DE1194515B - Sonnenzelle - Google Patents
SonnenzelleInfo
- Publication number
- DE1194515B DE1194515B DEW30023A DEW0030023A DE1194515B DE 1194515 B DE1194515 B DE 1194515B DE W30023 A DEW30023 A DE W30023A DE W0030023 A DEW0030023 A DE W0030023A DE 1194515 B DE1194515 B DE 1194515B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- solar cell
- transition
- cell according
- depth
- junction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 52
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 26
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 8
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 4
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N [Sb].[Au] Chemical compound [Sb].[Au] KAPYVWKEUSXLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002140 antimony alloy Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOlI
Deutsche Kl.: 21 g - 29/10
Nummer: 1194515
Aktenzeichen: W 30023 VIII c/21 g
Anmeldetag: 19. Mai 1961
Auslegetag: 10. Juni 1965
Die Erfindung bezieht sich auf eine Sonnenzelle mit einem von zwei größeren Flächen begrenzten,
scheibenförmigen Halbleiterkörper, der im Innern mindestens einen pn-Übergang aufweist, der sich über
die ganze Scheibe erstreckt und, unterhalb einer der größeren Flächen verlaufend, in einer Tiefe angeordnet
ist, die kleiner ist als die mittlere Eindringtiefe des hierauf einfallenden Lichtes.
Eine Sonnenzelle ist ein Halbleiterbauelement, das zur Umwandlung einfallender Sonnenstrahlung in
elektrische Energie verwendet wird. Sie besteht aus einem Halbleiterplättchen, z. B. aus einem Siliziumplättchen,
mit einem großflächigen pn-Übergang, der dicht unterhalb einer größeren Fläche des Plättchens
angeordnet ist und sich parallel zu ihr erstreckt. Bei Einfall von Sonnenstrahlung oder Licht auf diese
größere Fläche ergibt sich eine Zunahme von Elektronen-Löcher-Paaren in der Nachbarschaft des pn-Übergangs,
der dazu dient, um die Löcher und Elektronen zu trennen und zu sammeln. Über sperrschichtfreie
elektrische Verbindungen an den Plättchen auf beiden Seiten des Übergangs wird der sich ergebende Strom
einem Verbraucher zugeführt.
Die Zelle liefert einen Strom, der der einfallenden Strahlung proportional ist. Sie wird meist als lokale
Stromquelle für Nachrichtenübertragungsgeräte in abgelegenen Gebieten und in Raumfahrzeugen verwendet.
Elemente dieser Art sind in der Fachwelt gut bekannt.
Eines der Hauptprobleme bei Sonnenzellen besteht darin, deren Energieabgabe zu vergrößern, ohne
gleichzeitig die Zelle vergrößern zu müssen, also den Wirkungsgrad zu erhöhen.
Demgemäß zielt die Erfindung darauf ab, eine Sonnenzelle erhöhten Wirkungsgrades zu schaffen.
Es ist eine Sonnenzelle bekannt, bei der mehrere Halbleiterplättchen unterschiedlichen Halbleitermaterials,
die je einen pn-Übergang aufweisen, übereinandergeschichtet sind, wobei zwischen den einzelnen
Halbleiterplättchen je eine Quarzscheibe angeordnet ist. Die Halbleiterplättchen sind extrem dünn ausgebildet,
so daß hierauf einfallendes Licht alle Halbleiterplättchen durchdringen kann. Jedes Halbleiterplättchen
bildet daher eine Sonnenzelle für sich. Diese Sonnenzellen sind nun elektrisch so miteinander
verbunden, daß sie in Serie liegen. Der Zweck der bekannten Anordnung liegt darin, durch die Verwendung
verschiedener Halbleitermaterialien eine konstante spektrale Empfindlichkeit der gesamten
Anordnung gegenüber Sonnenlicht zu erhalten. Diese Anordnung hat aber auf Grund der sehr dünn ausgebildeten
Halbleiterplättchen, die überdies noch in Sonnenzelle
Anmelder:
Western Electric Company Incorporated,
New York, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. H. Fecht, Patentanwalt,
Wiesbaden, Hohenlohestr. 21
Als Erfinder benannt:
David Allmond Kleinman, Plainfield, N. J.
(V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 24. Mai 1960 (31354) --
Serie geschaltet sind, einen vergleichsweise hohen Innenwiderstand mit der Folge, daß der Gesamtwirkungsgrad
klein wird.
Demgegenüber ist es Aufgabe der Erfindung, den Sammelwirkungsgrad und damit auch den Gesamtwirkungsgrad
einer Sonnenzelle zu verbessern. Unter Sammelwirkungsgrad soll folgendes verstanden werden:
Ein Teil der insgesamt durch den Lichteinfall erzeugten Minoritätsladungsträger diffundiert zum
pn-Übergang hin und stellt den eigentlichen Beitrag zum Zellenstrom dar, während ein anderer Teil der
Ladungsträger vom pn-Übergang wegdiffundiert und im »tiefen« Innern bzw. an der Oberfläche der Zelle
rekombiniert. Der Prozentsatz der insgesamt erzeugten Minoritätsladungsträger, der zum Zellenstrom beiträgt,
wird als Sammelwirkungsgrad bezeichnet.
Die Aufgabe der Erfindung ist für eine Sonnenzelle der eingangs beschriebenen Art dadurch gelöst, daß
zur Erhöhung des Sammelwirkungsgrades ein zweiter pn-Übergang vorgesehen ist, der bei gleicher Ausdehnung
parallel zum ersten pn-Übergang und in einer größeren Tiefe als dieser verläuft, und zwar unter
Bildung einer Zwischenzone, deren Dicke in der Größenordnung der Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger
liegt, und daß die eine Elektrode der Zelle von der Zwischenzone und die andere Elektrode
von den beiden äußeren Zonen unter Parallelschaltung derselben über sperrschichtfreie Anschlußkontakte
herausgeführt sind.
