DE112023000261T5

DE112023000261T5 - Zusammengesetztes Plasmaquellensystem und ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät

Info

Publication number: DE112023000261T5
Application number: DE112023000261.4T
Authority: DE
Inventors: Weiping Le; Tao Liu; Xingguang Xie
Original assignee: Shenzhen Csl Vacuum Science And Tech Co Ltd; Shenzhen Csl Vacuum Science And Technology Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Csl Vacuum Science And Tech Co Ltd; Shenzhen Csl Vacuum Science And Technology Co Ltd
Priority date: 2022-06-16
Filing date: 2023-05-12
Publication date: 2024-07-04
Also published as: CN114928932A; TW202402104A; WO2023241278A1; KR20240116718A

Abstract

Die vorliegende Anmeldung offenbart ein zusammengesetztes Plasmaquellensystem und ein ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät, wobei das zusammengesetzte Plasmaquellensystem eine Stromversorgungsvorrichtung, ein Plasmagerät, eine erste geteilte Plasmavorrichtung und eine Stromverteilungsvorrichtung umfasst. Die Stromversorgungsvorrichtung wird dazu verwendet, eine Arbeitselektrizität bereitzustellen. Die erste geteilte Plasmavorrichtung ist mit dem Plasmagerät verbunden. Die Stromverteilungsvorrichtung wird dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät basierend auf der Arbeitselektrizität, damit das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; und Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung basierend auf der Arbeitselektrizität, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung ein erstes ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen. Durch die Wiederverwendung der Stromversorgung und die flexible Anpassung der Stromquelle und des Adapters an die Bedürfnisse wird die Nutzung der Stromversorgung verringert und gleichzeitig die Praktikabilität verbessert.

Description

QUERVERWEISE DER VERWANDTEN ANMELDUNGEN
Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der chinesischen Patentanmeldung, die am 16. Juni 2022 beim chinesischen Patentamt mit der Anmeldenummer 202210688694.7 und der Bezeichnung „zusammengesetztes Plasmaquellensystem und ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät“ eingereicht wurde, und ihr gesamter Inhalt wird durch Bezugnahme in diese Anmeldung aufgenommen wird.
TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Anmeldung betrifft das Gebiet der Plasmatechnik, insbesondere ein zusammengesetztes Plasmaquellensystem und ein ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät.
STAND DER TECHNIK
Bei der Herstellung von elektronischen Bauteilen, wie z.B. Halbleiterbauteilen, ist eine Plasmabehandlung des zu behandelnden Körpers in der Regel für verschiedene Prozesse, wie z.B. Ätzen, Abscheidung, Injektion, Endgasbehandlung usw., erforderlich, und ein ferngesteuertes Plasmagerät wird in der Regel in Verbindung mit einer solchen Plasmabehandlung verwendet.
Gegenwärtig bestehen ferngesteuerte Plasmageräte in der Regel aus einem Hohlraum und einer Stromquelle. Der Hohlraum bietet einen Innenraum, der als Kammer dient, und die Stromquelle versorgt die Lasten in einem ferngesteuerten Plasmagerät mit Strom. In dem ferngesteuerten Plasmagerät wird das der Kammer zugeführte Gas einer Plasmaisierung unterzogen, z.B. werden Elektroden, Spulen usw. in dem ferngesteuerten Plasmagerät erregt, um ein entsprechendes Magnetfeld zu erzeugen und dann dem Gas in der Kammer zuzuführen, wodurch das Gas ins Plasma umgewandelt wird, dann wird es in andere Kammern des Geräts übertragen, um den entsprechenden Plasmaprozess, einen Vorgängerprozess oder einen Nachfolgeprozess davon durchzuführen.
Bei dem ferngesteuerten Plasmagerät handelt es sich jedoch um ein integriertes Gerät mit eingebauter Stromversorgung, das einen ausreichend großen Raum im Inneren des Geräts benötigt, und da es sich um ein integriertes Gerät mit eingebauter Stromversorgung handelt, erfordert das ferngesteuerte Plasmagerät eine bessere Sicherheitsausführung. Darüber hinaus benötigen das ursprüngliche Plasmasystem und das ferngesteuerte Plasmagerät individuelle Stromversorgungen, und es sind mehrere Stromversorgungskonfigurationen erforderlich, um die Stromversorgungsbedingungen an den Betriebsorten des Systems und des Geräts zu erfüllen. Darüber hinaus, nachdem das ferngesteuerte Plasmagerät fertig entworfen war, hat jedes Funktionsmodul verfestigtes Design, und es kann sich nicht leicht entsprechend verschiedenen Anwendungsszenarien anpassen, und die Praktikabilität ist schlecht.
INHALT DER VORLIEGENDEN ANMELDUNG
Die vorliegende Anmeldung zielt darauf ab, ein zusammengesetztes Plasmaquellensystem und ein ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät zur Verfügung zu stellen, wobei durch die Wiederverwendung der Stromversorgung die Stromversorgungskonfiguration verringert wird und die Praktikabilität des Systems durch flexibles Konfigurieren der Stromversorgung und des geteilten Geräts verbessert wird.
Um das obige Ziel zu erreichen, stellt die vorliegende Anmeldung am ersten Aspekt ein zusammengesetztes Plasmaquellensystem zur Verfügung, umfassend eine Stromversorgungsvorrichtung, ein Plasmagerät, eine erste geteilte Plasmavorrichtung und eine Stromverteilungsvorrichtung. Die Stromversorgungsvorrichtung wird dazu verwendet, eine Arbeitselektrizität bereitzustellen. Die erste geteilte Plasmavorrichtung ist mit dem Plasmagerät verbunden. Die Stromverteilungsvorrichtung ist jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung, dem Plasmagerät und der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch verbunden. Die Stromverteilungsvorrichtung wird dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät basierend auf der Arbeitselektrizität, damit das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; und Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung basierend auf der Arbeitselektrizität, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung ein erstes ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die Stromverteilungsvorrichtung einen Stromkreisumschalter. Der Stromkreisumschalter wird dazu verwendet, die Stromversorgungsvorrichtung mit dem Plasmagerät elektrisch zu verbinden, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen, oder die Stromversorgungsvorrichtung mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch zu verbinden, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst der Stromkreisumschalter einen Eingangsknoten, einen ersten Ausgangsknoten und einen zweiten Ausgangsknoten, wobei der Stromkreisumschalter verwendet wird, um den Eingangsknoten zu veranlassen, eine Leitung mit dem ersten Ausgangsknoten zu bilden, oder den Eingangsknoten zu veranlassen, eine Leitung mit dem zweiten Ausgangsknoten zu bilden. Das Plasmagerät umfasst ein erstes Anpassungsnetzwerk und einen ersten Hohlraum, wobei das erste Anpassungsnetzwerk zwischen einer Last des ersten Hohlraums und dem ersten Ausgangsknoten verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz der Last des ersten Hohlraums anpasst. Die erste geteilte Plasmavorrichtung umfasst einen zweiten Hohlraum und ein zweites Anpassungsnetzwerk, wobei der zweite Hohlraum mit dem ersten Hohlraum verbunden ist, und wobei das zweite Anpassungsnetzwerk zwischen einer Last des zweiten Hohlraums und dem zweiten Ausgangsknoten verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz der Last des zweiten Hohlraums anpasst.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine erste Steuerung, die mit dem Stromkreisumschalter elektrisch verbunden ist. Die erste Steuerung wird dazu verwendet, die Leitungsumschaltung des Stromkreisumschalters zu steuern, um eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung und dem Plasmagerät oder eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung und der ersten geteilten Plasmavorrichtung herzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine zweite Steuerung, die jeweils mit dem Stromkreisumschalter und der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist. Die zweite Steuerung wird dazu verwendet, in einem ersten Modus den Stromkreisumschalter dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung und das Plasmagerät zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine erste Arbeitselektrizität ans Plasmagerät auszugeben, so dass das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; sowie in einem zweiten Modus den Stromkreisumschalter dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine zweite Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung, die mit dem Plasmagerät verbunden und mit dem Stromkreisumschalter elektrisch verbunden ist. Der Stromkreisumschalter wird weiterhin dazu verwendet, eine oder zwei von den folgenden drei Funktionen zu realisieren: elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit dem Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen und einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen; sowie elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit der zweiten geteilten Plasmavorrichtung, um basierend auf der Arbeitselektrizität eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die Stromverteilungsvorrichtung einen Stromverteiler, der dazu verwendet wird, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; und Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine dritte Steuerung, die mit dem Stromverteiler elektrisch verbunden ist. Die dritte Steuerung wird dazu verwendet, die Stromverteilung des Stromverteilers zu steuern, um mindestens eine von den Funktionen zu realisieren, einen ersten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität ans Plasmagerät zu verteilen und einen zweiten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung zu verteilen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine vierte Steuerung, die jeweils mit dem Stromverteiler und der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist. Die vierte Steuerung wird dazu verwendet, in einem ersten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, so dass das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; in einem zweiten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen; sowie in einem dritten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät auszugeben, den Stromverteiler dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, sowie die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, so dass das Plasmagerät und die erste geteilte Plasmavorrichtung einen dritten Plasmaprozess durchführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung, die mit dem Plasmagerät verbunden und mit dem Stromverteiler elektrisch verbunden ist. Der Stromverteiler wird weiterhin dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen; Verteilen eines dritten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die zweite geteilte Plasmavorrichtung, um eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität die gleichen, unterschiedliche oder teilweise gleichen elektrischen Parameter.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die elektrischen Parameter mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine fünfte Steuerung, die mit dem Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist. Die fünfte Steuerung wird dazu verwendet, die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, gemäß den elektrischen Parametern den Strom auszugeben, um mindestens eine von der ersten Arbeitselektrizität und der zweiten Arbeitselektrizität bereitzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das Plasmagerät eine Lufteinlasskomponente, die erstes Rohr, ein zweites Rohr, ein drittes Rohr und einen Rohrumschalter umfasst. Das erste Rohr wird zum Einführen des Prozessgases verwendet. Das zweite Rohr ist mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden und wird dazu verwendet, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen. Das dritte Rohr ist mit dem ersten Hohlraum in dem Plasmagerät verbunden. Der Rohrumschalter ist an einer Kopplung zwischen dem ersten Rohr, dem zweiten Rohr und dem dritten Rohr angeordnet und wird zum Leiten des ersten Rohrs und des dritten Rohrs oder zum Leiten des zweiten Rohrs und des dritten Rohrs verwendet.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine sechste Steuerung, die mit dem Rohrumschalter elektrisch verbunden ist. Die sechste Steuerung wird dazu verwendet, in einem ersten Modus den Rohrumschalter dazu zu steuern, das erste Rohr und das dritte Rohr zu leiten, und in einem zweiten Modus den Rohrumschalter dazu zu steuern, das zweite Rohr und das dritte Rohr zu leiten.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das Plasmagerät ein Auspuffteil, das eine Gasanziehungskomponente und ein erstes Auspuffrohr umfasst, wobei die Gasanziehungskomponente zum Einführen des von dem Plasmagerät abgeführten Gases verwendet wird. Das erste Auspuffrohr ist jeweils mit der Gasanziehungskomponente und einem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden, wobei das Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung mit dem zweiten Hohlraum der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein drittes Anpassungsnetzwerk und einen dritten Hohlraum. Das Plasmagerät umfasst ein erstes Einlassrohr und ein zweites Auspuffrohr. Das erste Einlassrohr ist mit dem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden und wird verwendet, so dass das Plasmagerät ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einführt. Das zweite Auspuffrohr ist mit dem dritten Hohlraum verbunden und wird verwendet, so dass das Plasmagerät das Endgas des Plasmageräts an die zweite geteilte Plasmavorrichtung abführt.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das Plasmagerät ein zweites Einlassrohr und ein drittes Auspuffrohr, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden sind. Das zweite Einlassrohr wird dazu verwendet, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen. Das dritte Auspuffrohr ist mit dem zweiten Hohlraum der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden, wobei das dritte Auspuffrohr dazu verwendet wird, das Endgas des Plasmageräts an die erste geteilte Plasmavorrichtung abzuführen, so dass die erste geteilte Plasmavorrichtung eine Endgasbehandlung durchführt.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine siebte Steuerung, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch verbunden ist. Die siebte Steuerung wird dazu verwendet, die erste geteilte Plasmavorrichtung dazu zu steuern, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung bereitzustellen, oder die erste geteilte Plasmavorrichtung dazu zu steuern, eine Endgasbehandlung durchzuführen.
An einem zweiten Aspekt stellt die vorliegende Anmeldung ein ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät zur Verfügung, umfassend eine Stromversorgungsvorrichtung und eine geteilte Plasmavorrichtung. Die Stromversorgungsvorrichtung stellt eine Arbeitselektrizität bereit. Die geteilte Plasmavorrichtung ist mit der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden, wobei die geteilte Plasmavorrichtung ein Anpassungsnetzwerk und einen Hohlraum umfasst, und wobei das Anpassungsnetzwerk jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung und einer Last des Hohlraums verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz einer Last des Hohlraums anpasst.
In einem Ausführungsbeispiel umfassen die einstellbaren elektrischen Parameter der Arbeitselektrizität mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät weiterhin eine Steuerung, die mit der Stromversorgungsvorrichtung verbunden ist und dazu verwendet wird, die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, die Elektrizität entsprechend den elektrischen Parametern auszugeben.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät weiterhin ein erstes Einlassrohr und ein erstes Auspuffrohr, die mit dem Hohlraum verbunden sind, wobei das erste Einlassrohr zum Einführen von Rohgas verwendet wird, und wobei das erste Auspuffrohr dazu verwendet wird, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung, das so erhalten wird, dass das Rohgas einem Plasmavorgang unterzogen ist, ans Plasmagerät auszugeben.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät weiterhin ein zweites Einlassrohr, ein drittes Einlassrohr ein zweites Auspuffrohr, die mit dem Hohlraum verbunden sind, wobei das zweite Einlassrohr zum Einführen eines von dem Plasmagerät ausgegebenen Endgases verwendet wird, und wobei das dritte Einlassrohr zum Einführen eines Rohgases verwendet wird, das einen Plasmavorgang an dem Endgas durchführt, und wobei das zweite Auspuffrohr dazu verwendet wird, ein der Behandlung des Plasmavorgangs unterzogenes Endgas abzuführen.
Die vorliegende Anmeldung hat folgende Vorteile: ein von der vorliegenden Anmeldung bereitgestelltes zusammengesetztes Plasmaquellensystem umfasst eine Stromversorgungsvorrichtung, ein Plasmagerät, eine erste geteilte Plasmavorrichtung und eine Stromverteilungsvorrichtung; wenn es erforderlich ist, das Plasmagerät dazu zu veranlassen, einen ersten Plasmaprozess durchzuführen, kann durch die Stromverteilungsvorrichtung eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitgestellt werden; wenn es erforderlich ist, das Plasmagerät dazu zu veranlassen, einen zweiten Plasmaprozess durchzuführen, kann durch die Stromverteilungsvorrichtung eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitgestellt werden; wenn es erforderlich ist, das Plasmagerät dazu zu veranlassen, einen ersten Plasmaprozess durchzuführen, und einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen, können durch die Stromverteilungsvorrichtung gleichzeitig eine erste Arbeitselektrizität und eine zweite Arbeitselektrizität bereitgestellt werden; deshalb kann es mit der Anordnung der Stromverteilungsvorrichtung ermöglicht werden, dass das Plasmagerät und die erste geteilte Plasmavorrichtung eine Stromversorgungsvorrichtung gemeinsam verwenden; darüber hinaus ist es möglich, die gemeinsame Verwendung einer Stromversorgungsvorrichtung auf die gleiche Weise beizubehalten, selbst wenn ein Plasmagerät oder eine erste geteilte Plasmavorrichtung hinzugefügt wird; einerseits, da die Stromversorgungsvorrichtung wiederverwendet werden kann, besteht keine Notwendigkeit, eine zusätzliche Stromversorgungsvorrichtung hinzuzufügen, wodurch der Zweck der Verringerung der Stromversorgungskonfiguration erreicht wird; andererseits, wenn es notwendig ist, auf verschiedene Anwendungsszenarien anzuwenden, wird die gemeinsame Verwendung einer Stromversorgungsvorrichtung beibehalten, nur durch Hinzufügen eines Plasmageräts oder einer ersten geteilten Plasmavorrichtung kann es an verschiedene Anwendungsszenarien angepasst werden, was den Prozess der Realisierung einfacher macht und praktisch ist; darüber hinaus sind die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung zwei unabhängige Vorrichtungen, d.h. die Stromversorgung ist nicht in der ersten geteilten Plasmaeinrichtung angeordnet, dadurch kann das Volumen der ersten geteilten Plasmavorrichtung verringert werden; zweitens ist es auch möglich, die Anforderungen an die Sicherheitskonstruktion der ersten geteilten Plasmavorrichtung zu reduzieren, wodurch die Konstruktionsschwierigkeiten verringert werden.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Ein oder mehrere Ausführungsbeispiel werden beispielhaft anhand der beigefügten Zeichnungen dargestellt, wobei die beispielhaften Darstellungen keine Einschränkung der Ausführungsbeispiele darstellen, und Elemente mit derselben numerischen Referenzbezeichnung in den beigefügten Zeichnungen als ähnliche Elemente bezeichnet werden, und die Zeichnungen in den beigefügten Zeichnungen keine Einschränkung der Proportionalität darstellen, sofern dies nicht ausdrücklich angegeben wird.

