator vorzusehen, von dem mehrere isolierte Zuleitungen, nötigenfalls Doppelleitungen, das Gas mit positiven und das mit negativen Ionen zu den einzelnen Arbeitsplätzen oder Maschinen führen. Das zum Behandeln der zu entladenden Oberflächen dienende Gerät ist an den Strom des ionisierten Mediums angeschlossen, wobei das Medium auch durch das Bearbeitungsgerät, beispielsweise einen Pinsel, hindurchgeführt sein kann. Am Arbeitsende des Bearbeitungsgerätes sind gegebenenfalls verstellbare Austrittsdüsen für das ionisierte Medium vorzusehen, um die zu behandelnde Oberfläche örtlich in verschiedener Stärke und in verschiedenen Größen zu behandeln.
  • In der Zeichnung sind einige Ausführungsbeispiele schematisch dargestellt. Es zeigt F i g.1 eine schematische Darstellung, F i g. 2 einen Ionisator im Längsschnitt, F i g. 3 einen Schnitt nach der Linie 11-II der F i g. 2, F i g. 4 bis 7 verschiedene Einzelheiten.
  • F i g.1 zeigt schematisch eine Apparatur, bei der die erfindungsgemäße Vorrichtung mit eingeschlossen ist. Bei 1 tritt das zu ionisierende Medium in ein Gebläse 2 ein und wird bei 3 gefiltert. Das gefilterte, zu ionisierende Medium gelangt durch ein Rohr 4 in einen Ionisator 5 und verläßt diesen ionisiert durch eine Leitung 6, um in ein Bearbeitungsgerät 7 einzutreten. Mittels des Gerätes 7, das die Funktion einer Düse- hat, findet die Verteilung des ionisierten Mediums über eine zu entladende Fläche 8 statt. Die elektrostatisch geladene Fläche 8 wird unter Einwirkung des ionisierten Mediums entladen. Eine als Ionisierungsquelle verwendete radioaktive Strahlungsquelle 9 ist nahezu punktförmig. Die Verkapselung ist an einer Halterung 10 und diese in einem Einschub 11 befestigt. Der in F i g. 2 dargestellte Ionisator 16 ist mit einem Gehäuse 17 versehen. Das Gehäuse 17 besteht aus einem zylindrischen Teil 18 und Stirnteilen 19 und 20. Auf der Innenseite der Gehäusewand 18 befindet sich eine dünne Isolierschicht 21, während der Außenseite der Gehäusewand 18 Kondensatorbeläge 22 und 23 zugeordnet sind - vgl. auch F i g. 3. Die Kondensatorbeläge 22 und 23 sind verschiedenartig aufgeladen. Zwischen den Kondensatorbelägen 22 und 23 und der Gehäusewand 18 des Gehäuses 17 befindet sich eine Isolierschicht 24. An der Außenseite der Kondensatorbeläge 22 und 23 ist eine Isolierschicht 25 angebracht. Bei 26 und 26a sind die Anschlüsse für die Kondensatorbeläge angedeutet. Die Stirnteile 19 und 20 bestehen aus Isoliermaterial, beispielsweise Kunststoff. Im Inneren des Ionisators 16 befindet sich die Ionisierungsquelle 32. Bei 27 tritt das zu ionisierende Medium in den Ionisator ein und verläßt diesen ionisiert bei 28. In der Austrittsöffnung 28 ist eine Trennwand 29 vorgesehen, die es gestattet, positiv und negativ ionisierte Medien getrennt abzuführen. Bei dem Ausführungsbeispiel reichern sich die negativen Ionen unter der Einwirkung des positiv geladenen Kondensatorbelages 22 in dessen Hälfte an und gelangen in den Ableitungsteil 30. Die in der anderen Hälfte in der Nähe des aufgeladenen Kondensatorbelages 23 angereicherten positiven Ionen hingegen gelangen in den Teilkanal 31.
  • In F i g. 3 sind die der F i g. 2 entsprechenden Teile mit den gleichen Bezugszeichen versehen.
  • Zur Halterung der Ionisierungsquelle 32 dienen die Halterung 33 und die Führungsbuchse 34. Mittels der Halterung 33 kann die Ionisierungsquelle 32 in Richtung des Doppelpfeiles 35 verstellt werden. Verstellt man z. B. die Ionisierungsquelle in Richtung des Pfeiles 36, so wird der Ionisierungsgrad verkleinert.
  • Bei Verwendung einer radioaktiven Strahlungsquelle kann außerdem eine Abschirmung 37 an die Führungsbuchse 34 angelenkt sein, durch deren Verstellen man die Abstrahlung verändern kann. Besteht das Teil 37 aus Adsorbermaterial, so kann ein Teil der abgegebenen Strahlung absorbiert werden. Bei 38 ist die Ionisatorwand, die aus mehreren einzelnen Schichten besteht, angedeutet.
  • In F i g. 4 ist ein Bearbeitungsgerät mit einer zu entladenden Folie 39 dargestellt. Das zur Entladung dienende Gerät besitzt eine Düse 40, die trichterförmig ausgebildet ist. Die Düse 40 sitzt an dem Rohrende 41, das bei 42 eine Einengung aufweist. Die Einengung 42 bewirkt eine Turbulenz und somit eine gute Durchmischung der in den beiden isolierten Rohren 43 und 43 a getrennt zugeführten negativen und positiven Ionen unmittelbar vor der zu entladenden Folie 39.
  • In den F i g. 5 bis 7 sind optische Linsen 44, 45 und 46 dargestellt, zu deren Reinigung und der elektrostatischen Entladung die Pinsel 47,48 und 49 dienen. In F i g. 5 ist der Pinsel 47 mit einem Griff 50 verbunden, an dem ein Zuführungsrohr 51 für das in Richtung des Pfeiles 52 strömende ionisierte Medium befestigt ist.
  • Bei der Ausführungsform nach F i g. 6 hat der Pinsel 48 einen rohrförnugen, isolierten Griff 52 a, durch welchen das in Richtung der Pfeile 53 zugeführte ionisierte Medium geleitet wird. In dem Griff 52 a ist eine Trennwand 54 vorgesehen, die eine vorzeitige Rekombination der gebildeten Ionen verhindert. Es ist für viele Fälle vorteilhaft, an Stelle der Trennwand zwei Schläuche aus Isoliermaterial zu verwenden.
  • Bei der Ausführungsform nach F i g. 7 ist der Griff 55 ebenfalls hohl, so daß das ionisierte Medium gegebenenfalls auch durch den ungeteilten Griff zugeführt werden kann. Es sei noch darauf hingewiesen, daß bei Anwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung einschließlich der Reinigungspinsel in der optischen Industrie eine Steigerung der Arbeitsproduktivität durch Verkürzung der Säuberungszeiten gegeben ist.
  • Es ist weiter vorteilhaft, die Ionisierungsquelle so zu bemessen, daß die Energie der Alphastrahlen ganz und die der Betastrahlen sowie der schwach energetischen Gammastrahlen emittierenden Radionuklide fast gänzlich von dem gasförmigen Medium absorbiert wird.
  • Aus strahlenschutztechnischen Gründen ist zu empfehlen, möglichst Beta- und gering energetische Gammastrahler zu verwenden, da dann eine mechanisch stabilere Einkapselung erfolgen kann.