509 579/293
3 4
Hierdurch kann auf einfache Weise, wie nach- gangs und der Diffusionslänge der Minoritätsladungsstehend
noch im einzelnen gezeigt werden wird, der träger für das bestimmte Material abhängt.
Sammelwirkungsgrad einer Sonnenzelle erhöht werden. Messungen mit Hilfe herkömmlicher Methoden Eine optimale Verbesserung erhält man dadurch, daß zeigen den größeren Wirkungsgrad von Sonnenzellen bei vorgegebener Lage des ersten Überganges und 5 mit zwei Übergängen gegenüber Zellen mit nur einem vorgegebener Diffusionslänge der zweite Übergang in Übergang. Außerdem macht der verbesserte Wirkungseiner Tiefe b angeordnet ist, die so gewählt ist, daß der grad die Verwendung von Halbleitern möglich, die Ausdruck günstigere Energieniveaus als Silizium besitzen, wie j j z. B. Galliumarsenid, das normalerweise einen kleine-1 + tgh — (η— ξ) 1—tgh — (η—ξ) ίο ren Sammelwirkungsgrad hätte.
Sammelwirkungsgrad einer Sonnenzelle erhöht werden. Messungen mit Hilfe herkömmlicher Methoden Eine optimale Verbesserung erhält man dadurch, daß zeigen den größeren Wirkungsgrad von Sonnenzellen bei vorgegebener Lage des ersten Überganges und 5 mit zwei Übergängen gegenüber Zellen mit nur einem vorgegebener Diffusionslänge der zweite Übergang in Übergang. Außerdem macht der verbesserte Wirkungseiner Tiefe b angeordnet ist, die so gewählt ist, daß der grad die Verwendung von Halbleitern möglich, die Ausdruck günstigere Energieniveaus als Silizium besitzen, wie j j z. B. Galliumarsenid, das normalerweise einen kleine-1 + tgh — (η— ξ) 1—tgh — (η—ξ) ίο ren Sammelwirkungsgrad hätte.
F(fl).
^ 2 Im folgenden ist die Erfindung an Hand der Zeich-
F(S) 1 + ctgh ξ 1 + ctgh ξ nung beschrieben; es zeigt
F i g. 1 einen Querschnitt eines Ausführungs-
= Aist ^ ^/^££%Ά*π, „er durch die
und α die Entfernung des ersten Übergangs von der Sonneneinstrahlung erzeugten Konzentration der im
einen Fläche, L die Diffusionsweglänge der Minoritäts- Überschuß vorhandenen Minoritätsladungsträger in
ladungsträger und F (rf), F (ξ) den Wert der Photo- Abhängigkeit vom Abstand zu der beleuchteten Oberdichtefunktion
[Gleichung (10)] an der Stelle η bzw. ξ fläche in einem homogenen Halbleiter eines Leitfähigbedeuten.
ao keitstyps,
Bei Phototransistoren ist die Verwendung zweier F i g. 3 die graphische Darstellung des relativen
untereinanderliegender pn-Übergänge bekannt. Hier- Sammelwirkungsgrades in Abhängigkeit vom Ab-
bei tritt der photoelektrische Teil an die Stelle des stand eines zweiten pn-Überganges zu der beleuchteten
Emitters eines gewöhnlichen Transistors. Die Erf order- Oberfläche einer Sonnenzelle für den Fall, daß der
nisse bei einer solchen Vorrichtung sind völlig ab- 25 erste Übergang so angeordnet ist, daß er wirksame
weichend von denen eines Sonnenenergiewandlers, da Sammeleigenschaften besitzt,
Phototransistoren Verstärker sind, die von einer F i g. 4 A die Aufsicht einer weiteren erfindungs-
Energiequelle mit Spannung versorgt werden, nicht gemäßen Ausführungsform und
aber selbst primäre Energiequellen darstellen. Ferner Fig. 4B einen Querschnitt der Ausführungsform
ist dort, wie bei Transistoren üblich, die Zwischenzone 30 nach F i g. 4A.
oder die Basiszone so dimensioniert, daß ihre Dicke Es soll betont werden, daß die Figuren nur der
wesentlich kleiner ist als die Diffusionsweglänge der Erläuterung dienen und daher nicht maßstabgerecht
Minoritätsladungsträger. sind.