1 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
2 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
3 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
4 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
5 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
6 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
7 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
8 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
9 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
10 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
11 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
12 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
13 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
14 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
15 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
16 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
17 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
18 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
19 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
20 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
21 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
22 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems.
23 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten ferngesteuerten geteilten Plasmageräts.
24 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten ferngesteuerten geteilten Plasmageräts.
25 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten ferngesteuerten geteilten Plasmageräts.
26 zeigt eine schematische Strukturansicht eines von einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten ferngesteuerten geteilten Plasmageräts.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
Im Zusammenhang mit Figuren in den Ausführungsformen der vorliegende Anmeldung wird die technische Lösung in den Ausführungsformen der vorliegenden Anmeldung im Folgenden klar und vollständig erläutert, so dass das Ziel, die technischen Lösungen und die Vorteile der vorliegenden Anmeldung klarer werden. Offensichtlich stellen die geschilderten Ausführungsformen nicht alle Ausführungsformen, sondern nur einen Teil der Ausführungsformen dar. Alle anderen Ausführungsbeispiele, die durch den Durchschnittsfachmann auf diesem Gebiet auf der Grundlage der Ausführungsbeispiele in der vorliegenden Anmeldung ohne kreative Arbeiten erhalten werden, sollten als vom Schutzumfang der vorliegenden Anmeldung gedeckt angesehen werden.
Unter Bezugnahme auf 1 zeigt 1 eine schematische Strukturansicht eines von einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten zusammengesetzten Plasmaquellensystems. Das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 umfasst eine Stromversorgungsvorrichtung 100, ein Plasmagerät 200, eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und eine Stromverteilungsvorrichtung 400.
Dabei wird Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu verwendet, eine Arbeitselektrizität bereitzustellen. In einer Ausführungsform ist die Stromversorgungsvorrichtung 100 eine Vorrichtung, die Energie aus einem Stromnetz bezieht, sie umwandelt und elektrische Energie für eine oder mehrere Lasten bereitstellt, die Stromversorgungsvorrichtung stellt eine Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereit, um das angeforderte Plasma zu erzeugen, und die Arbeitselektrizität ist beispielsweise eine RF-Stromversorgung, eine Hochfrequenz-Stromversorgung, eine Zwischenfrequenz-Stromversorgung, eine Niederfrequenz-Stromversorgung oder eine Gleichstrom-Stromversorgung.
Das Plasmagerät 200 wird zur Durchführung eines Plasmaprozesses in einem Vakuumhohlraum verwendet, wobei der Plasmaprozess verschiedene Prozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Endgasbehandlung usw. umfasst.
Die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 ist mit dem Plasmagerät 200 verbunden und kann in verschiedenen Anwendungsszenarien unterschiedliche Verbindungsmethoden aufweisen, die Verbindungsmethoden wie Gasleitungsverbindung, Gerätegelenk und Schaltungsverbindung umfassen. Die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 kann mit dem Plasmagerät 200 zusammenarbeiten, um einen Plasmaprozess durchzuführen, und je nach Art der Verbindung der Vorrichtung umfasst der Plasmaprozess verschiedene Prozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Endgasbehandlung.
Die Stromverteilungsvorrichtung 400 ist jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung 100, dem Plasmagerät 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch verbunden, wobei die Stromverteilungsvorrichtung 400 dazu verwendet wird, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren:

Funktion 1: Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 basierend auf der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellten Arbeitselektrizität, damit das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführt;
Funktion 2: Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 basierend auf der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellten Arbeitselektrizität, wobei die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 ein erstes ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen.