Claims (7)

  1. Patentansprüche: 1. Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern, beispielsweise Glas, Kunststoff, Textilfasern, Filmen oder Gummi, unter Verwendung eines Ionisators, der radioaktive Stoffe oder andere Ionisierungsquellen, z. B. eine Hochspannungsquelle, enthält und bei der Mittel zum Bewegen der ionisierten Luft und eine Gleichspannung zum Trennen der positiv und negativ geladenen Ionen vorgesehen sind und die ionisierte Luft mit positiven sowie die mit negativen Ionen nebeneinander oder einzeln in Leitungen den zu entladenden Flächen zuführbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisierungsquelle (32) des Ionisators (16) im Gleichspannungsfeld angeordnet ist.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die geometrische Anordnung und Abmessung der Ionisierungsquelle (32) bzw. des Ionisators (16) in Abhängigkeit von einer oder mehreren Betriebsgrößen, beispielsweise des Ionisierungsgrades der zu behandelnden Oberflächen, veränderbar ist.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (17) des Ionisators (16) aus einem Werkstoff mit hohem Rückstreukoeffizienten für Betastrahlen, beispielsweise aus Elementen mit hoher Ordnungszahl, besteht und die Innenseite der Gehäusewandung mit Isoliermaterial (21) versehen ist.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die positive und negative Ionen führenden Leitungen (30 und 31) erst unmittelbar vor der zu entladenden Oberfläche miteinander vereinigt sind.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß bei räumlich benachbarten Arbeitsplätzen oder Maschinen nur ein Ionisator vorgesehen ist.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Strom des ionisierten Mediums an das zum Behandeln der zu entladenden Oberflächen dienende Gerät, z. B. Pinsel (47, 48, 49), angeschlossen oder hindurchgeführt ist.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß am Arbeitsende des zum Behandeln der zu entladenden Oberflächen dienenden Geräts verstellbare Austrittsdüsen für das ionisierte Medium vorgesehen sind.
DE1965D0046199 1965-01-07 1965-01-07 Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern Pending DE1297782B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1965D0046199 DE1297782B (de) 1965-01-07 1965-01-07 Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1965D0046199 DE1297782B (de) 1965-01-07 1965-01-07 Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1297782B true DE1297782B (de) 1969-06-19