Bei einem Ausführungsbeispiel der Erfindung besitzt Im einzelnen besteht nach F i g. 1 die Sonnenein
als scheibenförmiger Halbleiterkörper dienendes 35 zelle 10 aus einem halbleitenden Silizium-Einkristall-Halbleiterplättchen
eine Zone eines ersten Leitfähig- plättchen 11, das z. B. die Maße 1,27 ■ 1,27 ■ 0,05 cm
keitstyps zwischen zwei äußeren Zonen eines zweiten aufweisen kann. Es besitzt drei Zonen 12, 13 und 14
Leitfähigkeitstyps. Diese drei Zonen bilden zwei mit p-n-p-Leitfähigkeit, die zwei pn-Übergänge 15 und
pn-Übergänge, die zu einer Oberfläche des Plättchens 16 bilden. Bevorzugt sind die Übergänge 15 und 16
parallel sind. Der erste Übergang liegt vorteilhafter- 40 10~4 bzw. 3,2 · 10~~4 cm von der in der Figur oberen
weise weniger als 1 bis 3 · 10~* cm unterhalb der be- Oberfläche 26, hier beleuchtete Oberfläche genannt,
leuchteten Oberfläche. Der zweite Übergang hat eine entfernt. Diese Abstände sind für ein Siliziumplättchen
bestimmte Entfernung von dem ersten Übergang, und einer Diffusionslänge der Minoritätsladungsträger von
diese Entfernung hängt von der Anordnung des ersten ungefähr 10~2 cm günstig. Eine solche Ausführung
Übergangs und der Diffusionslänge der Minoritäts- 45 kann mit Hilfe der bekannten Diffusionstechnik herladungsträger
ab, die eine Eigenschaft des benutzten gestellt werden. Ein Leiter 19 ist mit der Zone 13
Materials ist. Typischerweise liegt dieser Abstand etwa über einen sperrschichtfreien Kontakt 20 verbunden,
zwischen dem Ein- und Dreifachen der Diffusions- Die Zonen 12 und 14 sind über sperrschichtfreie
länge. Getrennte Kontakte mit niedrigem Übergangs- Kontakte 21 und 22 parallel geschaltet, und der Anwiderstand
führen zu allen drei Zonen, wobei die 50 Schluß ist über einen gemeinsamen Leiter 24 heraus-Kontakte
der beiden äußeren Zonen miteinander ver- geführt,
bunden sind. Die Zone 14 ist im Vergleich zu den Zonen 12 und
bunden sind. Die Zone 14 ist im Vergleich zu den Zonen 12 und
Bei einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfin- 13 verhältnismäßig dick ausgeführt. Auf diese Weise
dung wird die mittlere Zone von zylinderförmigen bleibt das Element ohne eine entsprechende Beein-
Teilen durchdrungen, die aus dem gleichen Material 55 trächtigung des Wirkungsgrades mechanisch stabil,
wie die beiden äußeren Zonen bestehen. Diese zylinder- wenn nicht beide Oberflächen der Zelle der Sonnen-
förmigen Teile bilden eine innere elektrische Verbin- strahlung ausgesetzt werden sollen. Im Ergebnis be-
dung zwischen den beiden äußeren Zonen, so daß sitzen beide Übergänge der Ausführungsform nach
hierdurch der Innenwiderstand der Zelle herabgesetzt Fig. 1, wenn diese, wie angegeben, dimensioniert
wird. Die drei Zonen stellen mit Ausnahme der 60 ist, eine Entfernung von der beleuchteten Oberfläche,
zylinderförmigen Verbindungen zwei pn-Übergänge die kleiner ist als die mittlere Eindringtiefe des auf-
dar, die parallel zu der beleuchteten Fläche des Halb- fallenden Lichtes. Andererseits sind beide Übergänge
leiterplättchens verlaufen. Der eine pn-übergang ist vor rückwärtiger Einstrahlung geschützt, die auf die
wie bei dem vorher beschriebenen Ausführungs- gegenüberliegende Oberfläche der Sonnenzelle einfällt,
beispiel ungefähr 1 bis 3 · 10~4 cm unter der beleuch- 65 Ein bevorzugter Wert für die Dicke der Zone 14 ist
teten Fläche angeordnet, und der zweite Übergang 0,0076 cm. Die mittlere oder effektive Eindringtiefe
hat einen vorbestimmten Abstand von dem ersten kann definiert werden als die Tiefe, in der ein Photon
Übergang, der von der Anordnung des ersten Über- mittlerer Energie absorbiert wird.
Die Arbeitsweise ist folgende: Lichtstrahlung 52 fällt auf die Oberfläche 26 des Halbleiterplättchens 11
ein. Elektronen-Löcher-Paare werden im Plättchen erzeugt und ergeben einen Stromfluß /in den Leitern 19
und 24, wenn diese über einen Widerstand angeschaltet werden.
Wie bei früher bekannten Zellen stellt die Anordnung des ersten Übergangs einen Kompromiß dar.
Der hohe Rekombinationswert an der Oberfläche, der für alle Sonnenzellen charakteristisch ist, verlangt
für einen maximalen Wirkungsgrad, daß jener so dicht wie möglich unter der Oberfläche angeordnet wird.
Andererseits ist es wichtig, eine zu dünne Oberflächenschicht zu vermeiden, um die durch den dann
hohen Innenwiderstand auftretenden inneren Verluste in der Zelle auf einen vernünftigen Wert zu begrenzen.
Ein günstiger Kompromiß ergibt sich, wenn der erste Übergang zwischen 1 · 10~4 und 3 · 10~4 cm unter
der beleuchteten Oberfläche angeordnet wird.
Die Entfernung des zweiten Übergangs wird so gewählt, daß von diesem noch diejenigen Ladungsträger,
welche zu weit vom ersten Übergang entfernt liegend erzeugt werden, als daß sie noch wirksam
durch den ersten Übergang gesammelt werden könnten, mit maximaler Ausbeute gesammelt werden
können. Folglich sollte dieser zweite Übergang so angeordnet sein, daß er nicht wesentlich unter einer
Diffusionsweglänge von dem ersten Übergang entfernt ist, da dieser Bereich vom ersten Übergang
allein bewältigt werden kann. Andererseits ist es nicht günstig, den zweiten Übergang wesentlich unterhalb
der effektiven Eindringtiefe der Strahlung und zu weit von den Stellen der Erzeugung der Löcher-Elektronen-Paare
entfernt zu legen. Die effektive Eindringtiefe hängt vom Halbleitermaterial ab. Auf Grund einer
weiter unten im einzelnen vorgenommenen Analyse findet man, daß die Anordnung des zweiten Überganges
vorteilhafterweise in einer Entfernung von etwas weniger als einer bis ungefähr drei Diffusionslängen zu der beleuchteten Oberfläche einer Siliziumzelle
erfolgen sollte, wobei der optimale Abstand im einzelnen vom jeweils gewählten Wert der Diffusionslänge im Siliziummaterial abhängt. Diese Analyse ist
aber auch auf andere Halbleitermaterialien anwendbar und ergibt analoge Resultate.