Mit anderen Worten kann die Stromverteilungsvorrichtung 400 in dieser Implementierung Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 realisieren; die Stromverteilungsvorrichtung 400 kann auch das Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 realisieren; die Stromverteilungsvorrichtung 400 kann das Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 und gleichzeitig das Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 realisieren.
Deshalb kann es mit der Anordnung der Stromverteilungsvorrichtung 400 ermöglicht werden, dass das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 eine Stromversorgungsvorrichtung 100 gemeinsam verwenden. Darüber hinaus ist es möglich, die Wiederverwendung einer Stromversorgungsvorrichtung 100 auf die gleiche Weise beizubehalten, nämlich dadurch, dass die Stromverteilungsvorrichtung 400 die Elektrizität verteilt, wenn es erforderlich ist, ein Plasmagerät 200 oder eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 hinzuzufügen. Auf die Weise kann der Zweck der Verringerung der Stromversorgungskonfiguration 100 erreicht werden, ohne dass es notwendig ist, eine zusätzliche Stromversorgungsvorrichtung 100 hinzuzufügen.
Zweites, wenn es notwendig ist, auf verschiedene Anwendungsszenarien anzuwenden, da die Stromversorgungsvorrichtung 100 wieder verwendet wird, nämlich wird die Anzahl der Stromversorgungsvorrichtung 100 auf 1 gehalten, kann es durch Hinzufügen eines Plasmageräts 200 oder einer ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 an verschiedene Anwendungsszenarien angepasst werden. Auf die Weise wird der Prozess zum Erweitern des Plasmageräts 200 oder der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 vereinfacht, was leicht zu realisieren ist und eine bessere Praktikabilität aufweist.
Darüber hinaus sind die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 zwei unabhängige Vorrichtungen, d.h. die Stromversorgung ist nicht in der ersten geteilten Plasmaeinrichtung 300 angeordnet, was den internen Aufbau der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 vereinfacht, in Verbindung mit der Wiederverwendung der Stromversorgungsvorrichtung 100 wird die Verwendung der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 bequemer gemacht, was ebenfalls die Praktikabilität verbessern kann.
Da in der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 keine Stromversorgung eingebaut ist, können die Anforderungen an die Sicherheitskonstruktion der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 reduziert werden, wodurch die Konstruktionsschwierigkeiten verringert werden.
Nachdem das Plasmagerät 200 die erste Arbeitselektrizität erhielt, kann das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführen.
Nachdem die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 eine zweite Arbeitselektrizität erhielt, kann das erste ferngesteuerte geteilte Plasmasystem, das von der Stromversorgungsvorrichtung 100 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gebildet wird, einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchführen. Beispielsweise erhält die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 in einer Ausführungsform ein externes Gas und führt eine Plasmaisierung an diesem Gas durch, um ein Gas zur Behandlung oder Reinigung zu bilden, dann gießt sie das Gas zur Behandlung oder Reinigung durch ein Rohr ins Plasmagerät 200 ein, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen, nämlich umfasst der zweite Plasmaprozess einen von der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 durchgeführten Prozess und einen von dem Plasmagerät 200 durchgeführten Prozess, und es handelt sich bei dem zweiten Plasmaprozess um einen Prozess, der von der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 und dem Plasmagerät 200 gemeinsam vervollständigt ist.
Dabei können der erste Plasmaprozess und der zweite Plasmaprozess jeweils verschiedene Prozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Endgasbehandlung usw. umfassen, und der erste Plasmaprozess und der zweite Plasmaprozess können gleich oder unterschiedlich sein, was in diesem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung nicht speziell beschränkt ist.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die Stromverteilungsvorrichtung 400 einen Stromkreisumschalter 401, wie in 2 dargestellt.
Dabei wird der Stromkreisumschalter 401 dazu verwendet, die Stromversorgungsvorrichtung 100 mit dem Plasmagerät 200 elektrisch zu verbinden, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen, oder die Stromversorgungsvorrichtung 100 mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch zu verbinden, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen.
Insbesondere, wenn der Stromkreisumschalter 401 eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und dem Plasmagerät 200 herstellt, unterbricht der Stromkreisumschalter 401 gleichzeitig die elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300, jetzt stellt die Stromversorgungsvorrichtung 100 eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereit, so dass das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführt, während die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 keinen Plasmaprozess durchführt, da sie nicht erregt ist.
Wenn der Stromkreisumschalter 401 eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 herstellt, unterbricht der Stromkreisumschalter 401 gleichzeitig die elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und dem Plasmagerät 200, jetzt stellt die Stromversorgungsvorrichtung 100 eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereit. Nachdem die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 im Inneren einen Plasmaprozess durchführte, leitet sie das erzeugte Gas zur Behandlung oder Reinigung durch ein Rohr ins Plasmagerät 200 ein, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen.
Zusammenfassend gesagt, kann der Stromkreisumschalter 401 die von der Stromversorgungsvorrichtung 100 ausgegebene Arbeitselektrizität an das Plasmagerät 200 oder die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 verteilen, um zu realisieren, dass das Plasmagerät 200 oder die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 eine Stromversorgungsvorrichtung 100 wiederverwenden.
Entsprechend der von dem Stromkreisumschalter 401 geschalteten Leitung muss die Stromversorgungsvorrichtung 100 ausgegebene Arbeitselektrizität in der Lage sein, das Plasmagerät 200 oder die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 zu versorgen. Selbst wenn ein Plasmagerät 200 oder eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 hinzugefügt werden muss, kann die bestehende Stromversorgungsvorrichtung 100 wieder verwendet werden, solange der einstellbare Bereich der Spezifikation der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 ausgegebenen Arbeitselektrizität mit der Spezifikation der von dem hinzufügten Gerät oder der hinzugefügten Vorrichtung geforderten Betriebselektrizität übereinstimmt. Auf die Weise wird die Schwierigkeit der Erweiterung des Geräts verringert und die schnelle Anpassung des entsprechenden zusammengesetzten Plasmaquellensystems an die verschiedenen Anwendungsszenarien erleichtert, was sehr bequem und praktisch ist.
2 zeigt weiterhin beispielhaft eine Struktur des Stromkreisumschalters 401, wie in 2 dargestellt, umfasst der Stromkreisumschalter 401 einen Eingangsknoten 11, einen ersten Ausgangsknoten 01 und einen zweiten Ausgangsknoten 02.
Der Stromkreisumschalter 401 wird dazu verwendet, eine Leitung zwischen dem Eingangsknoten 11 und dem ersten Ausgangsknoten 01 zu bilden, nachdem die Stromversorgungsvorrichtung 100 nacheinander durch den Eingangsknoten 11 und den ersten Ausgangsknoten 01 durchging, wird sie mit dem Plasmagerät 200 elektrisch verbunden, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen. In diesem Ausführungsbeispiel besteht eine durchgezogene Linie zwischen dem Eingangsknoten I1 und dem ersten Ausgangsknoten O1, um anzuzeigen, dass der Eingangsknoten I1 und der erste Ausgangsknoten O1 miteinander verbunden sind; und eine gestrichelte Linie besteht zwischen dem Eingangsknoten I1 und dem zweiten Ausgangsknoten O2, um anzuzeigen, dass der Eingangsknoten I1 und der zweite Ausgangsknoten O2 nicht miteinander verbunden sind.
In einigen anderen Ausführungsformen wird der Stromkreisumschalter 401 ebenfalls dazu verwendet, eine Leitung zwischen dem Eingangsknoten I1 und dem zweiten Ausgangsknoten O2 zu bilden. Wie in 3 dargestellt, wird die Stromversorgungsvorrichtung 100, nachdem sie nacheinander durch den Eingangsknoten I1 und den zweiten Ausgangsknoten O2 durchging, mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch verbunden, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen. In diesem Ausführungsbeispiel besteht eine durchgezogene Linie zwischen dem Eingangsknoten I1 und dem zweiten Ausgangsknoten O2, um anzuzeigen, dass der Eingangsknoten I1 und der zweite Ausgangsknoten O2 miteinander verbunden sind; und eine gestrichelte Linie besteht zwischen dem Eingangsknoten I1 und dem ersten Ausgangsknoten O1, um anzuzeigen, dass der Eingangsknoten I1 und der zweite Ausgangsknoten O1 nicht miteinander verbunden sind.
In der Praxis kann der Stromkreisumschalter 401 eine Vielzahl von Implementierungen umfassen. Z.B. wird der Stromkreisumschalter in einer Ausführungsform durch einen SPDT-Schalter realisiert, wobei das unbewegliche Ende des SPDT-Schalters dem Eingangsknoten I1 entspricht, das erste bewegliche Ende des SPDT-Schalters dem ersten Ausgangsknoten O1 entspricht und das zweite bewegliche Ende des SPDT-Schalters dem zweiten Ausgangsknoten O2 entspricht, indem das unbewegliche Ende des SPDT-Schalters so geschaltet ist, dass es mit dem ersten beweglichen Ende verbunden ist oder es mit dem zweiten beweglichen Ende verbunden ist, wird die Leitungsumschaltungsfunktion des Stromkreisumschalters 401 realisiert. In einer anderen Ausführungsform kann der Stromkreisumschalter durch eine Kombination von zwei SPST-Schaltern realisiert werden. In einer weiteren Ausführungsform kann der Stromkreisumschalter weiterhin durch eine Gruppe von SPDT-Schaltern in dem DPDT-Schalter realisiert werden.
Unter Bezugnahme auf 4 zeigt 4 beispielhaft eine Struktur des Plasmageräts 200. Wie in 4 dargestellt, umfasst das Plasmagerät 200 ein erstes Anpassungsnetzwerk 201 und einen ersten Hohlraum 202.
Das erste Anpassungsnetzwerk 201 ist zwischen einer Last des ersten Hohlraums 202 und dem ersten Ausgangsknoten O1 verbunden, wobei das erste Anpassungsnetzwerk 201 verwendet wird, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung 100 an die Impedanz der Last des ersten Hohlraums 202 anpasst, um das Problem der Impedanzfehlanpassung bei der Stromübertragung zu lösen, wodurch eine bessere Stromübertragungsleistung erhalten wird. Dabei können der erste Ausgangsknoten O1 und das erste Anpassungsnetzwerk 201 miteinander elektrisch verbunden, direkt verbunden oder in einer Weise verbunden sein, die den Konstruktionsanforderungen entspricht.
Der erste Hohlraum 202 kann ein Vakuumhohlraum sein, d.h. ein Behälter, der einen internen Vakuumzustand aufrechterhält, um eine Vakuumumgebung für die Durchführung verschiedener Plasmaprozesse zu schaffen. Beispielsweise wird das Gas A1 von dem Rohr 203 in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, und in dem ersten Hohlraum 202 werden verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. durchgeführt. In diesem Ausführungsbeispiel wird das Rohr 203 als Beispiel für einen Teil des Plasmageräts 200 genommen, während in anderen Ausführungsbeispielen das Rohr 203 auch ein externes Rohr sein kann, die abnehmbar mit dem Plasmagerät 200 verbunden ist.
Gleichzeitig sollte es darauf hingewiesen werden, dass in irgendeinem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung das mit dem jeweiligen Gerät verbundene Rohr ein in das entsprechende Gerät integriertes Rohr sein kann oder ein externes Rohr sein kann, das abnehmbar mit dem entsprechenden Gerät verbunden ist. Dabei umfasst die jeweiligen Geräte ein Plasmagerät 200, eine erste geteilte Plasmavorrichtung300 und eine zweite geteilte Plasmavorrichtung 500.
4 zeigt weiterhin beispielhaft eine Struktur der ersten geteilten Plasmavorrichtung 200. Wie in 4 dargestellt, umfasst die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 ein zweites Anpassungsnetzwerk 301 und einen zweiten Hohlraum 302.
Der zweite Hohlraum 302 ist mit dem ersten Hohlraum 202 verbunden, wobei der zweite Hohlraum 302 und der erste Hohlraum 202 durch einen Gasweg miteinander verbunden sind, und wobei das durch die Plasmaisierung gebildete Gas zur Behandlung oder Reinigung in dem zweiten Hohlraum 302 durch den Gasweg in den ersten Hohlraum 202 eingegeben werden kann.
