DE1207920B - Verfahren zum Herstellen sauerstofffreier, verwerfungsfreier Halbleitereinkristalle durch Ziehen aus einer tiegellosen Schmelze - Google Patents

Verfahren zum Herstellen sauerstofffreier, verwerfungsfreier Halbleitereinkristalle durch Ziehen aus einer tiegellosen Schmelze

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DE1207920B DEG25999A DEG0025999A DE1207920B DE 1207920 B DE1207920 B DE 1207920B DE G25999 A DEG25999 A DE G25999A DE G0025999 A DEG0025999 A DE G0025999A DE 1207920 B DE1207920 B DE 1207920B
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL126240C (en, 2012) * 1958-02-19
US3041058A (en) * 1958-11-19 1962-06-26 Straumann Inst Ag Heat treatment apparatus
NL133150C (en, 2012) * 1959-12-23
US3279896A (en) * 1960-10-26 1966-10-18 Itt Crucible seal
BE613793A (en, 2012) * 1961-04-14
US3447902A (en) * 1966-04-04 1969-06-03 Motorola Inc Single crystal silicon rods
DE1519902C3 (de) * 1966-09-24 1975-07-10 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes
US3776703A (en) * 1970-11-30 1973-12-04 Texas Instruments Inc Method of growing 1-0-0 orientation high perfection single crystal silicon by adjusting a focus coil
US4121965A (en) * 1976-07-16 1978-10-24 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics & Space Administration Method of controlling defect orientation in silicon crystal ribbon growth
US4324610A (en) * 1978-03-20 1982-04-13 Motorola, Inc. Method for the controlled melting of semiconductor bodies
DE4318184A1 (de) * 1993-06-01 1994-12-08 Wacker Chemitronic Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen
JP2008156166A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Sumco Solar Corp シリコンインゴットの鋳造方法および切断方法
US8536491B2 (en) * 2009-03-24 2013-09-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Rotatable and tunable heaters for semiconductor furnace
JP5484589B2 (ja) 2009-11-24 2014-05-07 フォルシュングスフェアブント ベルリン エー ファウ 半導体材料から単結晶を製造する方法および装置
DE102010040464A1 (de) 2010-09-09 2012-03-15 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung eines versetzungsfreien einkristallinen Stabes aus Silicium
RU182737U1 (ru) * 2016-12-29 2018-08-29 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Кавказский горно-металлургический институт (государственный технологический университет)" (СКГМИ (ГТУ) Устройство для получения высокочистого монокристалла зонной плавкой
CN111115636B (zh) * 2020-01-10 2022-09-30 昆明理工大学 一种用于冶金级硅电磁悬浮处理的电磁悬浮线圈和方法
WO2025093146A1 (en) * 2023-10-31 2025-05-08 University Of Latvia A technique for replenishing molten, levitating material by growing monocrystalline, polycrystalline, or other solid-state structures under electromagnetic levitation conditions

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1107076A (fr) * 1953-02-14 1955-12-28 Siemens Ag Procédé et dispositif pour le traitement d'un montage à cristal semi-conducteur
DE1014332B (de) * 1952-12-17 1957-08-22 Western Electric Co Verfahren und Vorrichtung zum fraktionierten Umkristallisieren von unter Mischkristallbildung erstarrenden Legierungen und Halbleiterausgangsstoffen durch Zonenschmelzen

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2686864A (en) * 1951-01-17 1954-08-17 Westinghouse Electric Corp Magnetic levitation and heating of conductive materials
US2747971A (en) * 1953-07-20 1956-05-29 Westinghouse Electric Corp Preparation of pure crystalline silicon
US2793103A (en) * 1954-02-24 1957-05-21 Siemens Ag Method for producing rod-shaped bodies of crystalline material
US2743199A (en) * 1955-03-30 1956-04-24 Westinghouse Electric Corp Process of zone refining an elongated body of metal

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1014332B (de) * 1952-12-17 1957-08-22 Western Electric Co Verfahren und Vorrichtung zum fraktionierten Umkristallisieren von unter Mischkristallbildung erstarrenden Legierungen und Halbleiterausgangsstoffen durch Zonenschmelzen
FR1107076A (fr) * 1953-02-14 1955-12-28 Siemens Ag Procédé et dispositif pour le traitement d'un montage à cristal semi-conducteur

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GB838770A (en) 1960-06-22
US2961305A (en) 1960-11-22

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