Einen geeigneten Ausdruck für den Sammelwirkungsgrad einer Sonnenzelle erhält man durch
Lösung einer Gleichung, die die Erzeugung, Diffusion und Rekombination der Minoritätsladungsträger unter
der Bedingung beschreibt, daß die Dichte der Minoritätsladungsträger
an jedem Übergang, an der Oberfläche des Elementes und im Unendlichen verschwindet.
Die Lösung dieser Gleichung wird in den Ausdruck für den Kurzschlußstrom I9, den gesamten Diffusionsstrom aller Übergänge, eingesetzt. Den Sammelwirkungsgrad
Q erhält man in Form eines gewünschten Parameters als Faktor des Ausdruckes für Ig.
Ein theoretischer Ausdruck für den Wirkungsgrad einer Sonnenzelle mit einem Übergang ist von W. G.
P f a η η und W. W. Rossbroeck im »Journal of Applied Physics«, Nr. 25, S. 1422, 1954, angegeben
worden. Diesen Ausdruck erhält man auf Grund eines Ersatzschaltbildes für die Sonnenzelle. Nach
diesem Ersatzschaltbild kann man die Sonnenzelle als Generator des Stromes I9 betrachten, der mit einem
pn-Übergang solcher Polarität parallel geschaltet ist,
daß ein Teil des Stromes I9 durch den Übergang in
Vorwärtsrichtung gewissermaßen als innerer »Kurzschlußstrom« fließt, während der restliche Strom als
eigentlich nutzbarer Strom über die Belastung fließt.
Es ist bekannt, daß der Sammelwirkungsgrad einer Sonnenzelle errechnet werden kann, wenn Ig und die
Strom-Spannungs-Kennlinie des Übergangs bekannt sind.
Für den Generatorstrom gilt dann die Gleichung
= eNA-Q,
worin β der Sammelwirkungsgrad ist, e die Ladung eines Elektrons, A der Querschnitt und
JV = j N(X) dX
der gesamte Fluß der Photonen von der Wellenlänge O bis zur Grenzwellenlänge λ3 ist, die Löcher-Elektronen-Paare
erzeugen können. Man beachte, daß der Strom Ig mit dem Kurzschlußstrom der Sonnenbatterie
identisch ist.
Nachfolgend soll die räumliche Verteilung der Minoritätsladungsträger in einer Sonnenzelle und die
mathematische Theorie der Sammlung der Minoritätsladungsträger betrachtet werden.
Wenn die Konzentration der Minoritätsladungsträger, verglichen mit der Konzentration der Majoritätsladungsträger
klein ist, lautet die Gleichung für die Erzeugung, Diffusion und Rekombination der
Minoritätsladungsträger
-w-
N(X)-(X(X)-e-xxdX =0. (2)
In Gleichung (2) ist n(x) die Überschußkonzentration der Minoritätsladungsträger über die Gleichgewichtskonzentration.
In der Gleichung bedeutet im einzelnen χ der Abstand von der Oberfläche und D
die Diffusionskonstante; der Integralausdruck stellt die Erzeugung von Minoritätsladungsträgern durch
Licht einer spektralen Photonenverteilung N(X) in einem Material des Absorptionskoeffizienten oc(X) und
der Absorptionskante oder Grenzwellenlänge X G dar. Da im typischen Fall der Maximalwert von η bei etwa
1012/cm3 liegt, ist die Gültigkeit der Gleichung (2)
auch für eine beträchtliche Sonnenlichtintensität gesichert.
Das Problem bei Sonnenzellen besteht in der Berechnung
des Kurzschlußstromes, der dem gesamten Diffusionsstrom aller Übergänge entspricht,
IE =
an |
+
a— |
an |
dx | äx |
(3)
0,+
Wenn man die Beiträge beider Seiten a— und «+
jedes Überganges an der Stelle χ = a in Betracht
zieht. In dieser Gleichung steht für jeden Übergang ein Ausdruck. Zur Vereinfachung soll der gleiche Wert
der Diffusionskonstanten D für die Löcher und Elektronen und auch die gleiche Lebensdauer benutzt
werden. In Gleichung (3) ist n(x) die Lösung der Gleichung (2), die den obengenannten Grenzbedingungen
genügt.
Eine spezielle Lösung der Gleichung (2), die nicht die in »Physical Review«, 99, S. 1151, 1955, von
allen Grenzbedingungen, sondern nur den Bedingun- W. D a s h und R. N e w m a η bzw. in »Smithsonian
gen n(oo) = n(o) = 0 genügt, ist Physical Tables«, herausgegeben von W. E. F ο r -
s y t h e (Smithsonian Institution, Washington, 1954), 1G j- χ -, 5 angegeben ist. F(s) wird getrennt für jeden Halbleiter
n(x\ _ [ N(V)- τ ^ ffl . J e- ctx e—zr I (j α aus dem gemessenen Absorptionskoeffizienten be-
J 1 — Ä2L-a ^ ' ' rechnet und kann durch numerische Integration leicht
ο berechnet werden.