Das zweite Anpassungsnetzwerk 301 ist zwischen einer Last des zweiten Hohlraums 302 und dem zweiten Ausgangsknoten O2 verbunden und wird verwende, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung 100 an die Impedanz der Last des zweiten Hohlraums 302 anpasst, um das Problem der Impedanzfehlanpassung bei der Stromübertragung zu lösen, wodurch eine bessere Stromübertragungsleistung erhalten wird. Dabei können der zweite Ausgangsknoten O2 und das zweite Anpassungsnetzwerk 301 miteinander elektrisch verbunden, direkt verbunden oder in einer Weise verbunden sein, die den Konstruktionsanforderungen entspricht.
Der zweite Hohlraum 302 kann ebenfalls ein Vakuumhohlraum sein, um eine Vakuumumgebung für die Durchführung verschiedener Plasmaprozesse zu schaffen. Beispielsweise wird das Gas A2 von dem Rohr 303 in den zweiten Hohlraum 302 eingegossen, und in dem zweiten Hohlraum 302 werden verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. durchgeführt. Anschließend kann das Gas, das einer Plasmaisierung unterzogen war, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung sein, das Gas zur Behandlung oder Reinigung wird durch ein Rohr in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, um andere Plasmaprozesse durchzuführen; und das Gas, das einer Plasmaisierung unterzogen war, kann auch Endgas A3 sein, das durch das Auspuffrohr 204 abgeführt werden kann.
Es versteht sich, dass der Stromkreisumschalter 401 sowohl manuell als auch automatisch gesteuert werden kann.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine erste Steuerung U1, die mit dem Stromkreisumschalter 401 elektrisch verbunden ist, wie in 5 dargestellt, um den Stromkreisumschalter 401 automatisch zu steuern.
Dabei wird die erste Steuerung U1 dazu verwendet, die Leitungsumschaltung des Stromkreisumschalters 401 zu steuern, um eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und dem Plasmagerät 200 oder eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung 100 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 herzustellen. Insbesondere kann die erste Steuerung U1 den Eingangsknoten I1 dazu steuern, mit dem ersten Ausgangsknoten O1 eine Leitung zu bilden, wobei die Stromversorgungsvorrichtung 100 mit dem Plasmagerät 200 elektrisch verbunden ist, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen; die erste Steuerung U1 kann auch die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu steuern, mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch verbunden zu sein, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel gemäß 5 wird eine automatische Steuerung des Stromkreisumschalters 401 realisiert, indem die erste Steuerung U1 mit dem Stromkreisumschalter 401 elektrisch verbunden ist. In anderen Ausführungsbeispielen können auch andere Verarbeitungsmodule mit arithmetischen Verarbeitungsfähigkeiten zur Steuerung des Stromkreisumschalters 401 verwendet werden.
In einigen Ausführungsbeispielen kann die erste Steuerung U1 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine zweite Steuerung U2, die jeweils mit dem Stromkreisumschalter 401 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 elektrisch verbunden ist, wie in 6 dargestellt, wobei die zweite Steuerung U2 dazu verwendet wird, eine automatische Steuerung des Stromkreisumschalters 401 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 zu realisieren.
Dabei wird die zweite Steuerung U2 dazu verwendet, in einem ersten Modus den Stromkreisumschalter 401 dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung 100 und das Plasmagerät 200 zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, eine erste Arbeitselektrizität ans Plasmagerät 200 auszugeben, so dass das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführt; sowie in einem zweiten Modus den Stromkreisumschalter 401 dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, eine zweite Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen.
In diesem Ausführungsbeispiel kann die zweite Steuerung U2 nicht nur die Leitungsumschaltung des Stromkreisumschalters 401 steuern, sondern auch gleichzeitig steuern, ob die Stromversorgungsvorrichtung 100 die Arbeitselektrizität ausgibt. Wenn die zweite Steuerung U2 eine Anomalie in der Leistungsabgabe der Stromversorgungsvorrichtung 100 feststellt, z.B. wenn die Ausgangsspannung der Stromversorgungsvorrichtung 100 zu hoch ist, ist die zweite Steuerung in der Lage, die Stromversorgungsvorrichtung 100 automatisch von der Leistungsabgabe abzuschalten, um zu verhindern, dass die stromverbrauchende Ausrüstung wie das Plasmagerät 200 usw. aufgrund der Überspannung beschädigt wird, was förderlich dafür ist, die Stabilität des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 zu verbessern.
Ebenfalls wird in einem Ausführungsbeispiel gemäß 6 eine automatische Steuerung des Stromkreisumschalters 401 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 durch die zweite Steuerung U2 realisiert. In anderen Ausführungsbeispielen können auch andere Verarbeitungsmodule mit arithmetischen Verarbeitungsfähigkeiten zur Steuerung des Stromkreisumschalters 401 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 verwendet werden.
In einigen Ausführungsbeispielen kann die zweite Steuerung U2 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
Es sollte darauf hingewiesen werden, dass es sich bei allen Steuerungen in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Anmeldung, wie der ersten Steuerung U1 und der zweiten Steuerung U2, um dieselbe Steuerung oder um unterschiedliche Steuerungen handeln kann, was in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Anmeldung nicht spezifisch beschränkt ist. Wenn es sich bei den Steuerungen um unterschiedliche Steuerungen handelt, können die Typen der Steuerungen gleich oder unterschiedlich sein.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das Plasmagerät 200 eine Lufteinlasskomponente, die erstes Rohr 205, ein zweites Rohr 206, ein drittes Rohr 207 und einen Rohrumschalter 208 umfasst, wie in 7 dargestellt.
Dabei wird das erste Rohr 205 zum Einführen des Prozessgases A2 verwendet. Das zweite Rohr 206 ist mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden und wird dazu verwendet, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen. Das dritte Rohr 207 ist mit dem ersten Hohlraum 202 in dem Plasmagerät 200 verbunden. Der Rohrumschalter 208 ist an einer Kopplung zwischen dem ersten Rohr 205, dem zweiten Rohr 206 und dem dritten Rohr 207 angeordnet und wird zum Leiten des ersten Rohrs 205 und des dritten Rohrs 207 oder zum Leiten des zweiten Rohrs 206 und des dritten Rohrs 207 verwendet.
Wenn insbesondere der Rohrumschalter 208 das erste Rohr 205 zum dritten Rohr 207 leitet, wird das Prozessgas A2, nachdem es nacheinander durch das erste Rohr 205 und das dritte Rohr 207 durchging, in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, um einen ersten Plasmaprozess in dem ersten Hohlraum 202 durchzuführen; wenn der Rohrumschalter 208 das zweite Rohr 205 zum dritten Rohr 207 leitet, wird das von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestellte Gas zur Behandlung oder Reinigung, nachdem es nacheinander durch das zweite Rohr 205 und das dritte Rohr 207 durchging, in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, um verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. an dem ersten Hohlraum 202durchzuführen. Dabei ist das Gas zur Behandlung oder Reinigung ein Gas, das so erhalten wird, dass das Gas A1 in der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 einer Plasmaisierung unterzogen ist.
Es versteht sich, dass in diesem Ausführungsbeispiel auch eine erste Steuerung U1 oder eine zweite Steuerung U2 mit Bezug auf das in 5 oder 6 dargestellte Ausführungsbeispiel hinzugefügt werden kann, um eine automatische Steuerung des Stromkreisumschalters 401 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 zu realisieren. Gleichzeitig kann der Rohrumschalter 208 in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel auch durch die automatische Steuerung realisiert werden.
Wie in 8 dargestellt, umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine sechste Steuerung U6, die mit dem Rohrumschalter 208 elektrisch verbunden ist.
Dabei wird die sechste Steuerung U6 dazu verwendet, in einem ersten Modus den Rohrumschalter 208 dazu zu steuern, das erste Rohr 205 und das dritte Rohr 207 zu leiten, und in einem zweiten Modus den Rohrumschalter 208 dazu zu steuern, das zweite Rohr 206 und das dritte Rohr 207 zu leiten.
Wenn in dem Plasmagerät 200 ein erster Plasmaprozess durchzuführen ist, steuert die sechste Steuerung U6 entsprechend dem ersten Modus den Rohrumschalter 208 dazu, das erste Rohr 205 und das dritte Rohr 207 zu leiten, und das Prozessgas A2 wird, nachdem es nacheinander durch das erste Rohr 205 und das dritte Rohr 207 durchging, in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, um einen ersten Plasmaprozess in dem ersten Hohlraum 202 durchzuführen; wenn in dem Plasmagerät 200 ein zweiter Plasmaprozess durchzuführen ist, steuert die sechste Steuerung U6 entsprechend dem zweiten Modus den Rohrumschalter 208 dazu, das zweite Rohr 206 und das dritte Rohr 207 zu leiten, und das Gas zur Behandlung oder Reinigung wird, nachdem es nacheinander durch das zweite Rohr 206 und das dritte Rohr 207 durchging, in den ersten Hohlraum 202 eingegossen, um verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. an dem ersten Hohlraum 202durchgeführt.
In diesem Ausführungsbeispiel kann die sechste Steuerung U6 beispielsweise gleichzeitig die Stromversorgungsvorrichtung 100, den Stromkreisumschalter 401 und den Rohrumschalter 208 steuern. In anderen Ausführungsbeispiel ist es auch möglich, dass die sechste Steuerung U6 mindestens eines von der Stromversorgungsvorrichtung 100, dem Stromkreisumschalter 401 und dem Rohrumschalter 208 steuert, z.B. wird die sechste Steuerung U6 nur dazu verwendet, den Rohrumschalter 208 zu steuern.
In einigen Ausführungsbeispielen kann die sechste Steuerung U6 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In dem zusammengesetzten Plasmaquellensystem 10 gemäß 3 bis 6 ist die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 jeweils beispielsweise mit dem Gaseinlassrohr des Plasmageräts 200 verbunden, in einigen anderen Ausführungsbeispielen kann auch die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 mit dem Gasauslassrohr des Plasmageräts 200 verbunden sein.
In einem Ausführungsbeispiel ist ein schematisches Diagramm der Verbindung der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 mit dem Gasauslassrohr des Plasmageräts 200 wie in 9 dargestellt. Dabei umfasst das Plasmagerät 200 ein Auspuffteil, das eine Gasanziehungskomponente 211 und ein erstes Auspuffrohr 212 umfasst.
Die Gasanziehungskomponente 211 wird zum Einführen des von dem Plasmagerät 200 abgeführten Gases verwendet.
Das erste Auspuffrohr 212 ist jeweils mit der Gasanziehungskomponente 211 und einem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden, wobei das Einlassrohr 304 der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 mit dem zweiten Hohlraum 302 der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden ist. Das erste Auspuffrohr 212 entspricht nämlich dem Gasauslassrohr des Plasmageräts 200.
Nachdem das Plasmagerät 200 den ersten Plasmaprozess durchführte, führt das Plasmagerät 200 unbehandeltes Endgas ab, das von der Gasanziehungskomponente 211 ins erste Auspuffrohr 212 eingeführt und durch das erste Auspuffrohr 212 in den zweiten Hohlraum 302 eingegeben wird, um einen Prozess zur Endgasbehandlung in dem zweiten Hohlraum 302 durchzuführen, und das behandelte Endgas 305 wird durch das Rohr 306 abgeführt.
In einem Ausführungsbeispiel kann das Plasmagerät 200 in Kombination mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verwendet werden, um einen zirkulierenden Behandlungsprozess des Gases zu realisieren.
Wie in 10 dargestellt, umfasst das Plasmagerät 200 ein zweites Einlassrohr 213 und ein drittes Auspuffrohr 214, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden sind.
Dabei wird das zweite Einlassrohr 213 dazu verwendet, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen. Das dritte Auspuffrohr 214 ist mit dem zweiten Hohlraum 302 der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden, wobei das dritte Auspuffrohr 214 dazu verwendet wird, das Endgas des Plasmageräts 200 an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 abzuführen, so dass die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 eine Endgasbehandlung durchführt.
In diesem Ausführungsbeispiel umfasst der Gaszirkulations-Behandlungsprozess hauptsächlich die folgenden zwei Prozesse:

