DE1142589B - Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von BorwasserstoffenInfo
- Publication number
- DE1142589B DE1142589B DEK43234A DEK0043234A DE1142589B DE 1142589 B DE1142589 B DE 1142589B DE K43234 A DEK43234 A DE K43234A DE K0043234 A DEK0043234 A DE K0043234A DE 1142589 B DE1142589 B DE 1142589B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- boron
- hydrogen
- diborane
- compounds
- production
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- -1 boron halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical group C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000002816 fuel additive Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical compound [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B6/00—Hydrides of metals including fully or partially hydrided metals, alloys or intermetallic compounds ; Compounds containing at least one metal-hydrogen bond, e.g. (GeH3)2S, SiH GeH; Monoborane or diborane; Addition complexes thereof
- C01B6/06—Hydrides of aluminium, gallium, indium, thallium, germanium, tin, lead, arsenic, antimony, bismuth or polonium; Monoborane; Diborane; Addition complexes thereof
- C01B6/10—Monoborane; Diborane; Addition complexes thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B35/00—Boron; Compounds thereof
- C01B35/02—Boron; Borides
- C01B35/026—Higher boron hydrides, i.e. containing at least three boron atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B6/00—Hydrides of metals including fully or partially hydrided metals, alloys or intermetallic compounds ; Compounds containing at least one metal-hydrogen bond, e.g. (GeH3)2S, SiH GeH; Monoborane or diborane; Addition complexes thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
- C07F5/02—Boron compounds
- C07F5/027—Organoboranes and organoborohydrides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen Es war bisher bekannt, Borwasserstoffe aus Borhalogenverbindungen und Wasserstoff in einer Hochspannungsvorrichtung herzustellen, wobei 30 °/oige Ausbeuten an Diboran erhalten wurden. Bei der Umsetzung von Borfluorid mit Lithiumaluminiumhydrid oder Lithiumhydrid wurden zwar bessere Ausbeuten an Borwasserstoff erzielt, jedoch wirkt sich die Verwendung von teuren Ausgangsverbindungen als auch größerer Mengen Äther nachteilig aus. Außerdem fallen als Nebenprodukte feste Stoffe an, die eine kontinuierliche Arbeitsweise erschweren. Diboran entsteht ferner in guter Ausbeute durch Umsetzung von Borfluorid mit Natriumhydrid oder von Borhalogeniden mit feinteiligen elektropositiven Metallen und Wasserstoff bei über 180° C.
- Nach einem anderen bekannten Verfahren gelang die Herstellung von Diboran aus Monosilan mit Bortrichlorid in Gegenwart von Methylradikalen, die durch fotochemische Zersetzung von Diazomethan erhalten wurden. Da bei der Reaktion beträchtliche Mengen nichtflüchtiger Substanzen entstehen, ist die Ausbeute an Diboran gering. Außerdem ist das Diboran mit Methan verunreinigt, das nur sehr schwer von Diboran zu trennen ist. Für eine Herstellung von Diboran im technischen Maßstab kommt das Verfahren auch wegen der schwierigen Handhabung des explosiven Diazomethans nicht in Betracht.
- Durch die deutsche Patentschrift 1095 797 wurde ein neues Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen bekanntgemacht, welches die Verwendung reaktionsträger, fester Ausgangsstoffe und gefährlicher Äther sowie die des Diazomethans umgeht, indem Borhalogenverbindungen mit organischen Siliciumwasserstoffverbindungen umgesetzt werden. Nach diesem Verfahren können als Reaktionsprodukte außer Diboran vor allem flüssige oder leicht schmelzende, auch organisch teilsubstituierte Borwasserstoffe erhalten werden.
- Es wurde nun gefunden, daß Borwasserstoffe in nahezu quantitativer Ausbeute auch aus Borhalogenverbindungen und anorganischen Siliciumwasserstoffverbindungen hergestellt werden können, wenn die Umsetzung in Gegenwart von großoberflächigen Stoffen, insbesondere von Aktivkohle" bei Temperaturen von 20 bis 50° C durchgeführt wird. Bei Abwesenheit der großoberflächigen Stoffe tritt nur langsam eine oder keine Reaktion ein. Diese Stoffe sollen möglichst frei von Feuchtigkeit und Sauerstoff sein, um Nebenreaktionen mit den Reaktionsprodukten zu vermeiden.