(4) Wenn F(s) vorhanden ist, kann die Lösung für
ίο n(x) nach Gleichung (2) allgemein angesetzt werden als
Physikalisch stellt diese Lösung die Überschuß-
konzentration der Minoritätsladungsträger dar, die η(χ) — £lO- ■ /4 es -f Bt~s + F(s)\. (11)
die Sonneneinstrahlung in einem homogenen Halb- L
leiter ohne Übergang erzeugen würde. Für die weiteren „r , . , „ ..,, , n . , _
Überlegungen ist es zweckmäßig, L = (Dr)V2, die 15 . ™eTden A und. B so ge^!ahlt' daß T s.ie den.Grenz"
Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger, als bedingungen genügen ergibt sich als Losung fur einen
Längeneinheit zu benutzen, folgende dimensionslose Übergang im Bereich O
< χ < a
Abkürzungen einzuführen: ,r f . , ]
Abkürzungen einzuführen: ,r f . , ]
s=-*-,
(5) 20 L I smhf J
und im Bereich a < χ < oo
25 L
ξ = — (7)
/ ' Der Strom Ig kann dann leicht aus Gleichung (3)
gefunden werden zu
und eine Funktion zu definieren jg = eNA · F(ξ) · {1 + ctgh ξ}. (14)
und eine Funktion zu definieren jg = eNA · F(ξ) · {1 + ctgh ξ}. (14)
φ(ζ\ — eZ~^ (Q\ Zur Lösung dieser Aufgabe ist es nicht notwendig
z -τ— zu kennen. Die Kenntnis nur VOnF(J) ergibt schon
Dann kann Gleichung (4) umgeschrieben werden in eine vollständige Lösung des Sammelproblems. Diese
35 Methode hat den Vorteil, daß das Sonnenspektrum
n,JA __ ^Lp(s\ (9) nur em für allemal integriert werden muß, wonach
L jede Lösung der Gleichung (2) konstruiert werden
kann.
worin F(s) ein Integral über das Sonnenspektrum, die Der Sammelwirkungsgrad Q in Gleichung (1) ist der
sogenannte Leuchtdichtefunktion, darstellt, nämlich 40 Faktor, mit dem eNA in Gleichung (14) multipliziert
xa ist. Wenn man mit Q1 den Sammelwirkungsgrad einer
/ß einen einzigen Übergang bei χ = α oder s = ξ
v W ο ' ^ [J (1 ~ ßft da, aufweisenden Sonnenzelle bezeichnet, ergibt sich aus
0 L + P Gleichung (14) durch Vergleich mit Gleichung (1) zu
Ν(λ) 45 βι=^(8{1 +ctghf}. (15)
worin ν (X) = die normierte spektrale Photonen- τ^ο ι·ι j-j t__^-j
' ν r Der Sammelwirkungsgrad wird verbessert, indem
verteilung bedeutet. . fV, , . , , b
Tatsächüch ist F(s) aber nicht nur eine Funktion em zweiter Übergang bei χ = b oder s =η = - an-
von s, sondern auch von L. In F i g. 2 ist F(s) in 50 geordnet wird. Einige Ladungsträger, die zu weit
Abhängigkeit von der Entfernung, ausgedrückt in von dem ersten Übergang entfernt sind, werden vom
Vielfachen der Diffusionsweglänge, von der beleuch- zweiten Übergang gesammelt. Die Lösung für n(x) für
teten Oberfläche für drei Diffusionsweglängen 1O~4, das Gebiet O
< χ < α wird in diesem Fall weiterhin
ΙΟ"3, lO-a cm aufgetragen. Die Kurve basiert auf der durch Gleichung (12) befriedigt; der Rest der Lösung
Absorptionskurve für Silizium im Sonnenspektrum, 55 ergibt sich nach einiger Durchrechnung für a
< χ < b
F(A
(16)
ψU)^^ iSi ^
L { smh (??-!) sinh (??-
L { smh (??-!) sinh (??-
und für b < χ < oo eine Zelle mit zwei Übergängen zu
-&-Ρ(η)}. (17)
ctghf
Daraus ergibt sich der Sammelwirkungsgrad für [2J'
Die Überlegenheit des Elements mit zwei Übergängen gegenüber einem Element mit nur einem Übergang
(wobei der erste Übergang bei jenem in der gleichen Tiefe angeordnet ist) kann gemessen werden
durch die Größe
- Öi
δ =
Öl
oder unter Berücksichtigung der Gleichungen (15) und (18)
1 + ctgh ξ
(19)
F(S)
1 + ctgh ξ
Null gemacht werden, wenn die Zelle mit monochromatischem Licht der Absorptionskantenwellenlänge
bestrahlt wird. Bei Sonnenlicht ist dies aber (wegen des breiten Spektrums) naturgemäß nicht der
Fall. So betragen die hierdurch entstehenden Energieverluste bei Silizium mit höheren Werten der Diffusionsladungsträger nach Lo f er ski, Journ. Appl.
Phys., 27, 1956, S. 777, etwa 53% der einfallenden Lichtenergie des Sonnenspektrums. Nachfolgend soll
ίο der Gesamtwirkungsgrade einer Sonnenzelle betrachtet
werden. Für große Beleuchtungsstärken, wie z. B. bei Sonnenbestrahlung, ist der relative Strom G
(eine dimensionslose und zu Ig proportionale Größe)
normalerweise sehr groß, ungefähr 107. In diesem Bereich ergibt sich aus der obengenannten Beziehung
von P f a η η und van Roosbroeck
Dieser Weg ist die erhaltene Verbesserung bezogen auf den Sammelwirkungsgrad eines einzigen Überganges.
Um die optimale Anordnung des zweiten Übergangs zu bestimmen, gibt man α und L vor. Ein
typischer Wert für a, der Tiefe des ersten Übergangs, ist 1O-4Cm; auf dieser Basis ist δ=δ(ή) für drei
Werte von L, der Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger, in F i g. 3 aufgetragen. Es ist zu sehen,
daß ö(rj) ein gut ausgeprägtes Maximum besitzt, das
die optimale Anordnung für den zweiten Übergang bei gegebenen α und L bestimmt. In der Tabelle
sind, für drei Werte von L, in der zweiten Spalte der Sammelwirkungsgrad Q1 eines einzigen Überganges
und in der dritten Spalte der sich aus Gleichung (19) ergebende Maximalwert für δ(ή) angegeben alle auf
Grund eines Wertes a = 1O-4 cm und der Funktion
F(s) für Silizium.
kT
—
—
(20)
worin k = Boltzmann-Konstante, T = absolute
Temperatur in °K, G = -γ-, I0 der charakteristische
■Ό
Strom des Übergangs und W die zur Erzeugung eines Löcher-Elektronen-Paares erforderliche Energie ist,
wie in der angegebenen Literaturstelle definiert.