Prozess 1: die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 führt eine Plasmaisierungsbehandlung an dem eingegebenen Gas zweiter Art 303 durch, um ein Gas zur Behandlung oder Reinigung zu erzeugen, das Gas zur Behandlung oder Reinigung wird durch das zweite Einlassrohr 213 ins Plasmagerät 200 eingeführt. Wenn das erzeugte Gas ein Gas zur Reinigung ist, wird es zum Reinigen des Inneren des ersten Hohlraums 202 des Plasmageräts 200 verwendet; wenn das erzeugte Gas ein Gas zur Behandlung ist, wird es dazu verwendet, in Zusammenarbeit mit dem Plasmagerät 200 einen nicht reinigenden Plasmaprozess durchzuführen.
Prozess 2: nachdem das Plasmagerät 200 den ersten Plasmaprozess durchführte, wird ein unbehandeltes Endgas oder Abgas erzeugt, und das unbehandelte Endgas oder Abgas wird durch das dritte Auspuffrohr 214 in die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 eingegeben, die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 führt eine Behandlung an dem unbehandelten Endgas oder Abgas durch und führt das behandelte Endgas A4 durch das Rohr 304 ab.

Der erste Prozess und der zweite Prozess werden im Allgemeinen nicht gleichzeitig durchgeführt, und der Zeitpunkt, zu dem die verschiedenen Gase wie das Gas A1, das Gas A2 und das Gas A4 eingeleitet werden, basiert auf dem zusammenwirkenden Plasmavorgang, und das Gas wird nicht zu allen Zeiten eingeleitet, was für das tatsächliche Anwendungsszenario entsprechend eingestellt werden muss.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine siebte Steuerung U7, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch verbunden ist, wie in 11 dargestellt.
Die siebte Steuerung U7 wird dazu verwendet, die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 dazu zu steuern, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung bereitzustellen, oder die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 dazu zu steuern, eine Endgasbehandlung durchzuführen. Nämlich kann die siebte Steuerung U7 die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 steuern, so dass die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 den obigen ersten Prozess oder zweiten Prozess durchführt.
In einigen Ausführungsbeispielen kann die siebte Steuerung U7 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In dem obigen Ausführungsbeispiel werden verschiedene Konstruktionen des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 beschrieben, das ein Plasmagerät 200 und eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 umfasst, dabei können die technischen Merkmale in verschiedenen Ausführungsbeispielen kombiniert werden. Z.B. kann die zweite Steuerung U2 in der Struktur gemäß 9 verwendet, um eine automatische Steuerung der Stromversorgungsvorrichtung 100 und des Stromkreisumschalters 401 zu realisieren.
Aus dem obigen Inhalt kann in der vorliegenden Anmeldung weiterhin ein stromverbrauchendes Gerät wie eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 hinzugefügt werden, um die Bedürfnisse von verschiedenen Anwendungsszenarien zu erfüllen. Nachfolgend wird in dem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung die Struktur des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 erläutert, wenn es weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung umfasst.
Unter Bezugnahme auf 12 zeigt 12 beispielhaft eine Struktur des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10, das ein Plasmagerät 200, eine erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und eine zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 umfasst. Dabei kann die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 ein Gas zur Behandlung oder Reinigung für das Plasmagerät 200 bereitstellen, und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 kann das Endgas des Plasmageräts 200 behandeln.
Wie in 12 dargestellt, ist zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 mit dem Plasmagerät 200 verbunden und mit dem Stromkreisumschalter 401 elektrisch verbunden. Der Stromkreisumschalter 401 wird weiterhin dazu verwendet, eine oder zwei von den folgenden drei Funktionen zu realisieren:

Funktion 1: elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung 100 mit dem Plasmagerät 300, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen;
Funktion 2: elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung 100 mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen und einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen;
Funktion 3: elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung 100 mit der zweiten geteilten Plasmavorrichtung 500, um basierend auf der Arbeitselektrizität eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen.

Insbesondere kann der Stromkreisumschalter 401 dazu verwendet werden, eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen, oder eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität und eine zweite Arbeitselektrizität jeweils für das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen, oder eine erste Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität jeweils für das Plasmagerät 200 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität jeweils für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen.
In diesem Ausführungsbeispiel umfasst die Stromkreisumschalter 401 weiterhin einen dritten Ausgangsknoten 03. Der Stromkreisumschalter 401 wird verwendet, so dass der Eingangsknoten I1 mit dem ersten Ausgangsknoten O1 eine Leitung bildet, oder der Eingangsknoten I1 mit dem zweiten Ausgangsknoten O2 eine Leitung bildet, oder der Eingangsknoten I1 mit dem dritten Ausgangsknoten O3 eine Leitung bildet, oder der Eingangsknoten I1 jeweils mit dem ersten Ausgangsknoten O1 und dem zweiten Ausgangsknoten O2 eine Leitung bildet, oder der Eingangsknoten I1 jeweils mit dem zweiten Ausgangsknoten O2 und dem dritten Ausgangsknoten O3 eine Leitung bildet, oder der Eingangsknoten I1 jeweils mit dem ersten Ausgangsknoten O1 und dem dritten Ausgangsknoten O3 eine Leitung bildet.
In der Praxis kann der Stromkreisumschalter 401 eine Vielzahl von Implementierungen umfassen. Z.B. wird der Stromkreisumschalter in einer Ausführungsform durch einen DP3T-Schalter realisiert, wobei das unbewegliche Ende des DP3T-Schalters dem Eingangsknoten I1 entspricht, das erste bewegliche Ende des DP3T-Schalters dem ersten Ausgangsknoten O1 entspricht, das zweite bewegliche Ende des DP3T-Schalters dem zweiten Ausgangsknoten O2 entspricht und das dritte bewegliche Ende des DP3T-Schalters dem dritten Ausgangsknoten O3 entspricht. Indem das unbewegliche Ende des DP3T-Schalters so umgeschaltet wird, dass es jeweils mit dem zweiten beweglichen Ende und dem dritten beweglichen Ende verbunden wird, wie in 12 dargestellt, kann es realisiert werden, dass der Eingangsknoten I1 jeweils mit dem zweiten Ausgangsknoten O2 und dem dritten Ausgangsknoten O3 eine Leitung bildet, um zu realisieren, eine zweite Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität jeweils für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen.
Z.B. wird der Stromkreisumschalter in einer anderen Ausführungsform durch einen SP3T-Schalter realisiert, wobei das unbewegliche Ende des SP3T-Schalters dem Eingangsknoten I1 entspricht, das erste bewegliche Ende des SP3T-Schalters dem ersten Ausgangsknoten O1 entspricht, das zweite bewegliche Ende des SP3T-Schalters dem zweiten Ausgangsknoten O2 entspricht und das dritte bewegliche Ende des SP3T-Schalters dem dritten Ausgangsknoten O3 entspricht. Indem das unbewegliche Ende des SP3T-Schalters so umgeschaltet wird, dass es mit dem zweiten beweglichen Ende verbunden wird, kann es realisiert werden, dass der Eingangsknoten I1 mit dem zweiten Ausgangsknoten O2 eine Leitung bildet, um zu realisieren, eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 unter Bezugnahme auf 12 ein drittes Anpassungsnetzwerk 501 und einen dritten Hohlraum 502, wobei das Plasmagerät 200 ein erstes Einlassrohr 215 und ein zweites Auspuffrohr 214 umfasst.
Dabei ist das erste Einlassrohr 215 mit dem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 verbunden und wird verwendet, so dass das Plasmagerät 200 ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einführt. Wenn das erzeugte Gas ein Gas zur Reinigung ist, wird es zum Reinigen des Inneren des ersten Hohlraums 202 des Plasmageräts 200 verwendet; wenn das erzeugte Gas ein Gas zur Behandlung ist, wird es dazu verwendet, in Zusammenarbeit mit dem Plasmagerät 200 einen nicht reinigenden Plasmaprozess durchzuführen.
Das zweite Auspuffrohr 214 ist mit dem dritten Hohlraum 502 verbunden und wird verwendet, so dass das Plasmagerät 200 das Endgas des Plasmageräts 200 an die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 abführt, so dass die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 das Endgas behandelt und das behandelte Endgas A6 durch das Rohr 504 abführt.
In diesem Ausführungsbeispiel wird die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 dazu verwendet, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung bereitzustellen, um verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. an dem Plasmagerät 200 durchzuführen. Die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 wird dazu verwendet, von dem Plasmagerät 200 abgeführtes Endgas zu empfangen, um an der zweiten geteilten Plasmavorrichtung 500 einen Plasmaprozess zur Endgasbehandlung durchzuführen.
Es sollte darauf hingewiesen werden, dass in diesem Ausführungsbeispiel der Stromkreisumschalter 401 auch durch die Steuerung gesteuert werden kann, um einen automatischen Steuerungsprozess des Stromkreisumschalters 401 zu realisieren.
Gleichzeitig basieren die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele alle auf dem Beispiel der Stromumschaltungsvorrichtung 400 einschließlich des Stromkreisumschalters 401, aber die Hardwarestruktur der Stromumschaltungsvorrichtung 400, wie sie in den 2 bis 12 dargestellt ist, ist nur ein Beispiel, und die Stromumschaltungsvorrichtung 400 kann mehr oder weniger Komponenten als die in den Figuren gezeigten haben, kann zwei oder mehr Komponenten kombinieren oder kann unterschiedliche Komponentenkonfigurationen haben.
Beispielsweise umfasst in einigen anderen Ausführungsbeispielen die Stromumschaltungsvorrichtung 400 einen Stromverteiler 402, wie in 13 dargestellt. Der Stromverteiler 402 ist jeweils mit der dem Plasmagerät 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 elektrisch verbunden. Der Stromverteiler 402 wird dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren:

Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellten Arbeitselektrizität an das Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen; und Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellten Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen.

Dabei kann der Stromverteiler 402 eine Vorrichtung sein kann, die eine Eingangsenergie in zwei oder mehr Ausgänge gleicher oder ungleicher Energie aufteilt. Insbesondere teilt der Stromverteiler 402 im Voraus die von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellte Arbeitselektrizität in eine Vielzahl von Elektrizitätsanteilen entsprechend den mit Strom zu versorgenden Geräten, um die für die Arbeit jedes Geräts erforderliche Elektrizität bereitzustellen. Wenn das mit Strom zu versorgende Gerät das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 umfasst, kann die von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellte Arbeitselektrizität in mindestens zwei Elektrizitätsanteile geteilt werden, d.h. in mindestens einen ersten Elektrizitätsanteil und einen zweiten Elektrizitätsanteil, mit anderen Worten ist die Summe des ersten Elektrizitätsanteils und des zweiten Elektrizitätsanteils kleiner oder gleich der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 bereitgestellten Arbeitselektrizität. Wenn das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführen muss, gibt der Stromverteiler 402 den ersten Elektrizitätsanteil ins Plasmagerät 200 ein, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen; Wenn die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 erregt werden muss, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen, gibt der Stromverteiler 402 den zweiten Elektrizitätsanteil in die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 ein, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen.
Ebenfalls kann der Stromverteiler 402 sowohl manuell als auch automatisch gesteuert werden.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine dritte Steuerung U3, die mit dem Stromverteiler 402 elektrisch verbunden ist, wie in 14 dargestellt, um den Stromverteiler 402 automatisch zu steuern.
Die dritte Steuerung U3 wird dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Steuern der Stromverteilung des Stromverteilers 402, um einen ersten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität ans Plasmagerät 200 zu verteilen und einen zweiten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung zu verteilen. Insbesondere kann die dritte Steuerung U3 den Stromverteilers 402, um einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät 200 zu verteilen, oder einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 zu verteilen, oder einen ersten Elektrizitätsanteil und einen zweiten Elektrizitätsanteil gleichzeitig an das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 zu verteilen.
In diesem Ausführungsbeispiel kann die dritte Steuerung U3 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem weiterhin eine vierte Steuerung U4, die jeweils mit dem Stromverteiler 402 und der Stromversorgungsvorrichtung 100 elektrisch verbunden ist, wie in 15 dargestellt.
Die vierte Steuerung U4 wird dazu verwendet, in einem ersten Modus den Stromverteiler 402 dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät 200 auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler 402 auszugeben, so dass das Plasmagerät 200 einen ersten Plasmaprozess durchführt; in einem zweiten Modus den Stromverteiler 402 dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler 402 auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen; sowie in einem dritten Modus den Stromverteiler 402 dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät 200 auszugeben, den Stromverteiler 402 dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 auszugeben, sowie die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler 402 auszugeben, so dass das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 einen dritten Plasmaprozess durchführen.
In diesem Ausführungsbeispiel kann die vierte Steuerung U4 nicht nur wie die dritte Steuerung U3 die Stromverteilung des Stromkreisumschalters 402 steuern, sondern auch gleichzeitig steuern, ob die Stromversorgungsvorrichtung 100 die Arbeitselektrizität ausgibt. Dadurch kann, wenn eine Anomalie in der Stromversorgungsvorrichtung 100 auftritt, die Stromversorgungsvorrichtung 100 von der Ausgabe der Arbeitselektrizität in einer rechtzeitigen Weise gestoppt werden, um zu verhindern, dass ein stromverbrauchendes Gerät, wie das Plasmagerät 200, aufgrund der Anomalie der Arbeitselektrizität beschädigt wird, was zur Verbesserung der Stabilität des Betriebs des stromverbrauchenden Geräts, wie Plasmagerät 200, d.h. zur Verbesserung der Stabilität des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 beiträgt.
Dabei kann die vierte Steuerung U4 ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In einem Ausführungsbeispiel wird Bezug auf 16 genommen, und 16 zeigt eine Struktur, wobei die Stromumschaltungsvorrichtung 400 einen Stromverteiler 402 umfasst und das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 umfasst.
Die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 ist mit dem Plasmagerät 200 verbunden und kann in verschiedenen Anwendungsszenarien unterschiedliche Verbindungsmethoden aufweisen, die Verbindungsmethoden wie Gasleitungsverbindung, Gerätegelenk und Schaltungsverbindung umfassen. Die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 ist mit dem Stromverteiler 402 elektrisch verbunden.
Der Stromverteiler 402 wird weiterhin dazu verwendet, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren:

Funktion 1: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät 200, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen;
Funktion 2: Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen;
Funktion 3: Verteilen eines dritten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500, um eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät 200 durchzuführen.

