DE1156946B - Erzeugung von Glaesern mit alkaliverarmten oder -freien Oberflaechenschichten - Google Patents

Description

Es ist bekannt, die physikalischen und chemischen Eigenschaften von Glasgegenständen dadurch zu verbessern, daß man die Glasgegenstände während des Abkühlprozesses mit Schwefeldioxydgasen in Berührung bringt. Infolge der Einwirkung des Schwefeldioxyds, insbesondere bei Temperaturen um 500° C, werden dem Glas an seiner Oberfläche vor allen Dingen Natriumionen entzogen, wodurch die hydrolytische Haltbarkeit der Gläser wie auch deren Festigkeit sowohl gegen Schlag als auch gegen Innendruck verbessert werden kann. Infolge der Einwirkung des Schwefeldioxyds bei der vorerwähnten Behandlungstemperatur bildet sich aber Natriumsulfat, das sich als milchigweißer Belag auf der Glasoberfläche niederschlägt und dem so erzeugten Glasgegenstand ein schlechtes Aussehen verleiht. Außerdem ist es bei Anwendung von Schwefeldioxyd bei den angegebenen Behandlungstemperaturen notwendig, im Kühlofen sämtliche Metallteile gegen die Einwirkung des Schwefeldioxyds korrosionsfest zu machen. Das bedeutet aber einen nicht unerheblichen Kostenaufwand für die Erstellung des Kühlofens, da nur bestimmte hochwertige Stahlsorten der Einwirkung von Schwefeldioxyd widerstehen.

Es wurde nun gefunden, daß man Glasgegenstände mit alkaliverarmter oder -freier Oberflächenschicht unter gleichzeitiger Vermeidung der vorerwähnten Mängel auf sehr viel einfachere Weise erzeugen kann, wenn man sich dafür des im Hauptpatent 1114 614 beschriebenen Hochspannungs - Behandlungsverfahrens bedient. Die zu behandelnden Glasgegenstände werden also erfindungsgemäß einem Hochspannungsfeld ausgesetzt, dessen Höhe und Einwirkungsdauer so gewählt werden, daß an ihrer Oberfläche eine alkaliverarmte oder -freie Schicht von weniger als 100 μ entsteht. Dabei wird von der Erkenntnis ausgegangen, daß die Leitfähigkeit des Glases im wesentlichen durch den Ionentransport, insbesondere durch den der Alkalien, bestimmt wird. Nach dem Poolschen Gesetz nimmt die Leitfähigkeit mit der Spannung nicht proportional, sondern nach einer Exponentialfunktion zu. Das läßt darauf schließen, daß bei hohen Spannungen bzw. Feldstärken nicht nur die durch das unregelmäßige Netzwerk wandernden Ionen, die im wesentlichen durch van der Waalsche Kräfte gebunden sind, im Glas transportiert werden, sondern bei entsprechender Höhe und Einwirkungsdauer der Hochspannung aus einer dünnen Oberflächenschicht auch die an den Netzwerkenden befindlichen Alkaliionen aus der kovalenten Bindung herausgelöst werden.

Wie die Praxis gezeigt hat, kann durch die erfin-Erzeugung von Gläsern
mit alkaliverannten oder -freien

Oberflächenschichten
Zusatz zum Patent 1114 614

Anmelder:

Aktiengesellschaft der Gerresheimer

Glashüttenwerke, vorm. Ferd. Heye,

Düsseldorf-Gerresheim

Dipl-Phys. Dieter Bussing, Erkrath bei Düsseldorf, ist als Erfinder genannt worden

dungsgemäße Erzeugung alkaliverarmter bzw. -freier Glasoberflächenschichten die hydrolytische Haltbarkeit der Gläser wesentlich verbessert werden, wodurch zugleich auch die Verwittenungsbeständigkeit der so behandelten Gläser eine bedeutsame Steigerung erfährt. Die erfindungsgemäß mit Hochspannung behandelten Glasgegenstände, wie insbesondere FIasehen, eignen sich vornehmlich für die Aufbewahrung von Chemikalien und verschiedenen Biochemika. Für solche Flaschen wird eine bessere hydrolytische Klasse gefordert als für übliche Getränkeflaschen, da die bei letzteren im Glas befindlichen Alkalien einen schädlichen Einfluß auf den Flascheninhalt ausüben können. So war man bei der Erzeugung von Glasbehältern für alkaliempfindliche Flüssigkeiten bisher gezwungen, dafür Gläser besonderer Zusammensetzung zu erschmelzen, was erhöhte Rohstoff- und Herstellungskosten bedingte. Demgegenüber aber ist es nunmehr möglich, dafür herkömmlich beschaffene Hohlbehältergläser zu verwenden, nachdem man sie in der erfindungsgemäßen Weise mit Hochspannung behandelt hat. Gemäß dem Verfahren nach der Erfindung kann für die Entalkalisierung der Oberflächenschicht des Glases sowohl Gleich- als auch Wechselspannung oder eine von Wechselspannung überlagerte

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Claims (3)

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2. Gleichspannung zur Anwendung kommen. Außer der PATENTANSPRUCH:
   angestrebten Entalkalisierung der Glasoberflächen- Die Anwendung des im Patent 1114 614 für schichten tritt bei der Hochspannungsbehandlung der Glasgegenstände beschriebenen Hochspannungs-Glasgegenstände zumeist noch Ozonbildung auf, die Behandlungsverfahrens zur Erzeugung von Gläeinen sterilisierenden Einfluß auf das Behandlungs- 5 sern mit alkaliverarmten oder -freien Oberflächengut ausübt. schichten.
3. © 309 747/175 10.63