Der Wirkungsgrad eines Elementes mit zwei Übergängen kann geschrieben werden
kT
■In
Öl
(21)
Cntnmai | Gegenüber Q1 | Gesamt | |
oanunel·· wirkungsgrad Ι^αΪ pinam |
maximal | wirkungsgrad | |
OCi. CIiIClIl Übergang |
erreichbare | einer Zelle | |
Diffu sions |
relative Verbesserung |
mit zwei Übergängen |
|
weglänge | des Sammel | im Vergleich | |
Öl | wirkungsgrades | zu einer Zelle | |
0,186 | bei zwei | mit einem | |
0,420 | Übergängen | Übergang | |
I, (cm) | 0,634 | Vmax | δ' |
ΙΟ"4 | 0,443 | 0,417 | |
ΙΟ"3 | 0,258 | 0,226 | |
ίο-2 | 0,092 | 0,055 | |
worin der Ersatz von G durch -=- G der Verdoppelung
der Übergangszone Rechnung trägt. Eine Maßzahl für die erhaltene relative Verbesserung des Gesamtwirkungsgrades
wird definiert zu
(22)
Aus den Gleichungen (20) und (21) und der Beziehung -^n = 1 + δ ergibt sich
InG
(23)
Die Tabelle und F i g. 3 ergeben, daß durch den zweiten Übergang eine beträchtliche relative Verbesserung
erreicht wird, wenn die Diffusionsweglänge L ungefähr 10-4cm beträgt. Die relative Verbesserung
ist kleiner für Diffusionsweglängen von ungefähr 10~2 cm. Bei einer Betrachtung der Spalte für Q1
sieht man, daß die unergiebigsten Zellen, unergiebig wegen der sehr kleinen Diffusionsweglänge, am meisten
von dem zweiten Übergang profitieren. Gerade diese Zellen sind aber besonders interessant, da die Grenzfrequenz
des Lichtes, bei der gerade noch die für die Erzeugung eines Elektronen-Löcher-Paares erforderliche
Energie vorhanden ist, bei kleinen Diffusionsweglängen erwünscht hoch liegt. Das heißt, daß die
überschüssige Energie, die bei einer Bestrahlung mit Licht höherer Energie als der Grenzenergie in Form
unerwünschter momentaner lokaler Erwärmung des Kristallgitters frei wird, kleiner gehalten werden kann.
Theoretisch kann dieser Energieverlust nur dann zu Die letzte Spalte der Tabelle gibt Werte für δ' an,
die durch Einsetzen von In G = 18 in Gleichung (23)
erhalten werden. Für die gezeigten Fälle ist δ' nur etwas kleiner als δ, so daß der zweite Übergang auch
den Gesamtwirkungsgrad verbessert.
Die Entfernung zwischen der Oberfläche des Halbleiterplättchens und dem zweiten Übergang wird mit
kurzen Worten so gewählt, daß sich eine maximale Verbesserung des Sammelwirkungsgrades ergibt. Eine
solche Auswahl bestimmt die Funktion
wobei a = £L die Entfernung zwischen der Oberfläche
des Halbleiterplättchens und dem ersten Übergang und L die Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger ist. Die Tabelle zeigt, daß für alle
praktischen Zwecke bei großen Verbesserungen δ',
509 579/293
ungefähr gleich δ ist. Daher kann dmax benutzt werden,
um η zu bestimmen. Beispielsweise Berechnungen liefern für Silizium b = 3,2 · 10~4 cm, 1,3 · IC)-3 cm,
0,8 · 10-2 cm, Z- = 10-*, K)-3 bzw. 10~2 cm, wenn
a = 10~4 cm ist. Geeignete andere Materialien, wie
z. B. Galliumarsenid, die gegebenenfalls kleinere Sammelwirkungsgrade als Silizium haben, zeigen
eine größere Verbesserung durch diese Erfindung.
Es sind auch andere Ausführungsformen der Erfindung möglich. Beispielsweise ergeben sich gewisse
Vorteile, wie eine Verringerung der ohmschen Verluste, indem innere elektrische Verbindungen zwischen
den (äußeren) Zonen gleichen Leitfähigkeitstyps vorgesehen werden. Dieses Merkmal ist in der erfindungsgemäßen
Ausführungsform nach F i g. 4A und 4 B enthalten. Das Element besteht aus einem Halbleiterkristallplättchen,
z. B. der Abmessung 1,27 · 1,27 · 0,05 cm. Das Plättchen ist in drei Zonen 33, 34 und
35 unterteilt, die beispielsweise p-, n- und p+-Zonen sein können. Diese Zonen sind parallel zur Fläche 36,
der beleuchteten Oberfläche orientiert. pn-Übergänge31 und 32 werden durch die Grenzflächen
zwischen den Zonen 33 und 34 bzw. 34 und 35 gebildet. Kleine zylinderförmige Teile 38, die in F i g. 4A
und 4 B gezeigt sind, ergeben eine Vielzahl innerer elektrischer Verbindungen zwischen den (äußeren)
Zonen 33 und 35. Sperrschichtfreie Kontakte 39 und 40 sind mit den p- bzw. n-Leitfähigkeitszonen verbunden.
Wie in F i g. 1 ist die Zone 33 verhältnismäßig dick gegenüber den Zonen 34 und 35.