Insbesondere kann der Stromverteiler 402 dazu verwendet werden, eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen, oder eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität und eine zweite Arbeitselektrizität jeweils für das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen, oder eine erste Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität gleichzeitig für das Plasmagerät 200 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, oder eine zweite Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität gleichzeitig für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen, oder eine erste Arbeitselektrizität, eine zweite Arbeitselektrizität und eine dritte Arbeitselektrizität gleichzeitig für das Plasmagerät 200, die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 und die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen.
Es sollte darauf hingewiesen werden, dass in diesem Ausführungsbeispiel der Stromverteiler 402 auch durch die Steuerung gesteuert werden kann, um einen automatischen Steuerungsprozess des Stromverteilers 402 zu realisieren.
Gleichzeitig kann für den spezifischen Aufbau und den tatsächlichen Anwendungsprozess des Plasmageräts 200, der ersten geteilten Plasmavorrichtung 200 und der zweiten geteilten Plasmavorrichtung 500 in den Ausführungsbeispielen gemäß 13 bis 16 Bezug auf die Erläuterung gemäß 4 bis 12 genommen werden, was hier nicht näher erläutert wird.
Beispielsweise kann unter Bezugnahme auf den Aufbau und das Verbindungsverfahren des Plasmageräts 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gemäß 4 und durch Kombination des Aufbaus des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 13 der Aufbau des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 17 erhalten werden.
Als anderes Beispiel kann unter Bezugnahme auf den Aufbau und das Verbindungsverfahren des Plasmageräts 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gemäß 7 und durch Kombination des Aufbaus des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 13 der Aufbau des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 18 erhalten werden.
Als weiteres Beispiel kann unter Bezugnahme auf den Aufbau und das Verbindungsverfahren des Plasmageräts 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gemäß 9 und durch Kombination des Aufbaus des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 13 der Aufbau des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 19 erhalten werden.
Als weiteres Beispiel kann unter Bezugnahme auf den Aufbau und das Verbindungsverfahren des Plasmageräts 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gemäß 10 und durch Kombination des Aufbaus des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 13 der Aufbau des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 20 erhalten werden.
Als weiteres Beispiel kann unter Bezugnahme auf den Aufbau und das Verbindungsverfahren des Plasmageräts 200 und der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 gemäß 12 und durch Kombination des Aufbaus des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 16 der Aufbau des zusammengesetzten Plasmaquellensystems 10 gemäß 21 erhalten werden.
Es sollte darauf hingewiesen werden, dass in dem Ausführungsbeispiel unter Verwendung des Stromverteilers 402 ebenfalls irgendein Plasmaprozess in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Anmeldung durchgeführt werden kann. Ferner kann der Stromverteiler 402 gemäß der Verbindung zwischen der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 und dem Plasmagerät 200gleichzeitig mindestens eine von den oben geschilderten drei Funktionen realisieren: Funktion 1: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät 200, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät 200 bereitzustellen; Funktion 2: Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung 300, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 bereitzustellen; Funktion 3: Verteilen eines dritten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500, um eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500 bereitzustellen.
In einigen Ausführungsformen umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität in irgendeinem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung die gleichen, unterschiedliche oder teilweise gleichen elektrischen Parameter.
Nämlich umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität genau die gleichen elektrischen Parameter, oder die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität umfassen völlig unterschiedliche elektrische Parameter, oder die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität umfassen teilweise unterschiedliche elektrische Parameter.
In einem Ausführungsbeispiel umfassen die elektrischen Parameter der ersten Arbeitselektrizität mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung; die elektrischen Parameter der zweiten Arbeitselektrizität umfassen mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung.
Beispielsweise umfassen die elektrischen Parameter der ersten Arbeitselektrizität und der zweiten Arbeitselektrizität jeweils Spannung und Strom, dementsprechend umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität genau die gleichen elektrischen Parameter; die elektrischen Parameter der ersten Arbeitselektrizität umfassen Spannung, die elektrischen Parameter der zweiten Arbeitselektrizität umfassen Strom, dementsprechend umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität völlig unterschiedliche elektrische Parameter; die elektrischen Parameter der ersten Arbeitselektrizität umfassen Spannung und Frequenz, die elektrischen Parameter der zweiten Arbeitselektrizität umfassen Strom und Frequenz, dementsprechend umfassen die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität teilweise gleiche elektrische Parameter.
In einem Ausführungsbeispiel kann eine automatische Steuerung der Parameter der von der Stromversorgungsvorrichtung 100 ausgegebenen Elektrizität ebenfalls durch Hinzufügen einer Steuerung realisiert werden.
Unter Bezugnahme auf 1 und 22, umfasst das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin eine fünfte Steuerung U5, die mit dem Stromversorgungsvorrichtung 100 elektrisch verbunden ist, wie in 22 dargestellt.
Die fünfte Steuerung U5 wird dazu verwendet, die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu zu steuern, gemäß den elektrischen Parametern den Strom auszugeben, um mindestens eine von der ersten Arbeitselektrizität und der zweiten Arbeitselektrizität bereitzustellen.
Die fünfte Steuerung U5 kann ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
Es versteht sich, dass in diesem Ausführungsbeispiel, in dem das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 beispielhaft das Plasmagerät 200 und die erste geteilte Plasmavorrichtung 300 umfasst, die Stromversorgungsvorrichtung 100 nur mindestens eine von der ersten Arbeitselektrizität und der zweiten Arbeitselektrizität bereitstellen. Wenn das zusammengesetzte Plasmaquellensystem 10 weiterhin ein anderes stromverbrauchendes Gerät umfasst, z.B. die zweite geteilte Plasmavorrichtung 500, kann die fünfte Steuerung U5 die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu steuern, mindestens eine von der ersten Arbeitselektrizität, der zweiten Arbeitselektrizität und der dritten Arbeitselektrizität auszugeben. Kurz gesagt kann die fünfte Steuerung U5 die Stromversorgungsvorrichtung 100 dazu steuern, je nach den verschiedenen stromverbrauchenden Geräten automatisch die entsprechende Elektrizität für das entsprechende stromverbrauchende Gerät bereitzustellen.
Unter Bezugnahme auf 23 zeigt 23 eine schematische Strukturansicht eines von einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Anmeldung bereitgestellten ferngesteuerten geteilten Plasmageräts 20.
Wie in 23 dargestellt, umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät 20 eine Stromversorgungsvorrichtung 1000 und eine geteilte Plasmavorrichtung 2000.
Dabei stellt die Stromversorgungsvorrichtung 1000 eine Arbeitselektrizität bereit. Hier ist die Stromversorgungsvorrichtung 1000 ähnlich wie der eigentliche Anwendungsprozess der Stromversorgungsvorrichtung 100 in den obigen Ausführungsbeispielen, die hier nicht wiederholt werden. Beispielsweise umfassen in einem Ausführungsbeispiel die einstellbaren elektrischen Parameter der Arbeitselektrizität mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung.
Die geteilte Plasmavorrichtung 2000 ist mit der Stromversorgungsvorrichtung 1000 elektrisch verbunden, wobei die geteilte Plasmavorrichtung 2000 ein Anpassungsnetzwerk 2001 und einen Hohlraum 2002 umfasst.
Das Anpassungsnetzwerk 2001 ist jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung 1000 und einer Last des Hohlraums 2002 verbunden, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung 1000 an die Impedanz der Last des Hohlraums 2002 anpasst, um das Problem der Impedanzfehlanpassung bei der Stromübertragung zu lösen, wodurch eine bessere Stromübertragungsleistung erhalten wird.
Der Hohlraum 2002 kann ein Vakuumhohlraum sein, um eine Vakuumumgebung dafür zu schaffen, dass die geteilte Plasmavorrichtung 2000 verschiedene Plasmaprozesse implementiert. Beispielsweise wird das Gas von dem Rohr in den Hohlraum 2002 eingegossen, und in dem Hohlraum 2002 werden verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. durchgeführt.
In diesem Ausführungsbeispiel sind die Stromversorgungsvorrichtung 100 und die geteilte Plasmavorrichtung 2000 zwei unabhängige Vorrichtungen, einerseits ist es, da in der geteilten Plasmaeinrichtung 2000 keine Stromversorgung angeordnet ist, förderlich dafür, die Innenraumgestaltung der geteilten Plasmavorrichtung 2000 zu vereinfachen; Andererseits kann, wenn eine geteilte Plasmavorrichtung 2000 hinzugefügt werden muss, um die Anwendung auf verschiedene Anwendungsszenarien zu ermöglichen, die Stromversorgungsvorrichtung 1000 wieder verwendet wird, nämlich wird die Anzahl der Stromversorgungsvorrichtung 1000 auf 1 gehalten, und es kann durch Hinzufügen einer geteilten Plasmavorrichtung 2000 an verschiedene Anwendungsszenarien angepasst werden. Auf die Weise wird der Prozess zum Erweitern der geteilten Plasmavorrichtung 2000 vereinfacht, was leicht zu realisieren ist und eine bessere Praktikabilität aufweist.
In einem Ausführungsbeispiel, wie in 24 dargestellt, umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät 20 weiterhin eine Steuerung 3000, die mit der Stromversorgungsvorrichtung 1000 verbunden ist, wobei die Steuerung 3000 dazu verwendet wird, die Stromversorgungsvorrichtung 1000 dazu zu steuern, die Elektrizität entsprechend den elektrischen Parametern auszugeben.
Die Steuerung 3000 kann ein Universalprozessor, ein digitaler Signalprozessor (DSP), ein anwendungsspezifischer integrierter Schaltkreis (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA), ein Mikrocontroller, ein ARM (Acorn RISC Machine) oder ein anderes programmierbares Logikgerät, diskrete Gatter oder Transistorlogik, diskrete Hardwarekomponenten oder eine beliebige Kombination davon sein.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät 20 weiterhin ein erstes Einlassrohr 2003 und ein erstes Auspuffrohr 2004, die mit dem Hohlraum 2002 verbunden sind, wie in 25 dargestellt.
Dabei wird das erste Einlassrohr 2003 zum Einführen von Rohgas A10 verwendet, wobei das erste Auspuffrohr 2004 dazu verwendet wird, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung, das so erhalten wird, dass das Rohgas A10 einem Plasmavorgang unterzogen ist, ans Plasmagerät (nicht dargestellt) auszugeben, um verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Abgasbehandlung usw. an dem Plasmagerät durchzuführen.
In einem Ausführungsbeispiel umfasst das ferngesteuerte geteilte Plasmagerät 20 weiterhin ein zweites Einlassrohr 2005, ein drittes Einlassrohr 2006 und ein zweites Auspuffrohr 2007, die mit dem Hohlraum 2002 verbunden sind, wie in 26 dargestellt.
Dabei wird das zweite Einlassrohr 2005 zum Einführen eines von dem Plasmagerät (nicht dargestellt) ausgegebenen Endgases A12 verwendet, wobei das dritte Einlassrohr 2006 zum Einführen eines Rohgases A11 verwendet wird, das einen Plasmavorgang an dem Endgas A12 durchführt, und wobei das zweite Auspuffrohr 2007 dazu verwendet wird, ein der Behandlung des Plasmavorgangs unterzogenes Endgas A12 abzuführen.
Dabei umfasst der Plasmavorgang in den Ausführungsbeispielen gemäß 25 und 25 verschiedene Plasmaprozesse wie Ätzen, Abscheidung, Injektion, Endgasbehandlung usw. Für das Plasmagerät kann Bezug auf die obige Erläuterung des Plasmageräts 200 in dem obigen Ausführungsbeispiel genommen werden, was hier nicht wiederholt wird.
Es sollte darauf hingewiesen werden, dass für die Struktur der geteilten Plasmavorrichtung 2000 weiterhin Bezug auf die detaillierte Erläuterung der ersten geteilten Plasmavorrichtung 300 in dem obigen Ausführungsbeispiel genommen werden kann, was hier der Kürze halber nicht wiederholt wird.
Am Ende sollte es darauf hingewiesen werden: dass die vorstehenden Ausführungsbeispiele nur zur Erläuterung der technischen Lösung der vorliegenden Anmeldung dienen, statt sie zu beschränken; es können auch Kombinationen zwischen den obigen Ausführungsbeispielen oder technischen Merkmalen in verschiedenen Ausführungsbeispielen im Rahmen der vorliegenden Anmeldung vorgenommen werden, die Schritte können in beliebiger Reihenfolge realisiert werden, und es gibt viele andere Variationen der verschiedenen Aspekte der vorliegenden Anmeldung, wie sie oben beschrieben sind, die der Kürze halber nicht im Einzelnen aufgeführt werden; obwohl im Zusammenhang mit den vorstehenden Ausführungsbeispielen die vorliegende Anmeldung näher erläutert wird, sollte der Durchschnittsfachmann auf diesem Gebiet verstehen, dass er die in den vorstehenden Ausführungsbeispielen aufgeführten technischen Lösungen ändern oder die technischen Merkmale teilweise oder völlig äquivalent ersetzen kann. Mit diesen Änderungen oder Ersetzungen sollten die entsprechenden technischen Lösungen immer noch als vom Gedanken und Umfang der technischen Lösungen der jeweiligen Ausführungsbeispiele der vorliegenden Anmeldung gedeckt angesehen werden.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

CN 202210688694 [0001]