- Die erfindungsgemäße Umsetzung, beispielsweise gemäß der folgenden Gleichung
2 BC13 + 2 Si14 4-> B,H6 + 2 SiC4314 - Zur Herstellung von Diboran werden beispielsweise 4 Volumteile Bortrihalogenid mit 3 Volumteilen Monosilan gemischt. Das abziehende Gasgemisch besteht nach erfolgter Reaktion aus Diboran und aus Tetrahalogensilan, zum Teil auch aus Trihalogensilan, und enthält meist noch geringe Mengen Halogenborwasserstoffe. Um zu einem reinen Diboran zu gelangen, wird das vorgenannte Gasgemisch durch eine Waschvorlage geleitet, welche mit einem Organosiliciumwasserstoff, beispielsweise Triäthylsilan, beschickt ist. In dieser Waschvorlage werden die Halogensilane zurückgehalten und die restlichen Halogenborwasserstoffe in Diboran übergeführt, welches mit der Hauptmenge Diboran zusammen austritt.
- Bei Änderung des Verhältnisses von 4 Volumteilen Bortrihalogenid zu 3 Volumteilen Monosilan entstehen neben dem Diboran verschieden halogenierte Silane. So bildet sich bei stark überschüssigem Monosilan insbesondere Monohalogensilan, bei gering überschüssigem Monosilan dagegen insbesondere Trihalogensilan. Die als Nebenprodukt entstandenen Halogensilane lassen sich in bekannter Weise leicht mittels aktiviertem Natriumhydrid wieder in Siliciumwasserstoffverbindungen überführen, welche erneut mit Borhalogeniden umgesetzt werden können. Die Siliciumwasserstoffverbindungen kann man somit als Wasserstoffüberträgen auffassen, wobei aber die direkte Umsetzung zwischen dem Natriumhydrid und dem Borhalogenid in dieser Form und unter den Bedingungen des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht durchführbar ist.
- Unter den Begriff der anorganischen Siliciumwasserstoffverbindungen fallen neben Monosilan, welches als Hydrierungsmittel bevorzugt wird, auch Halogensilane, wie beispielsweise die Dihalogensilane. Umgekehrt können beim Borhalogenid bereits 1 oder 2 Wasserstoffatome oder organische Reste am Bor gebunden sein. Es wird dann ein entsprechend stöchiometrisches Mischungsverhältnis gewählt, um eine möglichst quantitative Reaktion zu gewährleisten.
- Borwasserstoffe dienen als Ausgangssubstanz für die Herstellung von bonorganischen Verbindungen oder von Metallborhydriden und lassen sich als Treibstoffe bzw. Treibstoffzusätze von hoher Energie verwenden.
- Beispiel Innerhalb von 3 Stunden wurde ein Gemisch von 93 Gewichtsteilen Bortrichlorid und 18 Gewichtsteilen Monosilan durch ein Rohr geleitet, welches mit 1 5 Gewichtsteilen zuvor entgaster und entwässerter Aktivkohle beschickt war. Die sofort einsetzende exotherme Reaktion wurde durch Außenkühlung auf unterhalb 50°C Gehalten. Das austretende Gasgemisch passierte einen Kühler von -78= C, worin die entstandenen Chlorsilane auskondensierten und nur das Diboran durchgelassen. wurde. Dieses wurde durch eine weitere Vorlage von --78'= C, dann durch eine mit Triäthylsilan beschickte Waschvorlage und schließlich in Triäthylamin eingeleitet. Es wurden 76 Gewichtsteile N-Triäthylborazan erhalten, entsprechend einer Ausbeute an Diboran von 8613/o der Theorie. Das durch Kondensation erhaltene Chlorsilangemisch bestand hauptsächlich aus Trichlorsilan (etwa 80°:'(,) neben Di- und Tetrachlorsilan.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen aus Borhalogenverbindungen und Siliciumwasserstoffverbindungen, dadurch gekennzeichnet, daß Borhalogenverbindungen mit anorganischen Siliciumwasserstoffverbindungen in Gegenwart von großoberflächigen Stoffen, insbesondere von Aktivkohle, bei Temperaturen von 20 bis 150'C umgesetzt werden. In Betracht gezogene Druckschriften: J. Am. Chem. Soc., 81, S. 3486 (1959).