Family

ID=7049556

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1965D0046199 Pending DE1297782B (de) 1965-01-07 1965-01-07 Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1297782B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0387904A2 (de) * 1989-03-17 1990-09-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung eines dünnen Filmes
WO1998023136A1 (en) * 1996-11-15 1998-05-28 Aea Technology Plc Surface static reduction device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB698779A (en) * 1951-09-28 1953-10-21 Mini Of Supply Improvements in or relating to static electricity eliminators
DE901931C (de) * 1951-12-14 1954-01-18 Siemens Ag Einrichtung zur Beseitigung elektrostatischer Ladungen auf Papier, Textilien und sonstigen bewegten Isolierstoffen

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB698779A (en) * 1951-09-28 1953-10-21 Mini Of Supply Improvements in or relating to static electricity eliminators
DE901931C (de) * 1951-12-14 1954-01-18 Siemens Ag Einrichtung zur Beseitigung elektrostatischer Ladungen auf Papier, Textilien und sonstigen bewegten Isolierstoffen

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0387904A2 (de) * 1989-03-17 1990-09-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung eines dünnen Filmes
EP0387904A3 (de) * 1989-03-17 1991-10-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung eines dünnen Filmes
WO1998023136A1 (en) * 1996-11-15 1998-05-28 Aea Technology Plc Surface static reduction device
GB2334825A (en) * 1996-11-15 1999-09-01 Aea Technology Plc Surface static reduction device
GB2334825B (en) * 1996-11-15 2001-03-28 Aea Technology Plc Surface static reduction device
US6739530B1 (en) 1996-11-15 2004-05-25 Aea Technology Plc Surface static reduction device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3212928C2 (de) Entladungsgepumpter Laser
DE69333576T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von gasförmigen Ionen unter Verwendung von Röntgenstrahlen
DE102015119324A1 (de) Vorrichtung zur Abisolierung von Kabeln
DE3107597C2 (de)
DE2140563A1 (de) Verfahrea und Vorrichtung zur Erstellung elektrostatischer Bilder
DE1297782B (de) Vorrichtung zum Beseitigen von elektrostatischen Ladungen bei Nichtleitern
DE3942422A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur elektrostatischen oberflaechenentladung und entstaubung von werkstuecken
DE69111651T2 (de) Beseitigung von Teilchenerzeugung in einem modifizierten Reinraum-Corona-Luftionisator.
DE3013891A1 (de) Elektrostatisches pulverspritzverfahren zur erzeugung eines farbauftrags
DE3625232A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum abbau von in fluessigkeit befindlichen polyhalogenierten, vorzugsweise polychlorierten kohlenwasserstoffen, insbesondere von in altoelen enthaltenen polychlorierten biphenylen, durch bestrahlung
DE901931C (de) Einrichtung zur Beseitigung elektrostatischer Ladungen auf Papier, Textilien und sonstigen bewegten Isolierstoffen
DE19648999C2 (de) Vorrichtung zur Reinigung, Beschichtung und/oder Aktivierung von Kunststoffoberflächen
WO2014095937A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum sterilisieren und spülen von behältnissen
DE1281602B (de) Vorrichtung zur Erzeugung eines ionisierten Luftstrahls
EP3218016A1 (de) Vorrichtung zur behandlung eines fluids mit uv-strahlung
DE3427315A1 (de) Durchlaufanlage zum behandeln beschichteter formteile mittels energiereicher strahlung unter inertgasatmosphaere
DE4333325A1 (de) Röntgenaufnahmegerät mit einem Photoleiter und mit einer Korona-Aufladeeinrichtung
DE102016116944A1 (de) Vorrichtung zur Behandlung von Oberflächen von Kunststoffkörpern
DE2358684A1 (de) Elektrodenwerkzeug zur elektrolytischen bearbeitung metallischer werkstoffe
DE2060865A1 (de) Geraet zur Messung der Extinktion
DE1046789B (de) Verfahren zur Behandlung fester Materialien mit Stark-bzw. Hochenergieelektronen
DE1522661C3 (de) Aufladevorrichtung für elektrofotografisches blattförmiges Kopiermaterial
EP0210949B1 (de) Vorrichtung zum Auftragen einer Pulverschicht auf die Schweissnaht eines Dosenrumpfes
DE102020113695A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Kunststoffschlauches und Kunststoffschlauch
DE1479087C (de) Vorrichtung zur Vorbehandlung von zu bedruckenden Schläuchen in einem elektrischen Feld zwischen Elektroden unmittelbar im Anschluß an eine Extrudermündung