Ein Element nach F i g. 4 A wird mit Hilfe gut bekannter Verfahren durch Läppen und Ätzen eines
1,27 · 1,27 · 0,05 cm großen einkristallinen Plättchens p-leitenden Siliziums, das einen Widerstand von
0,1 Ohm pro Quadratzentimeter aufweist, hergestellt. Das Plättchen wird dann in feuchtem Sauerstoff
auf 110° C 8 Stunden lang erwärmt, so daß das
Plättchen von einem 6000 Ä dicken Überzug aus Siliziumoxyd umgeben wird. Anschließend wird eine
Lösung von schwarzem Apiezonwachs W in Trichloräthylen durch eine eine Anzahl Löcher aufweisende
metallische Maske auf Teile einer Hauptfläche des Elementes gesprüht. Dadurch werden die
verbleibenden Oberflächen des Elementes mit dem Wachs bedeckt, mit Ausnahme eines Teiles der gegenüberliegenden
Hauptfläche des Elementes. Dann wird das Element ungefähr 3 Minuten in einer konzentrierten
Fluorwasserstoffsäure geätzt, um die Oxydschicht von den nicht mit Wachs bedeckten Teilen
zu entfernen, und anschließend in Trichloräthylen gewaschen, um das Wachs zu entfernen. Danach
wird das Element auf 12500C in einer Atmosphäre
roten Phosphors 4 Stunden lang erhitzt, um eine Schicht mit η-Leitfähigkeit auf der Oberfläche zu
erzeugen, die eine Dicke von 0,0015 cm, eine Oberflächenkonzentration
von 1019 Atomen pro Kubikzentimeter und einen Oberflächenwiderstand von etwa
3 Ohm pro Quadratzentimeter aufweist. Die Oberfläche wird dann zur Entfernung des Oxydes in Fluorwasserstoff
gespült. Danach ergibt eine Erhitzung auf 12000C für 10 Minuten in einer B2O3-Dampf-Atmosphäre
eine p+-Schicht auf der Oberfläche von 0,00018 cm Dicke, die eine Oberflächenkonzentration
von ungefähr 5 · 1020 Atomen pro Kubikzentimeter und einen Oberflächenwiderstand von 4 Ohm pro
Quadratzentimeter aufweist. Dann folgt ein Abspulen in Fluorwasserstoff, um das restliche Oxyd zu
entfernen, und die Kontaktierung der η-Zone mit einer Gold-Antimon-Legierung. Die p-Zone wird
mit Aluminium durch bei 6000C 1 Minute lang erfolgendes
Legieren kontaktiert.
Obwohl die Erfindung an Hand Silizium-Sonnenzellen beschrieben worden ist, können auch andere
Materialien verwendet werden, z. B. Galliumarsenid und Indiumphosphid.
Claims (10)
1. Sonnenzelle mit einem von zwei größeren Flächen begrenzten, scheibenförmigen Halbleiterkörper,
der im Innern mindestens einen pn-Übergang aufweist, der sich über die ganze Scheibe
erstreckt und unterhalb einer der größeren Flächen verlaufend in einer Tiefe angeordnet ist, die kleiner
ist als die mittlere Eindringtiefe des hierauf einfallenden Lichtes, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Erhöhung des Sammelwirkungsgrades ein zweiter pn-Übergang vorgesehen ist,
der bei gleicher Ausdehnung parallel zum ersten pn-Übergang und in einer größeren Tiefe als
dieser verläuft, und zwar unter Bildung einer Zwischenzone, deren Dicke in der Größenordnung
der Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger liegt, und daß die eine Elektrode der Zelle
von der Zwischenzone und die andere Elektrode von den beiden äußeren Zonen unter Parallelschaltung
derselben über sperrschichtfreie Anschlußkontakte herausgeführt sind.
2. Sonnenzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei vorgegebener Lage des
ersten Überganges und vorgegebener Diffusionslänge der zweite Übergang in einer Tiefe b angeordnet
ist, die so gewählt ist, daß der Ausdruck
F(S)
1 + ctgh ξ
1 + ctgh ξ
zu einem Maximum wird, worin η = -=- und
ξ = -y- ist und α die Entfernung des ersten Übergangs
von der einen Fläche, L die Diffusionsweglänge der Minoritätsladungsträger und F(rj), f(£)
den Wert der Leuchtdichtefunktion [Gleichung (10)] an der Stelle?? bzw. ξ bedeuten.
3. Sonnenzelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper aus
Silizium besteht.
4. Sonnenzelle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper aus
einer halbleitenden Verbindung besteht.
5. Sonnenzelle nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper aus Galliumarsenid
oder Indiumphosphid besteht.
6. Sonnenzelle nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die
beiden äußeren Zonen gleichen Leitfähigkeitstyps innerhalb des Halbleiterkörpers, ζ, B. über die
Zwischenzone durchdringende Zylinder aus einem Material des gleichen Leitfähigkeitstyps verbunden
sind.
7. Sonnenzelle nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe α nicht
größer ist als 2L und die Tiefe b kleiner ist als die mittlere Lichteindringtiefe und daß der Abstand
des zweiten Übergangs von der gegenüberliegenden
Fläche größer ist als die mittlere Eindringtiefe des hierauf einfallenden Lichtes.
8. Sonnenzelle nach Anspruch 2 oder 3, gekennzeichnet durch die Werte L = 10~4 cm, a = L und
b = 3,2L.
9. Sonnenzelle nach Anspruch 2 oder 3, gekennzeichnet durch die Werte L = 10~3 cm,
a = 10-4 cm und b = 1,3 · 10~3 cm.
10. Sonnenzelle nach Anspruch 2 und 3, gekennzeichnet durch die Werte L = 10~2 cm,
a = ΙΟ"4 cm und b = 0,8 · IQ-2 cm.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Französische Patentschriften Nr. 1129220, 1180896; USA.-Patentschrift Nr. 2 911 539.
Französische Patentschriften Nr. 1129220, 1180896; USA.-Patentschrift Nr. 2 911 539.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
509 579/293 6.65 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US31354A US3175929A (en) | 1960-05-24 | 1960-05-24 | Solar energy converting apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1194515B true DE1194515B (de) | 1965-06-10 |
Family
ID=21858978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW30023A Pending DE1194515B (de) | 1960-05-24 | 1961-05-19 | Sonnenzelle |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3175929A (de) |
JP (1) | JPS39877B1 (de) |
BE (1) | BE604166A (de) |
DE (1) | DE1194515B (de) |
FR (1) | FR1289966A (de) |
GB (1) | GB994213A (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3369939A (en) * | 1962-10-23 | 1968-02-20 | Hughes Aircraft Co | Photovoltaic generator |
US3457468A (en) * | 1964-09-10 | 1969-07-22 | Nippon Electric Co | Optical semiconductor device |
FR1435808A (fr) * | 1964-10-07 | 1966-04-22 | Telecommunications Sa | Transducteur thermo- ou photo-électrique |
US3418545A (en) * | 1965-08-23 | 1968-12-24 | Jearld L. Hutson | Photosensitive devices having large area light absorbing junctions |
US4070206A (en) * | 1976-05-20 | 1978-01-24 | Rca Corporation | Polycrystalline or amorphous semiconductor photovoltaic device having improved collection efficiency |
FR2432770A1 (fr) * | 1978-08-02 | 1980-02-29 | Commissariat Energie Atomique | Generateur photovoltaique |
US4948436A (en) * | 1988-02-05 | 1990-08-14 | Siemens Aktiengesellschaft | Thin-film solar cell arrangement |
CN109805516B (zh) * | 2019-03-22 | 2024-06-25 | 泉州华中科技大学智能制造研究院 | 一种基于掩模鞋面的喷胶方法及自动喷胶系统 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1129220A (fr) * | 1955-07-25 | 1957-01-17 | Piles photovoltaïques à rendement élevé | |
FR1180896A (fr) * | 1957-08-07 | 1959-06-10 | Electronique & Physique | Perfectionnements aux combinaisons photo-sensibles |
US2911539A (en) * | 1957-12-18 | 1959-11-03 | Bell Telephone Labor Inc | Photocell array |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2406139A (en) * | 1941-02-27 | 1946-08-20 | Colin G Fink | Photocell for measuring long wave radiations |
US2953621A (en) * | 1950-05-23 | 1960-09-20 | Rca Corp | Photovoltaic apparatus |
NL192903A (de) * | 1954-03-05 | |||
BE548647A (de) * | 1955-06-28 | |||
US2949498A (en) * | 1955-10-31 | 1960-08-16 | Texas Instruments Inc | Solar energy converter |
US2919299A (en) * | 1957-09-04 | 1959-12-29 | Hoffman Electronics Corp | High voltage photoelectric converter or the like |
-
1960
- 1960-05-24 US US31354A patent/US3175929A/en not_active Expired - Lifetime
-
1961
- 1961-05-18 GB GB18160/61A patent/GB994213A/en not_active Expired
- 1961-05-19 DE DEW30023A patent/DE1194515B/de active Pending
- 1961-05-24 FR FR862745A patent/FR1289966A/fr not_active Expired
- 1961-05-24 BE BE604166A patent/BE604166A/fr unknown
- 1961-05-24 JP JP1794461A patent/JPS39877B1/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1129220A (fr) * | 1955-07-25 | 1957-01-17 | Piles photovoltaïques à rendement élevé | |
FR1180896A (fr) * | 1957-08-07 | 1959-06-10 | Electronique & Physique | Perfectionnements aux combinaisons photo-sensibles |
US2911539A (en) * | 1957-12-18 | 1959-11-03 | Bell Telephone Labor Inc | Photocell array |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS39877B1 (de) | 1964-02-01 |
GB994213A (en) | 1965-06-02 |
BE604166A (fr) | 1961-09-18 |
US3175929A (en) | 1965-03-30 |
FR1289966A (fr) | 1962-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4136827C2 (de) | Solarzelle mit einer Bypassdiode | |
DE102004023856B4 (de) | Solarzelle mit integrierter Schutzdiode und zusätzlich auf dieser angeordneten Tunneldiode | |
DE891580C (de) | Lichtelektrische Halbleitereinrichtungen | |
DE2246115A1 (de) | Photovoltazelle mit feingitterkontakt und verfahren zur herstellung | |
DE2546232A1 (de) | Mehrschichtiges halbleiterbauelement hohen photoelektrischen wirkungsgrades | |
DE2160427C3 (de) | ||
DE68917428T2 (de) | Sonnenzelle und ihr Herstellungsverfahren. | |
DE102008047162A1 (de) | Rückkontaktsolarzelle mit integrierter Bypass-Diode sowie Herstellungsverfahren hierfür | |
DE1764565C3 (de) | Strahlungsempfindliches Halbleiterbauelement | |
DE2719314A1 (de) | Isolierschicht-feldeffekttransistor | |
DE2607005C2 (de) | Integrierte Tandem-Solarzelle | |
DE2259197A1 (de) | Elektrolumineszierende diode | |
DE212018000097U1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE2718449A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung und durch dieses verfahren hergestellte anordnung | |
DE102008027780A1 (de) | Solarzelle und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE1041161B (de) | Flaechentransistoranordnung | |
DE1194515B (de) | Sonnenzelle | |
WO2013045574A1 (de) | Photovoltaischer halbleiterchip | |
DE1489250C3 (de) | Transistor mit mehreren emitterzonen | |
DE2549614A1 (de) | Halbleiterschalter | |
DE3903837C2 (de) | ||
DE10015884A1 (de) | Schottky-Diode | |
DE19938209B4 (de) | Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung | |
DE2657511A1 (de) | Monolithisch integrierbare speicherzelle | |
DE1094883B (de) | Flaechentransistor |