Claims

Zusammengesetztes Plasmaquellensystem, dadurch gekennzeichnet, dass es Folgendes umfasst: eine Stromversorgungsvorrichtung, die dazu verwendet wird, eine Arbeitselektrizität bereitzustellen; ein Plasmagerät; eine erste geteilte Plasmavorrichtung, die mit dem Plasmagerät verbunden ist; eine Stromverteilungsvorrichtung, die jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung, dem Plasmagerät und der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch verbunden ist, wobei die Stromverteilungsvorrichtung dazu verwendet wird, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Bereitstellen einer ersten Arbeitselektrizität für das Plasmagerät basierend auf der Arbeitselektrizität, damit das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; und Bereitstellen einer zweiten Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung basierend auf der Arbeitselektrizität, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung ein erstes ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Stromverteilungsvorrichtung einen Stromkreisumschalter umfasst; wobei der Stromkreisumschalter dazu verwendet wird, die Stromversorgungsvorrichtung mit dem Plasmagerät elektrisch zu verbinden, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen, oder die Stromversorgungsvorrichtung mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch zu verbinden, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Stromkreisumschalter einen Eingangsknoten, einen ersten Ausgangsknoten und einen zweiten Ausgangsknoten umfasst, wobei der Stromkreisumschalter verwendet wird, um den Eingangsknoten zu veranlassen, eine Leitung mit dem ersten Ausgangsknoten zu bilden, oder den Eingangsknoten zu veranlassen, eine Leitung mit dem zweiten Ausgangsknoten zu bilden; das Plasmagerät ein erstes Anpassungsnetzwerk und einen ersten Hohlraum umfasst, wobei das erste Anpassungsnetzwerk zwischen einer Last des ersten Hohlraums und dem ersten Ausgangsknoten verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz der Last des ersten Hohlraums anpasst; die erste geteilte Plasmavorrichtung einen zweiten Hohlraum und ein zweites Anpassungsnetzwerk umfasst, wobei der zweite Hohlraum mit dem ersten Hohlraum verbunden ist, und wobei das zweite Anpassungsnetzwerk zwischen einer Last des zweiten Hohlraums und dem zweiten Ausgangsknoten verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz der Last des zweiten Hohlraums anpasst.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine erste Steuerung umfasst, die mit dem Stromkreisumschalter elektrisch verbunden ist; wobei die erste Steuerung dazu verwendet wird, die Leitungsumschaltung des Stromkreisumschalters zu steuern, um eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung und dem Plasmagerät oder eine elektrische Verbindung zwischen der Stromversorgungsvorrichtung und der ersten geteilten Plasmavorrichtung herzustellen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine zweite Steuerung umfasst, die jeweils mit dem Stromkreisumschalter und der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist; wobei die zweite Steuerung dazu verwendet wird, in einem ersten Modus den Stromkreisumschalter dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung und das Plasmagerät zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine erste Arbeitselektrizität ans Plasmagerät auszugeben, so dass das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; sowie in einem zweiten Modus den Stromkreisumschalter dazu zu steuern, die Stromversorgungsvorrichtung und die erste geteilte Plasmavorrichtung zu verbinden, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine zweite Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung umfasst, die mit dem Plasmagerät verbunden und mit dem Stromkreisumschalter elektrisch verbunden ist; wobei der Stromkreisumschalter weiterhin dazu verwendet wird, eine oder zwei von den folgenden drei Funktionen zu realisieren: elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit dem Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen und einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen; sowie elektrisches Verbinden der Stromversorgungsvorrichtung mit der zweiten geteilten Plasmavorrichtung, um basierend auf der Arbeitselektrizität eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Stromverteilungsvorrichtung einen Stromverteiler umfasst, der dazu verwendet wird, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; und Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine dritte Steuerung umfasst, die mit dem Stromverteiler elektrisch verbunden ist; wobei die dritte Steuerung dazu verwendet wird, die Stromverteilung des Stromverteilers zu steuern, um mindestens eine von den Funktionen zu realisieren, einen ersten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität ans Plasmagerät zu verteilen und einen zweiten Elektrizitätsanteil der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung zu verteilen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine vierte Steuerung umfasst, die jeweils mit dem Stromverteiler und der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist; wobei die vierte Steuerung dazu verwendet wird, in einem ersten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, so dass das Plasmagerät einen ersten Plasmaprozess durchführt; in einem zweiten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, und die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, um einen zweiten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen; sowie in einem dritten Modus den Stromverteiler dazu zu steuern, einen ersten Elektrizitätsanteil ans Plasmagerät auszugeben, den Stromverteiler dazu zu steuern, einen zweiten Elektrizitätsanteil an die erste geteilte Plasmavorrichtung auszugeben, sowie die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, eine Arbeitselektrizität an den Stromverteiler auszugeben, so dass das Plasmagerät und die erste geteilte Plasmavorrichtung einen dritten Plasmaprozess durchführen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine zweite geteilte Plasmavorrichtung umfasst, die mit dem Plasmagerät verbunden und mit dem Stromverteiler elektrisch verbunden ist; wobei der Stromverteiler weiterhin dazu verwendet wird, mindestens eine von den folgenden zwei Funktionen zu realisieren: Verteilen eines ersten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an das Plasmagerät, um eine erste Arbeitselektrizität für das Plasmagerät bereitzustellen; und Verteilen eines zweiten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die erste geteilte Plasmavorrichtung, um eine zweite Arbeitselektrizität für die erste geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen; sowie Verteilen eines dritten Elektrizitätsanteils der Arbeitselektrizität an die zweite geteilte Plasmavorrichtung, um eine dritte Arbeitselektrizität für die zweite geteilte Plasmavorrichtung bereitzustellen, wobei die Stromversorgungsvorrichtung und die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein zweites ferngesteuertes geteiltes Plasmasystem bilden, um einen dritten Plasmaprozess an dem Plasmagerät durchzuführen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Arbeitselektrizität und die zweite Arbeitselektrizität die gleichen, unterschiedliche oder teilweise gleichen elektrischen Parameter umfassen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die elektrischen Parameter mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung umfassen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine fünfte Steuerung umfasst, die mit der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist; wobei die fünfte Steuerung dazu verwendet wird, die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, gemäß den elektrischen Parametern den Strom auszugeben, um mindestens eine von der ersten Arbeitselektrizität und der zweiten Arbeitselektrizität bereitzustellen.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasmagerät eine Lufteinlasskomponente umfasst, die Folgendes umfasst: ein erstes Rohr, das zum Einführen des Prozessgases verwendet wird; ein zweites Rohr, das mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist und dazu verwendet wird, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen; ein drittes Rohr, das mit dem ersten Hohlraum in dem Plasmagerät verbunden ist; einen Rohrumschalter, der an einer Kopplung zwischen dem ersten Rohr, dem weiten Rohr und dem dritten Rohr angeordnet ist und zum Leiten des ersten Rohrs und des dritten Rohrs oder zum Leiten des zweiten Rohrs und des dritten Rohrs verwendet wird.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine sechste Steuerung umfasst, die mit dem Rohrumschalter elektrisch verbunden ist; wobei die sechste Steuerung dazu verwendet wird, in einem ersten Modus den Rohrumschalter dazu zu steuern, das erste Rohr und das dritte Rohr zu leiten; sowie in einem zweiten Modus den Rohrumschalter dazu zu steuern, das zweite Rohr und das dritte Rohr zu leiten.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasmagerät ein Auspuffteil umfasst, das eine Gasanziehungskomponente und ein erstes Auspuffrohr umfasst, wobei die Gasanziehungskomponente zum Einführen des von dem Plasmagerät abgeführten Gases verwendet wird; und wobei das erste Auspuffrohr jeweils mit der Gasanziehungskomponente und einem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist, und wobei das Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung mit dem zweiten Hohlraum der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 6 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite geteilte Plasmavorrichtung ein drittes Anpassungsnetzwerk und einen dritten Hohlraum umfasst; wobei das Plasmagerät ein erstes Einlassrohr und ein zweites Auspuffrohr umfasst; und wobei das erste Einlassrohr mit dem Einlassrohr der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist und verwendet wird, so dass das Plasmagerät ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einführt; und wobei das zweite Auspuffrohr mit dem dritten Hohlraum verbunden ist und verwendet wird, so dass das Plasmagerät das Endgas des Plasmageräts an die zweite geteilte Plasmavorrichtung abführt.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Plasmagerät ein zweites Einlassrohr und ein drittes Auspuffrohr umfasst, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden sind; wobei das zweite Einlassrohr dazu verwendet wird, ein von der ersten geteilten Plasmavorrichtung bereitgestelltes Gas zur Behandlung oder Reinigung einzuführen; und wobei das dritte Auspuffrohr mit dem zweiten Hohlraum der ersten geteilten Plasmavorrichtung verbunden ist, und wobei das dritte Auspuffrohr dazu verwendet wird, das Endgas des Plasmageräts an die erste geteilte Plasmavorrichtung abzuführen, so dass die erste geteilte Plasmavorrichtung eine Endgasbehandlung durchführt.
Zusammengesetztes Plasmaquellensystem nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine siebte Steuerung umfasst, die mit der ersten geteilten Plasmavorrichtung elektrisch verbunden ist; wobei die siebte Steuerung dazu verwendet wird, die erste geteilte Plasmavorrichtung dazu zu steuern, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung bereitzustellen, oder die erste geteilte Plasmavorrichtung dazu zu steuern, eine Endgasbehandlung durchzuführen.
Ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät, dadurch gekennzeichnet, dass es Folgendes umfasst: eine Stromversorgungsvorrichtung, die eine Arbeitselektrizität bereitstellt; eine geteilte Plasmavorrichtung, die mit der Stromversorgungsvorrichtung elektrisch verbunden ist, wobei die geteilte Plasmavorrichtung ein Anpassungsnetzwerk und einen Hohlraum umfasst, und wobei das Anpassungsnetzwerk jeweils mit der Stromversorgungsvorrichtung und einer Last des Hohlraums verbunden ist, so dass sich die Stromversorgungsvorrichtung an die Impedanz einer Last des Hohlraums anpasst.
Ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass die einstellbaren elektrischen Parameter der Arbeitselektrizität mindestens eines von Spannung, Strom, Phase, Frequenz und Leistung umfassen.
Ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin eine Steuerung umfasst, die mit der Stromversorgungsvorrichtung verbunden ist und dazu verwendet wird, die Stromversorgungsvorrichtung dazu zu steuern, die Elektrizität entsprechend den elektrischen Parametern auszugeben.
Ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin ein erstes Einlassrohr und ein erstes Auspuffrohr umfasst, die mit dem Hohlraum verbunden sind, wobei das erste Einlassrohr zum Einführen von Rohgas verwendet wird, und wobei das erste Auspuffrohr dazu verwendet wird, ein Gas zur Behandlung oder Reinigung, das so erhalten wird, dass das Rohgas einem Plasmavorgang unterzogen ist, ans Plasmagerät auszugeben.
Ferngesteuertes geteiltes Plasmagerät nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass es weiterhin ein zweites Einlassrohr, ein drittes Einlassrohr ein zweites Auspuffrohr umfasst, die mit dem Hohlraum verbunden sind, wobei das zweite Einlassrohr zum Einführen eines von dem Plasmagerät ausgegebenen Endgases verwendet wird, und wobei das dritte Einlassrohr zum Einführen eines Rohgases verwendet wird, das einen Plasmavorgang an dem Endgas durchführt, und wobei das zweite Auspuffrohr dazu verwendet wird, ein der Behandlung des Plasmavorgangs unterzogenes Endgas abzuführen.