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK43234A DE1142589B (de) | 1961-03-20 | 1961-03-20 | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen |
GB8417/62A GB988057A (en) | 1961-03-20 | 1962-03-05 | Improvements in or relating to the production of boranes and organically substitutedboranes |
US180814A US3165381A (en) | 1961-03-20 | 1962-03-19 | Process of producing boranes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEK43234A DE1142589B (de) | 1961-03-20 | 1961-03-20 | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1142589B true DE1142589B (de) | 1963-01-24 |
Family
ID=7223042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEK43234A Pending DE1142589B (de) | 1961-03-20 | 1961-03-20 | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3165381A (de) |
DE (1) | DE1142589B (de) |
GB (1) | GB988057A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008008640A1 (de) | 2007-02-13 | 2008-08-14 | GM Global Technology Operations, Inc., Detroit | Verfahren zur Hydrierung von BNH enthaltenden Verbindungen |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2994586A (en) * | 1953-11-06 | 1961-08-01 | Callery Chemical Co | Purification of diborane |
US3007768A (en) * | 1957-01-28 | 1961-11-07 | Caliery Chemical Company | Preparation of diborane and dihaloboranes |
GB864253A (en) * | 1958-06-25 | 1961-03-29 | Nat Distillers Chem Corp | Preparation of diborane |
FR1245583A (fr) * | 1958-06-25 | 1960-11-10 | Nat Distillers Chem Corp | Procédé de préparation des hydrures de bore |
-
1961
- 1961-03-20 DE DEK43234A patent/DE1142589B/de active Pending
-
1962
- 1962-03-05 GB GB8417/62A patent/GB988057A/en not_active Expired
- 1962-03-19 US US180814A patent/US3165381A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
None * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008008640A1 (de) | 2007-02-13 | 2008-08-14 | GM Global Technology Operations, Inc., Detroit | Verfahren zur Hydrierung von BNH enthaltenden Verbindungen |
US7695704B2 (en) | 2007-02-13 | 2010-04-13 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Procedure for the hydrogenation of BNH-containing compounds |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3165381A (en) | 1965-01-12 |
GB988057A (en) | 1965-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2061189A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkoxysilanen bzw.Alkoxypolysiloxanen | |
EP0155626B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan | |
CH615684A5 (de) | ||
DE829892C (de) | Verfahren zur Herstellung von alkenylsubstituierten, endstaendig ungesaettigten Chlorsilanen | |
DE2709137A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hydrogensilanen | |
DE1232580B (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylhalogensilanen | |
EP0111924A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumwasserstoff-Verbindungen, insbesondere des Silans | |
DE3409172C2 (de) | ||
DE936445C (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorsilanen | |
DE1142589B (de) | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen | |
DE1948911C3 (de) | Verfahren zur Entfernung von Hydrogensilanen aus Chlorsilanen | |
DE3436381C2 (de) | ||
DE1291324B (de) | Verfahren zur Reinigung von Halogensilanen | |
DE1467018A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkaliboranaten oder dieses enthaltenden Reaktionsgemischen | |
DE949943C (de) | Verfahren, um die Halogenatome fluechtiger Halogenide der Elemente der 3., 4. und 5.Gruppe des Periodischen Systems saemtlich oder zum Teil durch Wasserstoff und/oder organische Reste zu ersetzen | |
DE102009046121A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen | |
DE1161247B (de) | Verfahren zur Herstellung von Monosilan | |
DE1100006B (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumverbindungen | |
DE1094261B (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- oder Alkylhalogensilanen | |
DE1161542B (de) | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen | |
DE889695C (de) | Verfahren zur Herstellung organischer Fluorsiliciumverbindungen | |
DE2308805C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Phenylchlorsilanen | |
DE938845C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosilazanen | |
DE69421679T2 (de) | Verfahren zur Einführung von Kohlenwasserstoffen in Chlorsilane | |
DE1767078C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumtetrahalogeniden |