DE112021002915T5 - Anzeigesubstrat und Anzeigevorrichtung - Google Patents

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Cong Fan
Kemeng TONG
Fan He
Xiangdan Dong
Yu Wang
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Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

Es werden ein Anzeigesubstrat (1) und eine Anzeigevorrichtung (2) bereitgestellt. Das Anzeigesubstrat (1) umfasst ein Basissubstrat (100), eine Vielzahl von Signalleitungen (CL), eine erste Stromleitung (VSS), mindestens eine erste Detektionssignalleitung (BPL) und mindestens eine zweite Detektionssignalleitung (FML). Auf einer Seite nahe einem Biegebereich (30) und außerhalb eines Bereichs, wo eine orthografische Projektion der ersten Stromleitung (VSS) auf einer Substratoberfläche (S) des Basissubstrats (100) ist, orthografische Projektionen der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung (BPL) und der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung (FML) auf der Substratoberfläche (S) des Basissubstrats (100) haben keine Überlappung mit orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen (CL) auf der Substratoberfläche (S) des Basissubstrats (100). Das Anzeigesubstrat (1) kann die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung (FML) verbessern und die Produktausbeute verbessern.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung beziehen sich auf ein Anzeigesubstrat und eine Anzeigevorrichtung.
  • Hintergrund
  • In der Displayindustrie, mit der schnellen Entwicklung und Anwendung der flexiblen OLED-Displaytechnologie (Organic Light-Emitting Diode, Organische lichtemittierende Diode) und der AMOLED-Displaytechnologie (Organische lichtemittierende Diode mit aktiver Matrix), wie die Herstellungskosten bestehender flexibler Produkte gesenkt und die Ausbeute flexibler Produkte verbessert werden können, ist zu einem der zu lösenden Schlüsselprobleme für die bestehenden flexiblen Produkte geworden. Um die Herstellungskosten bestehender flexibler Anzeigebildschirme zu senken und die Produktausbeute und Produktionsqualitätskontrolle besser zu verbessern, können in ein Anzeigepanel PCD-Detektionssignale (Crack Detection, Risserkennung) eingeführt werden, die effektiv einen Schaltungsriss (Crack) und andere defekte Probleme erkennen können, die auf einer Rückwandplatinenschaltung der Anzeigepanel aufgetreten sind.
  • Inhalt der Erfindung
  • Mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt ein Anzeigesubstrat bereit, das ein Basissubstrat, eine Vielzahl von Signalleitungen, eine erste Stromleitung, mindestens eine erste Detektionssignalleitung und mindestens eine zweite Detektionssignalleitung umfasst. Das Anzeigesubstrat umfasst ein Basissubstrat, das einen Anzeigebereich und einen den Anzeigebereich umgebenden Peripheriebereich, wobei der Anzeigebereich ein Pixelarray umfasst, das eine Vielzahl von Subpixeln umfasst, und wobei der Peripheriebereich einen Biegebereich, der sich auf einer ersten Seite des Anzeigebereichs befindet und ein Schieberegister umfasst, das sich auf mindestens einer von einer zweiten Seite oder einer dritten Seite des Anzeigebereichs befindet, wobei die erste Seite benachbart zu der zweiten Seite und der dritten Seite ist. Ein Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen ist aus dem Biegebereich herausgeführt und das andere Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen ist mit dem Schieberegister verbunden. die erste Stromleitung ist aus dem Biegebereich herausgeführt und ist um den Anzeigebereich geführt. Die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ist auf mindestens einer von der Seite, wo sich das Schieberegister befindet, und der vierten Seite angeordnet, wobei ein erstes Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung aus dem Biegebereich herausgeführt ist. wobei auf einer Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb eines Bereichs, in dem sich eine orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf einer Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, eine orthographische Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat, und eine orthographische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der ersten Seite des Anzeigebereichs, in dem Bereich, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, überlappt die orthographische Projektion der zumindest eine zweite Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, überlapp ein Bereich, in dem die orthographische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstratst, ist vollständig von dem Bereich bedeckt, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der ersten Seite des Anzeigebereichs, ist ein zweites Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung mit einem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung in Reihe verbunden.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der ersten Seite des Anzeigebereichs und in einer Richtung senkrecht zur Substratoberfläche des Basissubstrats, sich befindet eine Filmschicht, in der sich zumindest ein Teil der ersten Stromleitung befindet, zwischen einer Filmschicht, in der sich die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung befindet, und einer Filmschicht, in der sich die Vielzahl von Signalleitungen befinden.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, sind die Vielzahl von Signalleitungen parallel geführt, sind zumindest ein Teil der Leitungssegmente der zumindest einen ersten Detektionssignalleitung und zumindest ein Teil der Leitungssegmente der zumindest einen zweiten Detektionssignalleitung parallel zu der Vielzahl von Signalleitungen geführt, und sich befindet die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung auf einer von der Vielzahl von Signalleitungen entfernten Seite der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der ersten Seite des Anzeigebereichs, umfasst die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung eine Vielzahl von ersten Leitungssegmenten, die jeweils mit dem ersten Ende und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung, und sich die Vielzahl von ersten Leitungssegmenten erstrecken entlang einer ersten Richtung, in dem Bereich, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, überlappen orthographische Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, aufweist ein Bereich, in dem die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen, eine Länge im Bereich von 220 Mikrometer bis 260 Mikrometer in der ersten Richtung.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, überlappen die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats auch mit der orthografischen Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignallinie auf der Substratoberfläche des Basissubstrats.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, umfasst die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten, wobei eines der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten mit dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch eines der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten verbunden ist, ein anderes der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten mit dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch ein anderes der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten verbunden ist, und die Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten sich zwischen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten und dem Biegebereich befinden, und die zweiten Leitungssegmenten entlang einer Richtung geführt werden, die sich mit der ersten Richtung schneidet, die mindestens eine erste Detektionssignalleitung eine Vielzahl von dritten Leitungssegmenten umfasst, die jeweils mit dem ersten Ende und dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung verbunden sind, orthografische Projektionen der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche das Basissubstrat mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen, und die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten parallel zu den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten geführt und angeordnet sind, die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten sich auf einer in der Nähe des Anzeigebereichs liegenden Seite der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten befinden, und sich zwischen der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von Signalleitungen befinden.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, in einer Führungsrichtung senkrecht zu der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten, sind die Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten parallel zu Leitungssegmenten der Vielzahl von Signalleitungen geführt, die den zweiten Leitungssegmenten und den dritten Leitungssegmenten entsprechen.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, ist das zweite Leitungssegment, das mit dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, benachbart zu dem dritten Leitungssegment, das mit dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung verbunden ist, und in der Führungsrichtung senkrecht zu der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten, liegt eine Intervallbreite zwischen dem zweiten Leitungssegment und dem dritten Leitungssegment, die benachbart sind, in einem Wertebereich von 2 Mikrometer bis 3 Mikrometer.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf einer in der Nähe des Anzeigebereichs liegenden Seite des Biegebereichs, sich eine Position, an der das zweite Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und das zweite Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung in Reihe verbunden sind, befindet zwischen dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung und dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung, sich das erste Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung befindet auf einer von der Vielzahl von Signalleitungen entfernten Seite des ersten Endes der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, umfasst die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von zueinander parallelen ersten unterbrochenen Leitungssegmenten, wobei eines der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten mit einem der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, ein anderes der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten mit einem anderen der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, eine Leitungsbreite der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten größer als die der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten ist.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, sind zumindest ein Teil der Leitungssegmenten der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten in einer zweiten Richtung geführt, die sich von der ersten Richtung unterscheidet.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, umfasst die mindestens eine erste Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von vierten Leitungssegmenten und sind die Vielzahl von vierten Leitungssegmenten entlang der ersten Richtung geführt, eines der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten ist mit dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung durch eines der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten verbunden, ein anderes der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten ist mit dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung durch ein anderes der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten verbunden, orthografische Projektionen der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen jeweils mit einer orthografischen Projektion von mindestens einem der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, umfasst das Subpixel eine Pixelstruktur, die eine Pixeltreiberschaltung, eine erste Planarisierungsschicht und ein lichtemittierendes Element umfasst, wobei die Pixeltreiberschaltung eine erste Anzeigebereich-Metallschicht, eine zweite Anzeigebereich-Metallschicht, eine dritte Anzeigebereich-Metallschicht, eine erste Isolierschicht, eine zweite Isolierschicht, eine Zwischenschicht-Isolierschicht, die erste Planarisierungsschicht und eine Pixeldefinitionsschicht umfasst, wobei sich die erste Planarisierungsschicht auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Pixeltreiberschaltung befindet, um eine erste Planarisierungsoberfläche bereitzustellen, und die erste Planarisierungsschicht ein erstes Durchgangsloch umfasst, das lichtemittierende Element eine erste Elektrode, eine zweite Elektrode und eine lichtemittierende Schicht umfasst, die sich zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode befindet, wobei sich die erste Elektrode auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Planarisierungsschicht befindet, die erste Elektrode durch das erste Durchgangsloch elektrisch mit der dritten Anzeigebereich-Metallschicht der Pixeltreiberschaltung verbunden ist, die Pixeldefinitionsschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Elektrode befindet, und die Pixeldefinitionsschicht einen lichtemittierenden Bereich des lichtemittierenden Elements definiert, die erste Isolierschicht sich auf dem Basissubstrat befindet, die erste Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Isolierschicht befindet, die zweite Isolierschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Anzeigebereich-Metallschicht befindet, die zweite Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der zweiten Isolierschicht befindet, die Zwischenschicht-Isolierschicht sich zwischen der ersten Planarisierungsschicht und der zweiten Isolierschicht befindet, und die dritte Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Zwischenschicht-Isolierschicht befindet, das Anzeigesubstrat ferner eine Verkapselungsschicht und eine Berührungsmetallschicht umfasst, wobei sich die Verkapselungsschicht auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite des lichtemittierenden Elements befindet, und die Berührungsmetallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Verkapselungsschicht befindet, wobei die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung mindestens in der gleichen Schicht wie die Berührungsmetallschicht angeordnet ist, die zumindest eine erste Detektionssignalleitung zumindest in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht angeordnet ist, und die erste Stromleitung zumindest in der gleichen Schicht wie die dritte Anzeigebereich-Metallschicht angeordnet ist.
  • Zum Beispiel umfasst das Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, ferner ein zweites Durchgangsloch, eine erste periphere Isolierschicht und eine zweite periphere Isolierschicht, wobei die mindestens eine erste Detektionssignalleitung sich auf einer in der Nähe des Basissubstrats liegenden Seite der ersten peripheren Isolierschicht befindet, die zweite periphere Isolierschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten peripheren Isolierschicht befindet, und die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der zweiten peripheren Isolierschicht befindet, die erste periphere Isolierschicht in der gleichen Schicht wie die Zwischenschicht-Isolierschicht angeordnet ist, die zweite periphere Isolierschicht in der gleichen Schicht wie die erste Planarisierungsschicht angeordnet ist, das zweite Durchgangsloch durch mindestens die erste periphere Isolierschicht und die zweite periphere Isolierschicht hindurchdringt, und das zweite Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und das zweite Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch das zweite Durchgangsloch in Reihe verbunden sind, und in einer Richtung senkrecht zur Substratoberfläche des Basissubstrats, zumindest nicht zwischen dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung eine Isolierschicht vorgesehen ist, die in der gleichen Schicht wie die Pixeldefinitionsschicht angeordnet ist.
  • Zum Beispiel in dem Anzeigesubstrat, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, auf der sich das Schieberegister befindenden Seite des Anzeigesubstrats, sich die mindestens eine erste Detektionssignalleitung und die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung befinden auf einer von dem Anzeigebereich entfernten Seite des Schieberegisters.
  • Mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt eine Anzeigevorrichtung bereit, die das in einem der Obigen beschriebenen Anzeigesubstrats umfasst.
  • Figurenliste
  • Um die technische Lösung der Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung klar darzustellen, werden die Zeichnungen der Ausführungsformen kurz beschrieben. Es ist offensichtlich, dass sich die im Folgenden beschriebenen Zeichnungen nur auf einige Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung beziehen und somit die vorliegende Offenbarung nicht einschränken.
    • 1 ist ein schematisches Diagramm eines Anzeigesubstrats, das von mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird;
    • 2 ist ein schematisches Diagramm, das das Prinzip der Risserkennung eines Anzeigesubstrats zeigt, das durch mindestens eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird;
    • 3 ist ein schematisches Diagramm, das ein planares Layout eines Teils von Verdrahtungen in einem peripheren Bereich eines Anzeigesubstrats zeigt, das von mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird;
    • 4 ist eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs A1 in 3;
    • 5 ist eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs A2 in 3;
    • 6 ist eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs A3 in 3;
    • 7 ist eine schematische Querschnittsansicht eines Anzeigebereichs eines Anzeigesubstrats, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird;
    • 8 ist eine schematische Querschnittsansicht entlang der Linie B1-B2 in 6; und
    • 9 ist ein schematisches Diagramm einer Anzeigevorrichtung, die von mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird.
  • Konkrete Ausführungsformen
  • Um Ziele, technische Details und Vorteile der Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung deutlicher zu machen, werden die technischen Lösungen der Ausführungsformen auf eine klare und vollständig verständliche Weise in Verbindung mit den Zeichnungen beschrieben, die sich auf die Ausführungsformen beziehen die vorliegende Offenbarung. Anscheinend sind die beschriebenen Ausführungsformen nur ein Teil, aber nicht alle Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Basierend auf den hierin beschriebenen Ausführungsformen können Fachleute andere Ausführungsform(en) ohne jegliche erfinderische Arbeit erhalten, die innerhalb des Umfangs der vorliegenden Offenbarung liegen sollten.
  • Sofern nicht anders definiert, haben alle hierin verwendeten technischen und wissenschaftlichen Begriffe die gleichen Bedeutungen, wie sie allgemein von einem Durchschnittsfachmann auf dem Gebiet verstanden werden, zu dem die vorliegende Offenbarung gehört. Die Begriffe „erster“, „zweiter“ etc., die in der vorliegenden Offenbarung verwendet werden, sollen keine Reihenfolge, Menge oder Wichtigkeit angeben, sondern verschiedene Komponenten unterscheiden. Ebenso sollen die Begriffe „ein/eine“, „einer“, „der“ usw. keine Beschränkung der Menge, sondern das Vorhandensein von mindestens einer andeuten. Die Begriffe „umfassen“, „umfassen“, „umfassen“, „einschließlich“ usw. sollen spezifizieren, dass die vor diesen Begriffen genannten Elemente oder Gegenstände die nach diesen Begriffen aufgeführten Elemente oder Gegenstände und Äquivalente davon umfassen. Zur Vereinfachung der Beschreibung sind „oben“, „unten“, „vorne“ und „hinten“ in einem Teil der Zeichnungen angegeben. In den Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung ist eine aufrechte Richtung eine Oben-Unten-Richtung, eine vertikale Richtung ist eine Richtung der Schwerkraft, eine horizontale Richtung ist eine Richtung senkrecht zu der aufrechten Richtung und eine horizontale Richtung von rechts nach links ist eine Vorderseite -Rückwärtsrichtung.
  • Die bestehende FMLOC-Platte (Flexible Metal-Layer on Cell Touch, Flexibles Touch-Metallpanel) ist zu einem Produkt mit trendigem Design geworden. Verglichen mit einem Out-Cell-Touchpanel kann das FMLOC-Panel die Kosten durch eine höhere Integration sowie ein leichteres und dünneres Produkt erheblich senken. Um Risse zu erkennen, die im FMLOC-Panel-Produkt sowohl während des Prozesses einer TFT (thin film transistor, Dünnschichttransistor)-Schichtmetall (Display) als auch des Prozesses einer Touch-Metallschicht (Touch) aufgetreten sind, detektiert es normalerweise ein PCD-Signal für einen Riss, der in dem TFT-Schichtmetall aufgetreten ist, und ein PCD-Signal für einen Riss, der in der Berührungsmetallschicht aufgetreten ist. Beispielsweise können das PCD-Signal zum Erfassen des Risses, der in dem TFT-Schichtmetall aufgetreten ist, und das PCD-Signal zum Erfassen des Risses, der in der Berührungsmetallschicht aufgetreten ist, in Reihe geschaltet werden. Aufgrund der Begrenzung des Einfassungsraums des Anzeigepanels können jedoch im Allgemeinen die PCD-Verdrahtung am Einfassungsrand (insbesondere die PCD-Verdrahtung zum Erfassen der Berührungsmetallschicht, die sich an der Seite des Anzeigepanels befindet, wo der Verbindungsbereich angeordnet ist, und die sich mit den Signalleitungen kreuzt, beispielsweise an der Verbindung mit dem GOA (Schieberegister)) des Anzeigepanels und die Verdrahtung von Signalleitungen im Anzeigebereich des Anzeigepanels leicht zu Signalproblemen führen Interferenz zwischen den Signalleitungen im Anzeigebereich des Anzeigepanels und den PCD-Signalen der Berührungsmetallschicht; solche Signalinterferenzen werden zum Beispiel durch einen fehlenden DC-Signalabschirmungseffekt von einer Kathode verursacht und führen dazu, dass die PCD-Verdrahtung zum Erfassen der Berührungsmetallschicht eine schlechte antistatische Fähigkeit hat und eine elektrostatische Verletzung auftreten kann.
  • Beispielsweise können das PCD-Signal zum Erfassen des Risses im TFT-Schichtmetall und das PCD-Signal zum Erfassen der Berührungsmetallschicht auch andere Wege vor der Reihenschaltung annehmen.
  • Daher ist eines der dringend zu lösenden Schlüsselprobleme in der FMLOC-Technologie, wie das Problem der schlechten antistatischen Fähigkeit der PCD-Verdrahtung zum Erfassen der Berührungsmetallschicht zu lösen ist, die sich an der Seite des Anzeigefelds befindet, wo die Verbindung erfolgt Bereich angeordnet ist und der sich mit den Signalleitungen kreuzt (zum Beispiel an der Verbindung mit dem GOA (Schieberegister)) in FMLOC-Produkten, wobei dieses Problem die Interferenz zwischen den Signalen im Anzeigebereich und den PCD-Signalen der Berührungsmetallschicht verursacht. Das obige Problem kann auch die Produktausbeute beträchtlich reduzieren, was zu Problemen führt, dass das PCD nicht nachweisbar ist.
  • Mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt ein Anzeigesubstrat bereit, das ein Basissubstrat, eine Vielzahl von Signalleitungen, eine erste Stromleitung, mindestens eine erste Detektionssignalleitung und mindestens eine zweite Detektionssignalleitung umfasst. Das Basissubstrat umfasst einen Anzeigebereich und einen den Anzeigebereich umgebenden Peripheriebereich, wobei der Anzeigebereich ein Pixelarray umfasst, das eine Vielzahl von Subpixeln umfasst, und wobei der Peripheriebereich einen Biegebereich, der sich auf einer ersten Seite des Anzeigebereichs befindet und ein Schieberegister umfasst, das sich auf mindestens einer von einer zweiten Seite oder einer dritten Seite des Anzeigebereichs befindet, wobei die erste Seite benachbart zu der zweiten Seite und der dritten Seite ist. Ein Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen ist aus dem Biegebereich herausgeführt und das andere Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen ist mit dem Schieberegister verbunden. die erste Stromleitung ist aus dem Biegebereich herausgeführt und ist um den Anzeigebereich geführt. Die mindestens eine erste Detektionssignalleitung ist auf mindestens einer von einer Seite, wo sich das Schieberegister befindet, und einer vierten Seite gegenüber der ersten Seite des Anzeigebereichs angeordnet, wobei ein erstes Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung aus dem Biegebereich herausgeführt ist. Die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ist auf mindestens einer von der Seite, wo sich das Schieberegister befindet, und der vierten Seite angeordnet, wobei ein erstes Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung aus dem Biegebereich herausgeführt ist, wobei auf einer Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb eines Bereichs, in dem sich eine orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf einer Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, eine orthographische Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat, und eine orthographische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat.
  • Mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt auch eine Anzeigevorrichtung bereit, die das oben beschriebene Anzeigesubstrat umfasst.
  • Bei dem Anzeigesubstrat und der Anzeigevorrichtung, die durch die obigen Ausführungsformen bereitgestellt werden, kann das Anzeigesubstrat die antistatische Fähigkeit der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung, insbesondere an der Position zwischen dem Biegebereich und dem Anzeigebereich, verbessern und verbessern die Produktausbeute.
  • Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung und Beispiele davon werden unten im Detail unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.
  • 1 ist ein schematisches Diagramm eines Anzeigesubstrats, das von mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird. 2 ist ein schematisches Diagramm, das das Prinzip der Risserkennung eines Anzeigesubstrats zeigt, das durch mindestens eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird. 3 ist ein schematisches Diagramm, das ein planares Layout eines Teils von Verdrahtungen in einem peripheren Bereich eines Anzeigesubstrats zeigt, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird.
  • Beispielsweise umfasst das Anzeigesubstrat 1 in einigen Ausführungsformen, wie in 1 gezeigt, ein Basissubstrat 100. Das Basissubstrat 100 umfasst einen Anzeigebereich 10 und einen peripheren Bereich 20. Der periphere Bereich 20 umgibt den Anzeigebereich Der Randbereich 20 umfasst eine Testschaltung CT, die sich an einer ersten Seite S1 der Anzeigefläche 10 befindet, einen Biegebereich 30 und einen Verbindungsbereich 40. In einer ersten Richtung X ist die Testschaltung CT zwischen den Biegebereichen 30 angeordnet und der Verbindungsbereich 40, das heißt die Testschaltung CT, ist an einer Seite des Biegebereichs 30 entfernt von dem Anzeigebereich 10 angeordnet. Der Verbindungsbereich 40 umfasst eine Vielzahl von Kontaktpads (wie in 2 gezeigt) zum Verbinden Bei einem Signaleingangselement umfasst das Signaleingangselement beispielsweise eine Datentreiberschaltung (IC). Unter Bezugnahme auf 2 in Kombination mit 1 umfasst die Testschaltung CT eine Vielzahl von Testeinheiten CT1. Beispielsweise ist die Testeinheit CT1 ein Transistor vom N-Typ.
  • Beispielsweise kann in anderen Ausführungsformen basierend auf den Entwurfsanforderungen des Anzeigesubstrats 1 an der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10 der Biegebereich 30 auch so gestaltet sein, dass er sich an einer Seite der Testschaltung befindet CT weg vom Anzeigebereich 10.
  • Es sollte angemerkt werden, dass die Testeinheit CT1 auch ein P-Typ-Transistor sein kann und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung nicht darauf beschränkt ist.
  • Wie in 1 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner Schieberegister GOAs, die sich auf einer zweiten Seite S2 und einer dritten Seite S3 des Anzeigebereichs 10 befinden. Die erste Seite S1 ist benachbart zu der zweiten Seite S2 und benachbart zu die dritte Seite S3. In der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung sind die Schieberegister GOA auf beiden Seiten des Anzeigebereichs 20 vorgesehen, d. h. doppelseitige Ansteuerung. Gemäß den Schaltungskonfigurationsanforderungen des Anzeigesubstrats 1 kann auch ein einseitiges Ansteuern übernommen werden, und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. Beispielsweise umfasst der Anzeigebereich 10 ein Pixelarray P110, das eine Vielzahl von Unterpixel P111 umfasst. Die Vielzahl von Subpixel P111 sind in den Vielzahl von Zeilen und Spalten entlang der ersten Richtung X und der zweiten Richtung Y im Anzeigebereich 10 angeordnet. Das Anzeigesubstrat 1 umfasst ferner eine Vielzahl von Datenleitungen DL entlang der ersten Richtung X und eine Vielzahl von Gateleitungen GL entlang der zweiten Richtung Y Die Vielzahl von Datenleitungen DL befinden sich in dem Anzeigebereich 10 und sind mit den Vielzahl von elektrisch verbunden von Spalten von Subpixeln P111, d. h. jede der Vielzahl von Datenleitungen DL ist elektrisch mit einer Spalte der Vielzahl von Subpixeln P111 verbunden (zum Beispiel bezieht sich die Spaltenrichtung auf die erste Richtung X in 1) und die Vielzahl von Datenleitungen DL sind so konfiguriert, dass sie Datensignale an eine Vielzahl von Spalten von Subpixeln P111 liefern. Beispielsweise erstreckt sich ein Ende jeder der Vielzahl von Datenleitungen DL auch zu der Testschaltung CT, um ein Testdatensignal zu empfangen. Die Vielzahl von Gateleitungen GL verläuft durch den Anzeigebereich 10 in einer Querrichtung (z. B. in der zweiten Richtung Y in der Figur) und ist elektrisch mit den Schieberegistern GOA und der Vielzahl von Subpixeln P111 (in Zeilen entlang angeordnet) verbunden Querrichtung), um Gate-Abtastsignale und Lichtemissionssteuersignale für die Unterpixel P111 bereitzustellen. Beispielsweise kann das Schieberegister GOA eine Schieberegistereinheit umfassen, die ein Gate-Abtastsignal bereitstellt, und eine Lichtemissions-Steuereinheit, die ein Lichtemissions-Steuersignal bereitstellt, was hier nicht im Detail beschrieben wird.
  • Zum Beispiel, wie in den Fign. Wie in 2 und 3 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat eine Vielzahl von Signalleitungen CL. Ein Ende (an der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs gelegen) jeder der Vielzahl von Signalleitungen CL wird aus dem Biegebereich 30 herausgeführt (in der Figur nicht gezeigt), und das andere Ende (an der Seite gelegen, wo die Schieberegister GOA befindet) jeder der Vielzahl von Signalleitungen CL ist mit der Schieberegistereinheit GOA verbunden. Beispielsweise umfassen die Vielzahl von Signalleitungen CL eine erste Taktsignalleitung GCB, eine zweite Taktsignalleitung GCK, eine erste Triggersignalleitung GSTV, eine zweite Stromleitung VGH (die beispielsweise einen hohen Pegel bereitstellt), eine dritte Stromleitung VGL (die beispielsweise einen hohen Pegel bereitstellt) und eine Initialisierungssignalleitung VINT, die mit der Schieberegistereinheit verbunden sind, und eine dritte Taktsignalleitung ECB, eine vierte Taktsignalleitung ECK, eine vierte Triggersignalleitung ESTV, eine vierte Potenz Leitung VGH und eine fünfte Stromleitung (in den Figuren nicht gezeigt), die mit der Lichtemissionssteuereinheit verbunden sind. Die erste Taktsignalleitung GCB, die zweite Taktsignalleitung GCK und die erste Triggersignalleitung GSTV sind konfiguriert, um die Schieberegistereinheit mit einem ersten Taktsignal, einem zweiten Taktsignal bzw. einem ersten Triggersignal zu versorgen. Die Initialisierungssignalleitung VINT ist so konfiguriert, dass sie mit der Vielzahl von Subpixeln P111 elektrisch verbunden ist und Initialisierungssignale an die Vielzahl von Subpixeln P111 liefert. Beispielsweise liefert die Initialisierungssignalleitung VINT auch eine konstante niedrige Spannung, die eine negative Spannung oder dergleichen sein kann. Beispielsweise kann die niedrige Spannung in einigen Beispielen eine Massespannung sein. Die dritte Taktsignalleitung ECB, die vierte Taktsignalleitung ECK und die vierte Triggersignalleitung ESTV sind konfiguriert, um die Lichtemissionssteuereinheit mit einem dritten Taktsignal, einem vierten Taktsignal bzw. einem zweiten Triggersignal zu versorgen.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. Wie in 2 und 3 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner eine erste Detektionssignalleitung BPL und eine zweite Detektionssignalleitung FML. Die erste Detektionssignalleitung BPL ist an der Seite vorgesehen, wo sich das Schieberegister GOA befindet (zum Beispiel die zweite Seite S2 und die dritte Seite S3 des Anzeigebereichs) und die vierte Seite S4 gegenüber der ersten Seite S1 der Anzeige Bereich 10. Das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL wird aus dem Biegebereich 30 herausgeführt. Die zweite Detektionssignalleitung FML ist an der Seite vorgesehen, wo sich das Schieberegister GOA befindet (zum Beispiel die zweite Seite S2 und die dritte Seite S3 des Anzeigebereichs) und der vierten Seite S4. Das erste Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML wird aus dem Biegebereich 30 herausgeführt, und das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL ist in Reihe mit dem zweiten Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML geschaltet erste Seite S1 des Anzeigebereichs 10. Beispielsweise ist die Position, an der das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL mit dem zweiten Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML in Reihe geschaltet ist, als Position L1 in 2 dargestellt die erste Detektionssignalleitung BPL und die zweite Detektionssignalleitung FML sind symmetrisch an zwei Seiten des Anzeigesubstrats geführt. Wie in 3 gezeigt, ist die zweite Detektionssignalleitung FML näher an dem Biegebereich 30 als die erste Detektionssignalleitung BPL. Beispielsweise ist die zweite Detektionssignalleitung FML an einer Seite der ersten Detektionssignalleitung BPL entfernt von der Vielzahl von Signalleitungen CL in der ersten Richtung angeordnet. Beispielsweise kann der Biegebereich 30 eine Vielzahl von Leitungen 3001 entlang der ersten Richtung X beinhalten. Das erste Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML, und das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL sind mit den Verbindungsleitungen 3001 verbunden, beziehungsweise.
  • Beispielsweise können in anderen Ausführungsformen das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL und das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML auf andere Weise als durch Reihenschaltung verbunden sein und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt.
  • Beispielsweise, wie in 2 gezeigt, in einigen Ausführungsformen an der Seite (z. B. der zweiten Seite S2 und der dritten Seite S3 des Anzeigebereichs) des Anzeigesubstrats 1, wo sich das Schieberegister GOA befindet, die erste Detektionssignalleitung BPL und die zweite Detektionssignalleitung FML sind auf einer Seite des Schieberegisters GOA entfernt von dem Anzeigebereich 10 angeordnet, um die Signalinterferenz zwischen verschiedenen Leitungen zu reduzieren.
  • Beispielsweise ist, wie in 2 gezeigt, das erste Kontaktpad ET1 der Vielzahl von Kontaktpads in dem Verbindungsbereich 40 des Anzeigebereichs 10 elektrisch mit der ersten Detektionssignalleitung BPL verbunden. Das zweite Kontaktpad ET2 der Vielzahl von Kontaktpads ist elektrisch mit dem ersten Ende (dem von dem Anzeigebereich 10 entfernten Ende) der Testschaltung CT durch die Testverbindungsleitung CTD verbunden; das dritte Kontaktpad ET3 der Vielzahl von Kontaktpads ist elektrisch mit dem Steuerende der Testschaltung CT durch die Teststeuerverbindungsleitung CTSW verbunden; und das zweite Ende der Testschaltung CT ist elektrisch mit der Datenleitung DL verbunden. In der Testphase des Anzeigesubstrats liefert das Signaleingangselement das Teststeuersignal und das Testdatensignal an die Testschaltung durch das zweite Kontaktpad ET2 und das dritte Kontaktpad ET3 und beleuchtet den Anzeigebereich 10. Das Signaleingangselement liefert elektrische Signale an die erste Detektionssignalleitung BPL und die zweite Detektionssignalleitung FML durch die erste Kontaktstelle ET1 zur Rissdetektion. Beispielsweise können, wie in 3 gezeigt, die Anschlussdrähte 3001 des Biegebereichs 30 auch mit den Kontaktpads des Verbindungsbereichs 40 verbunden werden.
  • Beispielsweise in einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, auf der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10 in einem Bereich, wo die orthografische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats ist 100 (wie in 7 gezeigt) angeordnet ist, überlappt die orthographische Projektion der zweiten Detektionssignalleitung FML auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit den orthographischen Projektionen der Mehrzahl von Signalleitungen CL auf der Substratoberfläche S das Basissubstrat 100. Das heißt, der Abschnitt, wo die zweite Detektionssignalleitung FML mit der Vielzahl von Signalleitungen CL überlappt, ist auch mit der ersten Stromleitung VSS laminiert. Beispielsweise werden an der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet, die orthographischen Projektionen der ersten Detektionssignalleitung BPL und der zweite Detektionssignalleitung FML auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 haben keine Überlappung mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen CL auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Das heißt, in dem Bereich, in dem die erste Stromleitung VSS nicht verlegt ist, hat die zweite Detektionssignalleitung FML keine Überlappung mit der Vielzahl von Signalleitungen CL. Daher ist es möglich, die schlechte Antistatikfähigkeit in dem Raum zu vermeiden, der nicht mit der ersten Stromleitung versehen ist (eine solche schlechte Antistatikfähigkeit wird durch das Fehlen der Abschirmwirkung verursacht, die durch die erste Stromleitung für die Signale (Frequenzwandlungssignale) bereitgestellt wird die Vielzahl von Signalleitungen CL), um die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML und die Produktausbeute zu verbessern.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, der Bereich, in dem die orthografische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung FML auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen CL auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 vollständig von dem Bereich bedeckt sind, wo sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet; das heißt, in dem Bereich außerhalb der orthografischen Projektion von VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 in der Figur überlappt die zweite Detektionssignalleitung FML nicht mit der Mehrzahl von Signalleitungen CL.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, an der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10 und in der Richtung senkrecht zu der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 zumindest ein Teil der Filmschicht wo sich die erste Stromleitung VSS befindet, befindet sich zwischen der Filmschicht, wo die zweite Detektionssignalleitung FML gelegen ist, und der Filmschicht, wo die Vielzahl von Signalleitungen CL gelegen ist. Das heißt, in der Richtung senkrecht zu der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 ist die zweite Detektionssignalleitung FML auf der Seite der ersten Stromleitung VSS entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet, und die Vielzahl von Signalleitungen CL sind es die sich an der Seite der ersten Stromleitung VSS nahe dem Basissubstrat 100 befindet. Die zweite Detektionssignalleitung FML ist so ausgelegt, dass das elektrische Signal der ersten Stromleitung VSS die Bereiche der Mehrzahl von Signalleitungen CL vollständig abdeckt, d. h, der Bereich, in dem sich die zweite Detektionssignalleitung FML mit der Vielzahl von Signalleitungen CL überlappt, vollständig von der ersten Stromleitung VSS abgedeckt ist, so dass die Interferenz zwischen der zweiten Detektionssignalleitung FML und den Frequenzumwandlungssignalen der Vielzahl von Signalleitungen CL effektiv durch das Gleichstromsignal der ersten Stromleitung VSS abgeschirmt wird. Auf diese Weise wird die Bildung eines starken elektrischen Interferenzfelds in dem Bereich vermieden, in dem die zweite Detektionssignalleitung FML mit der Vielzahl von Signalleitungen CL überlappt, wodurch das Problem der durch die Frequenzumwandlungssignale der Vielzahl verursachten Ladungsanhäufung effektiv gelindert wird von Signalleitungen CL an der Position, wo die zweite Detektionssignalleitung FML die Vielzahl von Signalleitungen CL kreuzt, und die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML in diesem Bereich stark verbessert und das Problem der Signalinterferenz gemindert wird.
  • Es sollte beachtet werden, dass im Folgenden die Filmschicht, wo die erste Stromleitung VSS angeordnet ist, die Filmschicht, wo die zweite Detektionssignalleitung FML angeordnet ist, und die Filmschicht, wo die Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet sind im Detail in Verbindung mit der Querschnittsansicht des Anzeigebereichs beschrieben werden.
  • Beispielsweise in einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, an der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, wo sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet angeordnet sind, die Vielzahl von Signalleitungen CL entlang im Wesentlichen der gleichen Richtung angeordnet sind, so dass sie einander nicht überlappen, beispielsweise können diese Signalleitungen CL parallel geführt werden, und zumindest einige Leitungssegmente (beispielsweise einige Leitungssegmente) der ersten Detektionssignalleitung BPL und zumindest einige Leitungssegmente (zum Beispiel einige Leitungssegmente) der zweiten Detektionssignalleitung FML entlang im Wesentlichen der gleichen Richtung wie die Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet sind, um sich nicht mit den zu überlappen B. Signalleitungen, werden sie parallel geführt. Im Bereich A2 von 3 werden die Leitungssegmente der ersten Detektionssignalleitung BPL und die Leitungssegmente der zweiten Detektionssignalleitung FML parallel zu den Vielzahl von Signalleitungen CL geführt und werden entlang einer sich schneidenden Richtung geführt sowohl in der ersten Richtung X als auch in der zweiten Richtung Y Die erste Detektionssignalleitung BPL ist zwischen der zweiten Detektionssignalleitung FML und den Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet, das heißt, die erste Detektionssignalleitung BPL ist an der Seite der angeordnet zweite Detektionssignalleitung FML weg von der Vielzahl von Signalleitungen CL. Daher ist die zweite Detektionssignalleitung FML außerhalb der Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet und verläuft parallel zu den Vielzahl von Signalleitungen CL, so dass das Problem der schlechten Antistatikfähigkeit und das Problem der durch die Frequenzumwandlungssignale verursachten Signalinterferenz aus die Vielzahl von Signalleitungen CL, die die zweite Detektionssignalleitung FML in diesem Raum stören, kann vollständig vermieden werden.
  • Beispielsweise beträgt der eingeschlossene Winkel zwischen der ersten Richtung X und der zweiten Richtung Y, die in der vorliegenden Offenbarung erwähnt werden, zwischen 70° und 90°, einschließlich 70° und 90°. Beispielsweise beträgt der eingeschlossene Winkel zwischen der ersten Richtung X und der zweiten Richtung Y 70°, 90° oder 80°, was gemäß der tatsächlichen Situation eingestellt werden kann, und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. Beispielsweise kann der eingeschlossene Winkel zwischen der ersten Richtung X und der zweiten Richtung Y 75 °, 85 ° usw. betragen.
  • Es sollte beachtet werden, dass. „im Wesentlichen“ in der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bedeutet, dass die zwei Leitungen in die gleiche Richtung oder in leicht unterschiedliche Richtungen geführt werden, zum Beispiel ist der eingeschlossene Winkel (repräsentativ für eine Richtungsabweichung) zwischen den Leitungsrichtungen der zwei Leitungen, beispielsweise kleiner als etwa 10° oder beispielsweise kleiner als etwa 5°.
  • 4 ist eine vergrößerte Ansicht des Bereichs A1 in 3.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. Wie in 3 und 4 gezeigt, umfasst die zweite Detektionssignalleitung FML auf der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10 eine Vielzahl von erste Leitungssegmente FML3, die mit dem ersten Ende FML1 bzw. dem zweiten Ende FM2 der zweiten Detektionssignalleitung FML verbunden sind; und die Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 erstrecken sich allgemein entlang der ersten Richtung X, zum Beispiel können sich die Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 vollständig entlang der ersten Richtung X erstrecken. Die Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 umfassen beispielsweise ein erstes Leitungssegment FML31 und ein erstes Leitungssegment FML32. Das erste Leitungssegment FML31 ist mit dem ersten Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML verbunden; und das erste Leitungssegment FML32 ist mit dem zweiten Ende FM2 der zweiten Detektionssignalleitung FML verbunden. In 3 ist das erste Leitungssegment FML31 auf der rechten Seite des ersten Leitungssegments FML32 angeordnet. In dem Bereich, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet, überlappen die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit der orthographische Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen CL auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Das heißt, das erste Leitungssegment FML3 ist mit der ersten Stromleitung VSS laminiert und überlappt mit der Vielzahl von Signalleitungen CL. In einigen Ausführungsformen wird der Bereich, in dem die zweite Detektionssignalleitung FML die Vielzahl von Signalleitungen CL überlappt, vollständig von der ersten Stromleitung VSS abgedeckt. Auf diese Weise wird die Interferenz zwischen der zweiten Detektionssignalleitung FML und den Frequenzumwandlungssignalen der Vielzahl von Signalleitungen CL effektiv durch das Gleichstromsignal der ersten Stromleitung VSS abgeschirmt. Daher wird die Bildung eines starken elektrischen Interferenzfelds in dem Bereich vermieden, in dem die zweite Detektionssignalleitung FML die Vielzahl von Signalleitungen CL überlappt, wodurch das Problem der durch die Frequenzumwandlungssignale der Vielzahl von Signale verursachten Ladungsanhäufung wirksam gelöst wird Leitungen CL an der Position, wo die zweite Detektionssignalleitung FML die Vielzahl von Signalleitungen CL kreuzt, und die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML in diesem Bereich stark verbessert und das Problem der Signalinterferenz gemildert wird.
  • Beispielsweise in einigen Ausführungsformen, wie in 4 gezeigt, an der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, wo sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet befindet, überlappen die orthografischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 auch mit der orthografischen Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung BPL (zum Beispiel das dritte Leitungssegment BPL3) auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Daher ist es möglich, das Rissrisiko zu verringern, das entsteht, wenn der Schneidprozess auf einer Hauptplatine durchgeführt wird, auf der sich das Anzeigesubstrat 1 befindet.
  • Zum Beispiel kann in anderen Ausführungsformen, wie in 4 gezeigt, wenn der periphere Bereich 20 des Anzeigesubstrats 1 ausreichend Platz hat, die Kante der ersten Stromleitung VSS nahe der ersten Detektionssignalleitung BPL fortfahren zu der ersten Detektionssignalleitung BPL erstrecken, so dass die orthographische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 einen Bereich abdeckt, wo die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten FML3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit der orthografischen Projektion der ersten Detektionssignalleitung BPL (z. B. des dritten Leitungssegments BPL3) auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 überlappen. Daher kann die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML weiter verbessert werden. Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 4 gezeigt, der Bereich, wo die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen CL überlappen auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 hat eine Länge D1 in der ersten Richtung X im Bereich von etwa 220 Mikrometer bis etwa 260 Mikrometer. Auf diese Weise wird die Interferenz zwischen der zweiten Detektionssignalleitung FML und den Frequenzumwandlungssignalen der Vielzahl von Signalleitungen CL effektiv durch das Gleichstromsignal der ersten Stromleitung VSS abgeschirmt.
  • 5 ist eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs A2 in 3.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. Wie in den 3 und 5 gezeigt, umfasst die zweite Detektionssignalleitung FML ferner eine Mehrzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4. Beispielsweise werden die Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 entlang einer Richtung geführt, die sich mit der ersten Richtung X schneidet, wie etwa einer Richtung, die nicht parallel zu sowohl der ersten Richtung X als auch der zweiten Richtung Y ist. Beispielsweise ist die Routing-Richtung der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 parallel (z. B. ungefähr parallel) zu der Routing-Richtung der Vielzahl von Signalleitungen CL. Beispielsweise umfassen die Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 ein zweites Leitungssegment FML41 und ein zweites Leitungssegment FML42, und das zweite Leitungssegment FML41 befindet sich auf der Seite des zweiten Leitungssegments FML42 in der Nähe der Vielzahl von Signalleitungen CL. Eines der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 (zum Beispiel das erste Leitungssegment FML31) ist mit dem ersten Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML durch eines der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 (zum Beispiel die zweite Leitung) verbunden Segment FML41). Ein anderes der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 (beispielsweise das erste Leitungssegment FML31) ist mit dem zweiten Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML durch ein anderes der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 (beispielsweise das zweites Leitungssegment FML42). Die Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 befinden sich zwischen den Vielzahl von ersten Leitungssegmenten FML3 und dem Biegebereich 30. Der Übergang zwischen dem FML3 und dem FML4 kann einen sanften oder fließenden Übergang aufweisen, beispielsweise kann er aber einen bestimmten Winkel aufweisen Winkel kann als Kreisbogen oder als Fase ausgebildet sein. In einigen Ausführungsformen kann der Winkel etwa 90° betragen. Das Wort „ungefähr“ bedeutet, dass es nicht streng definiert ist, aber andere Winkel umfassen kann, um einen sanften oder glatten Übergang zu erreichen.
  • Beispielsweise können die Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 nicht parallel zu der ersten Richtung X sein, sie können sich beispielsweise mit der ersten Richtung X in einem bestimmten Winkel schneiden. Beispielsweise ist der Winkel kleiner oder gleich etwa 20°.
  • Es sollte beachtet werden, dass in der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung das Wort „ungefähr“ bedeutet, dass es innerhalb des Bereichs von beispielsweise ±15 % oder ±5 % seines Werts schwanken kann.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. Wie in 3 und 5 gezeigt, umfasst die erste Detektionssignalleitung BPL eine Vielzahl von dritten Leitungssegmenten BPL3, die mit dem ersten Ende BPL1 bzw. dem zweiten Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL verbunden sind. Beispielsweise werden die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 entlang einer Richtung geführt, die sich mit der ersten Richtung X schneidet, wie beispielsweise einer Richtung, die nicht parallel zu sowohl der ersten Richtung X als auch der zweiten Richtung Y ist. Beispielsweise ist die Routing-Richtung der Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 parallel (z. B. ungefähr parallel) zu der Routing-Richtung der Vielzahl von Signalleitungen CL. Die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 umfassen beispielsweise ein drittes Leitungssegment BPL31 und ein drittes Leitungssegment BPL32, und das dritte Leitungssegment BPL31 ist auf der Seite des dritten Leitungssegments BPL32 entfernt von den Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet. Beispielsweise grenzt das dritte Leitungssegment BPL31 an das zweite Leitungssegment FML41 an. Beispielsweise überlappen die orthografischen Projektionen der Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmente FML3 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100; und die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 werden parallel (zum Beispiel ungefähr parallel) zu den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4 geführt und angeordnet. Das heißt, in 3 schneidet das zweite Leitungssegment FML4 nicht nur die Vielzahl von Signalleitungen CL, sondern schneidet auch die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 an der Seite nahe dem Biegebereich 30 und außerhalb des Bereichs von die erste Stromleitung VSS. Die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 sind an der Seite der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 nahe dem Anzeigebereich 10 angeordnet und sind zwischen den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4 und den Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet. Daher wird die Interferenz zwischen der zweiten Detektionssignalleitung FML und den Frequenzumwandlungssignalen der Vielzahl von Signalleitungen CL effektiv durch das Gleichstromsignal der ersten Stromleitung VSS abgeschirmt, und währenddessen kann der Verdrahtungsraum reduziert werden.
  • Beispielsweise werden in einigen Ausführungsformen, wie in 5 gezeigt, in einer Routing-Richtung senkrecht zu den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4 und den Vielzahl von dritten Leitungssegmenten BPL3 die Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 und die Vielzahl von dritte Leitungssegmente BPL3 werden parallel (z. B. ungefähr parallel) mit Leitungssegmenten der Vielzahl von Signalleitungen CL geführt, die den zweiten Leitungssegmenten FML4 und den dritten Leitungssegmenten BPL3 entsprechen. Daher kann die Signalinterferenz der Vielzahl von Signalleitungen CL zu der ersten Detektionssignalleitung BPL und der zweiten Detektionssignalleitung FML reduziert werden, und der Verdrahtungsraum kann ebenfalls reduziert werden.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 5 gezeigt, das zweite Leitungssegment FML41, das mit dem ersten Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML verbunden ist, benachbart zu dem dritten Leitungssegment BPL31, das mit dem ersten Ende BPL1 von verbunden ist die erste Detektionssignalleitung BPL. In einer Routing-Richtung senkrecht (zum Beispiel ungefähr senkrecht zu) der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4 und der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten BPL3 ist die Intervallbreite D2 zwischen dem zweiten Leitungssegment FML41 und dem dritten Leitungssegment BPL31, die benachbart sind im Bereich von etwa 2 Mikrometer bis 3 Mikrometer geschätzt, so dass der Abstand zwischen der ersten Detektionssignalleitung BPL und der zweiten Detektionssignalleitung FML kleiner gemacht werden kann und der Verdrahtungsraum reduziert werden kann.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 3 gezeigt, an der Seite des Biegebereichs 30 nahe dem Anzeigebereich 10 die Position L1, wo das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL und das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML in Reihe geschaltet sind, liegt zwischen dem ersten Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML und dem ersten Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL. Das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL ist auf der Seite des ersten Endes FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML entfernt von der Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet. Daher kann der Verdrahtungsraum reduziert werden.
  • 6 ist eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs A3 in 3.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. Wie in den 3 und 6 gezeigt, umfasst die zweite Detektionssignalleitung FML ferner eine Vielzahl von erste unterbrochene Leitungssegmente FML5, die ungefähr den gleichen Layoutumriss haben, sie können beispielsweise parallel angeordnet sein. Beispielsweise werden die Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5 gebogen und entlang der ersten Richtung X und der zweiten Richtung Y geführt. Beispielsweise umfasst die Mehrzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten FML5 ein erstes unterbrochenes Leitungssegment FML51 und ein erstes unterbrochenes Leitungssegment FML52. Das erste unterbrochene Leitungssegment FML51 verbindet das erste Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML und das zweite Leitungssegment FML41. Das erste unterbrochene Leitungssegment FML52 verbindet das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML und das zweite Leitungssegment FML42. Eines der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5, wie etwa das erste unterbrochene Leitungssegment FML51, ist mit einem der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4, wie etwa dem zweiten Leitungssegment FML41, und dem ersten Ende FML1 der zweiten Erfassung verbunden Signalleitung FML. Ein anderes der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5 (zum Beispiel das erste unterbrochene Leitungssegment FML52) ist mit einem anderen der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4 (zum Beispiel das zweite Leitungssegment FML42) und dem zweiten Ende FML1 verbunden der zweiten Detektionssignalleitung FML. Die Linienbreite der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5 ist größer als die Linienbreite der Vielzahl von zweiten Leitungssegmente FML4. Zum Beispiel beträgt die Linienbreite des zweiten Leitungssegments FML4 in einer Routing-Richtung senkrecht zu den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten FML4 (dem zweiten Leitungssegment FML41 oder dem zweiten Leitungssegment FML42) etwa 15 - 20 Mikrometer. Beispielsweise beträgt die Linienbreite des ersten Segments FML5 in der Richtung senkrecht zur Routingrichtung der Vielzahl von ersten Segmente FML5 mit unterbrochener Linie (das erste Segment FML51 mit unterbrochener Linie oder das erste Segment FML52 mit unterbrochener Linie) etwa 25 - 30 Mikron. Daher kann die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML verbessert werden.
  • Beispielsweise werden in einigen Ausführungsformen, wie in 6 gezeigt, zumindest einige der ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5 entlang der zweiten Richtung Y geführt. Wie in der Figur gezeigt, erstreckt sich das erste unterbrochene Leitungssegment FML52 von der zweites Ende nahe der zweiten Detektionssignalleitung FML zunächst entlang der zweiten Richtung Y (zum Beispiel ungefähr parallel zur zweiten Richtung Y) und dann entlang der ersten Richtung X (zum Beispiel ungefähr parallel zur ersten Richtung X) verläuft, um mit dem zweiten Leitungssegment FML4 verbunden zu werden. Das erste unterbrochene Leitungssegment FML51 erstreckt sich von dem zweiten Ende nahe der zweiten Detektionssignalleitung FML zuerst entlang der ersten Richtung X und erstreckt sich dann entlang der zweiten Richtung Y und erstreckt sich dann entlang der ersten Richtung X, um damit verbunden zu werden das zweite Leitungssegment FML4.
  • Zum Beispiel können einige Segmente (die sich entlang der ersten Richtung X erstrecken) der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten FML5 in einer Richtung geführt werden, die nicht parallel zu der ersten Richtung X ist, sie können sich zum Beispiel mit der ersten Richtung schneiden X in einem bestimmten Winkel. Beispielsweise ist dieser Winkel kleiner oder gleich etwa 20°. Einige Segmente (die sich entlang der zweiten Richtung Y erstrecken) der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmente FML5 können in einer Richtung geführt werden, die nicht parallel zu der zweiten Richtung Y ist, sie können beispielsweise die zweite Richtung Y in einem bestimmten Winkel schneiden. Beispielsweise ist dieser Winkel kleiner oder gleich etwa 20°.
  • Beispielsweise umfasst in einigen Ausführungsformen, wie in 6 gezeigt, die erste Detektionssignalleitung BPL ferner eine Vielzahl von vierten Leitungssegmenten BPL4. Die Vielzahl von vierten Leitungssegmente BPL4 werden entlang der ersten Richtung X geführt, zum Beispiel ist die Routing-Richtung der vierten Leitungssegmente BPL4 ungefähr parallel zu der ersten Richtung X. Die Vielzahl von vierten Leitungssegmente BPL4 umfassen zum Beispiel eine vierte Linie Segment BPL41 und ein viertes Leitungssegment BPL42. Das vierte Leitungssegment BPL41 ist auf der Seite des vierten Leitungssegments BPL42 entfernt von der Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet. Eines der Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 (zum Beispiel das dritte Leitungssegment BPL31) ist mit dem ersten Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL durch eines der Vielzahl von vierten Leitungssegmente BPL4 (zum Beispiel die vierte Leitung) verbunden Segment BPL41). Ein anderes der Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 (beispielsweise das dritte Leitungssegment BPL31) ist mit dem zweiten Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL durch ein anderes der Vielzahl von vierten Leitungssegmente BPL4 (beispielsweise das viertes Leitungssegment BPL42). Die orthografischen Projektionen der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten BPL4 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 überlappen jeweils mit der orthografischen Projektion von mindestens einem der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten FML5 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Insbesondere überlappt die orthographische Projektion des vierten Leitungssegments BPL41 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 mit beiden orthographischen Projektionen des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML51 und des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML52 auf der Substratoberfläche S der Basis Substrat 100. Die orthographische Projektion des vierten Leitungssegments BPL42 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 überlappt mit der orthographischen Projektion des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML51 auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Daher kann der Verdrahtungsraum reduziert werden ohne die antistatische Fähigkeit der zweiten Detektionssignalleitung FML zu beeinträchtigen.
  • Beispielsweise können die Vielzahl von vierten Leitungssegmente BPL4 nicht parallel zu der ersten Richtung X sein, sie können beispielsweise die erste Richtung X in einem bestimmten Winkel schneiden. Beispielsweise ist dieser Winkel kleiner oder gleich etwa 20°.
  • Zum Beispiel, wie in den Fign. Wie in 3 und 6 gezeigt, sind das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL und das zweite Ende FML2 der ersten Detektionssignalleitung FML durch das zweite Durchgangsloch GK1 verbunden. Das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL kann auch mit der Verbindungsleitung 3001 des Biegebereichs 30 durch das dritte Durchgangsloch GK2 verbunden werden, und das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL kann auch mit der verbunden werden Verbindungsleiter 3001 des Biegebereichs 30 durch das vierte Durchgangsloch GK3.
  • 7 ist eine schematische Querschnittsansicht eines Anzeigebereichs eines Anzeigesubstrats, das durch mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird. 8 ist eine schematische Querschnittsansicht entlang der Linie B1-B2 in 6.
  • Beispielsweise beinhaltet in einigen Beispielen, wie in 7 gezeigt, jedes der Vielzahl von Subpixeln P111 eine Pixelstruktur, die eine Pixeltreiberschaltung 103 beinhaltet. Die Pixeltreiberschaltung 103 beinhaltet eine erste Anzeigebereich-Metallschicht 301, eine zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 und eine dritte Anzeigebereich-Metallschicht 303. Die erste Anzeigebereich-Metallschicht 301 ist auf dem Basissubstrat 100 angeordnet, d. h. zwischen einer ersten Isolierschicht 1242 (d. h. einer ersten Gate-Isolierschicht) und einer zweiten Isolierschicht 1243 (d. h. einer zweiten Gate-Isolierschicht) angeordnet. Die zweite Anzeigebereichs-Metallschicht 302 ist auf der Seite der ersten Anzeigebereichs-Metallschicht 301 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet, d. h. zwischen der zweiten Isolierschicht 1243 und einer Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 angeordnet. Die dritte Anzeigebereich-Metallschicht 303 ist auf der Seite der zweiten Anzeigebereich-Metallschicht 302 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet, das heißt, angeordnet auf der Seite der Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 entfernt von dem Basissubstrat 100.
  • Beispielsweise kann das Basissubstrat 100 eine Glasplatte, eine Quarzplatte, eine Metallplatte oder eine Harzplatte usw. sein. Beispielsweise kann das Material des Basissubstrats organische Materialien wie etwa Polyimid, Polycarbonat, Polyacrylat, Polyetherimid, Polyethersulfon, Polyethylenterephthalat und Polyethylennaphthalat. Beispielsweise kann das Basissubstrat 100 ein flexibles Substrat oder ein nicht flexibles Substrat sein, und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt.
  • Beispielsweise umfasst, wie in 7 gezeigt, die Pixeltreiberschaltung 103 ferner eine Vielzahl von Transistoren und Kondensatoren. Die Vielzahl von Transistoren kann einen Transistor beinhalten, der direkt elektrisch mit einer lichtemittierenden Vorrichtung verbunden ist, wie etwa einem Schalttransistor (z. B. einem Lichtemissionssteuertransistor) oder einem Treibertransistor. Die Vielzahl von Kondensatoren können einen Speicherkondensator umfassen (um ein Datensignal wie geschrieben zu speichern). In einer Ausführungsform umfasst die Pixeltreiberschaltung 103 einen Treibertransistor 12 und einen Speicherkondensator 13. Der Treibertransistor 12 umfasst eine Gate-Elektrode 122, eine Source-Elektrode 123, eine Drain-Elektrode 124 und eine aktive Schicht 121. Das Anzeigesubstrat 1 umfasst ferner eine Sperrschicht 1240, eine Pufferschicht 1241, eine erste Isolierschicht 1242, eine zweite Isolierschicht 1243 und eine Zwischenschicht-Isolierschicht 1244. Der Speicherkondensator 13 umfasst eine erste Elektrodenplatte 131 und eine zweite Elektrodenplatte 132. Die erste Elektrodenplatte 131 und die zweite Elektrodenplatte 132 liegen einander gegenüber und sind aufeinander gestapelt. Die Sperrschicht 1240 befindet sich auf dem Basissubstrat 100 und die Pufferschicht 1241 befindet sich auf der Seite der Sperrschicht 1240 weg von dem Basissubstrat 100. Die Pufferschicht 1241 dient als Übergangsschicht, die nicht nur verhindern kann, dass schädliche Substanzen in dem Basissubstrat in das Anzeigesubstrat eindringen, sondern auch die Haftung von Filmschichten in dem Anzeigesubstrat auf dem Basissubstrat 100 erhöhen kann. Die Sperrschicht 1240 kann eine flache Oberfläche zum Bilden der Pixeltreiberschaltung 103 bereitstellen und kann verhindern, dass möglicherweise im Basissubstrat 100 vorhandene Verunreinigungen in eine Subpixeltreiberschaltung oder die Pixeltreiberschaltung 103 diffundieren und die Leistung davon nachteilig beeinflussen Anzeigesubstrat.
  • Beispielsweise kann das Material der Pufferschicht 1241 isolierende Materialien wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid und Siliziumoxynitrid umfassen. Das Material von einer oder Vielzahl von der ersten Isolierschicht 1242, der zweiten Isolierschicht 1243 und der Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 kann Isoliermaterialien wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid und Siliziumoxinitrid umfassen. Die Materialien der ersten Isolierschicht 1242, der zweiten Isolierschicht 1243 und der Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 können gleich oder unterschiedlich sein.
  • Beispielsweise kann das Material der Barrierenschicht 1240 anorganische Isoliermaterialien wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid oder andere geeignete Materialien umfassen.
  • Beispielsweise ist, wie in 7 gezeigt, die aktive Schicht 121 auf dem Basissubstrat 100 angeordnet und auf der Seite der Pufferschicht 1241 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die erste Isolierschicht 1242 ist bei angeordnet die Seite der aktiven Schicht 121 weg von dem Basissubstrat 100; und die Gate-Elektrode 122 und die erste Elektrodenplatte 131 sind in derselben Schicht auf der Seite der ersten Isolierschicht 1242 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die zweite Isolierschicht 1243 ist an der Seite der Gate-Elektrode 122 und der ersten Elektrodenplatte 131 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die zweite Elektrodenplatte 132 ist an der Seite der zweiten Isolierschicht 1243 in dem Anzeigebereich entfernt angeordnet das Basissubstrat 100. Die Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 ist auf der Seite der zweiten Elektrodenplatte 132 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die Source-Elektrode 123 und die Drain-Elektrode 124 sind auf der Seite der Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. und sind elektrisch mit der aktiven Schicht 121 durch die Durchgangslöcher in der ersten Isolierschicht 1242, der zweiten Isolierschicht 1243 und der Zwischenschicht-Isolierschicht 1244 verbunden. Die Gate-Elektrode 122 und die erste Elektrodenplatte 131 sind in der ersten Anzeigebereich-Metallschicht 301 angeordnet; die zweite Elektrodenplatte 132 ist in der zweiten Anzeigebereich-Metallschicht 302 angeordnet; und die Source-Elektrode 123 und die Drain-Elektrode 124 sind in der dritten Anzeigebereich-Metallschicht 303 angeordnet.
  • Beispielsweise kann das Material der aktiven Schicht 121 Polysilizium oder Oxidhalbleiter (beispielsweise Indium-Gallium-Zink-Oxid (IGZO)) umfassen. Das Material der Gate-Elektrode 122 kann ein Metallmaterial oder ein Legierungsmaterial umfassen, wie etwa eine einschichtige Metallstruktur oder eine mehrschichtige Metallstruktur, die durch Molybdän, Aluminium und Titan gebildet ist; beispielsweise ist die mehrschichtige Struktur eine mehrschichtige Metalllaminierung (wie beispielsweise eine dreischichtige Metalllaminierung aus Titan, Aluminium und Titan (Ti/Al/Ti)). Die Materialien der Source-Elektrode 123 und der Drain-Elektrode 124 können Metallmaterialien oder Legierungsmaterialien umfassen, wie z. B. eine einschichtige oder mehrschichtige Metallstruktur, die durch Molybdän, Aluminium, Titan und dergleichen gebildet ist; beispielsweise ist die mehrschichtige Struktur eine mehrschichtige Metalllaminierung (wie beispielsweise eine dreischichtige Metalllaminierung aus Titan, Aluminium und Titan (Ti/Al/Ti)). Die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung soll die Materialien verschiedener Funktionsschichten nicht spezifisch einschränken. Beispielsweise kann das Material der zweiten Elektrodenplatte 132 ein Metallmaterial oder ein Legierungsmaterial umfassen, wie beispielsweise eine einschichtige oder mehrschichtige Metallstruktur, die durch Molybdän, Aluminium, Titan und dergleichen gebildet ist; beispielsweise ist die mehrschichtige Struktur eine mehrschichtige Metalllaminierung (wie beispielsweise eine dreischichtige Metalllaminierung aus Titan, Aluminium und Titan (Ti/Al/Ti)).
  • Beispielsweise, wie in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 beispielsweise ferner eine erste Planarisierungsschicht 1245. Die erste Planarisierungsschicht 1245 befindet sich auf der Seite der Source-Elektrode 123 und der Drain-Elektrode 124 (d. h Pixeltreiberschaltung 103) weg von dem Basissubstrat 100, um eine erste Planarisierungsoberfläche bereitzustellen, um die Oberfläche der Pixeltreiberschaltung 103 weg von dem Basissubstrat 100 zu planarisieren. Die erste Planarisierungsschicht 1245 umfasst ein erstes Durchgangsloch 233, durch das die Pixeltreiberschaltung 103 (z. B. die dritte Anzeigebereichsmetallschicht 303) elektrisch mit der lichtemittierenden Vorrichtung verbunden ist (z. B. durch eine erste Übergangselektrode 241).
  • Wie in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner eine erste Übergangselektrode 241 und eine zweite Planarisierungsschicht 251, die in der vierten Anzeigebereichsmetallschicht 304 angeordnet ist. Die erste Übergangselektrode 241 ist an der Seite der ersten angeordnet Planarisierungsschicht 1245 von dem Basissubstrat 100 entfernt. Die erste Übergangselektrode 241 ist durch das erste Durchgangsloch 233 elektrisch mit der Drain-Elektrode 124 (oder der Source-Elektrode 123) verbunden. Die erste Übergangselektrode 241 kann vermeiden, direkt ein Durchgangsloch mit einer größeren Öffnung in der ersten Planarisierungsschicht 232 zu bilden, wodurch die Qualität der elektrischen Verbindung der Durchgangslöcher verbessert wird. Gleichzeitig kann die erste Übergangselektrode 241 auch in derselben Schicht wie andere Signalleitungen gebildet werden, so dass die Anzahl der Prozessschritte nicht erhöht wird.
  • Die Materialien der ersten Planarisierungsschicht 1245 und der zweiten Planarisierungsschicht 251 umfassen beispielsweise anorganische isolierende Materialien wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid und Siliziumoxinitrid und können auch organische isolierende Materialien wie etwa Polyimid, Polyamid, Acrylharz umfassen, Benzocyclobuten oder Phenolharz. Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung sind nicht darauf beschränkt.
  • Beispielsweise kann das Material der ersten Übergangselektrode 241 ein Metallmaterial oder ein Legierungsmaterial umfassen, wie z. B. eine einschichtige oder mehrschichtige Metallstruktur, die durch Molybdän, Aluminium, Titan und dergleichen gebildet wird.
  • Wie beispielsweise in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner eine Passivierungsschicht 1246, die sich zwischen der Pixeltreiberschaltung 106 und der ersten Planarisierungsschicht 1245 befindet. Zu diesem Zeitpunkt dringt auch das erste Durchgangsloch 233 durch die Passivierungsschicht 1246. Die Passivierungsschicht 1246 kann die Source-Elektrode 123 und die Drain-Elektrode 124 der Pixeltreiberschaltung 103 davor schützen, durch Wasserdampf korrodiert zu werden. Die Pixeltreiberschaltung 103 und die erste Übergangselektrode 241 sind durch das erste Durchgangsloch 233 elektrisch verbunden.
  • Beispielsweise kann das Material der Passivierungsschicht 1246 ein organisches isolierendes Material oder ein anorganisches isolierendes Material, wie z. B. Siliziumnitrid, umfassen, das die Pixeltreiberschaltung 103 aufgrund seiner hohen Dielektrizitätskonstante vor einer Korrosion durch Wasserdampf schützen kann und gute hydrophobe Funktion.
  • Beispielsweise ist, wie in 7 gezeigt, die zweite Planarisierungsschicht 251 auf der Seite der ersten Übergangselektrode 241 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet, um eine Planarisierungsoberfläche auf der Seite des ersten Übergangs bereitzustellen Elektrode 241 von dem Basissubstrat 100 entfernt. Ferner wird ein Durchgangsloch 252 in der zweiten Planarisierungsschicht 251 gebildet, um die erste Übergangselektrode 241 freizulegen.
  • Wie beispielsweise in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner eine Pixeldefinitionsschicht 146 und ein Licht emittierendes Element 11. Das Licht emittierende Element 11 ist auf der Seite der zweiten Planarisierungsschicht 251 entfernt angeordnet von dem Basissubstrat 100. Das lichtemittierende Element 11 umfasst eine erste Elektrode 113 (beispielsweise eine Anode), eine lichtemittierende Schicht 112 und eine zweite Elektrode 111 (beispielsweise eine Kathode). Die erste Elektrode 113 befindet sich auf der Seite der ersten Planarisierungsschicht 1245 entfernt von dem Basissubstrat 100 und ist mit der ersten Übergangselektrode 241 durch das Durchgangsloch 252 der zweiten Planarisierungsschicht 251 verbunden, um elektrisch mit ihr verbunden zu sein Pixeltreiberschaltung 103 (z. B. die Drain-Elektrode 124 des Treibertransistors 12). Die zweite Elektrode 111 befindet sich auf der Seite der Pixeldefinitionsschicht 146 weg von dem Basissubstrat 100. Die Pixeldefinitionsschicht 146 ist auf der Seite der ersten Elektrode 113 entfernt von dem Basissubstrat 14 angeordnet und umfasst eine erste Pixelöffnung 1461. Die erste Pixelöffnung 1461 ist entsprechend dem lichtemittierenden Element 11 vorgesehen Schicht 112 befindet sich in der ersten Pixelöffnung 1461 und befindet sich zwischen der ersten Elektrode 113 und der zweiten Elektrode 111. Der Teil der lichtemittierenden Schicht 112, der direkt zwischen der ersten Elektrode 113 und der zweiten Elektrode 111 eingebettet ist, emittiert Licht, nachdem er erregt wurde, daher entspricht die von diesem Teil eingenommene Fläche der lichtemittierenden Fläche des lichtemittierenden Elements 11.
  • Beispielsweise erzeugt die Pixeltreiberschaltung 103 einen lichtemittierenden Treiberstrom unter der Steuerung des Datensignals, das von der Datentreiberschaltung über die Datenleitung DL bereitgestellt wird, das Gateabtastsignal, das von dem Schieberegister über die Gateleitung bereitgestellt wird GL und das Lichtemissionssteuersignal usw. Der Lichtemissionstreiberstrom ermöglicht dem Lichtemissionselement 11 rotes Licht, grünes Licht, blaues Licht oder weißes Licht usw. zu emittieren.
  • Beispielsweise umfasst die Pixeltreiberschaltung 103 eine herkömmliche 7T1C-Pixelschaltung (d. h. sieben Transistoren und ein Kondensator). Die sieben Transistoren umfassen mindestens einen Schalttransistor und einen Treibertransistor (wie etwa den Treibertransistor 103 in 7). Die Gate-Elektrode des Schalttransistors ist elektrisch mit der Schieberegistereinheit verbunden, um das Signal hinter der Gate-Elektrode zu empfangen; und die Source-Elektrode oder Drain-Elektrode des Schalttransistors ist mit der Datenleitung DL verbunden, um das Datensignal zu empfangen. In anderen Ausführungsformen kann die Pixeltreiberschaltung 103 ferner eine Kompensationsschaltung umfassen, die eine interne Kompensationsschaltung oder eine externe Kompensationsschaltung umfasst, und die Kompensationsschaltung kann Transistoren, Kondensatoren usw. umfassen. Beispielsweise kann die Pixelschaltung auch eine Rücksetzschaltung umfassen B. eine Lichtemissions-Steuerschaltung, eine Erfassungsschaltung usw. nach Bedarf. Die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung soll den Typ der ersten lichtemittierenden Vorrichtung und die spezifische Struktur der Pixelschaltung nicht einschränken.
  • Beispielsweise kann das Material der Pixeldefinitionsschicht 146 organische isolierende Materialien wie etwa Polyimid, Polyamid, Acrylharz, Benzocyclobuten oder Phenolharz oder anorganische isolierende Materialien wie etwa Siliziumoxid und Siliziumnitrid umfassen, die nicht darauf beschränkt sind die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.
  • Beispielsweise kann das Material der ersten Elektrode 113 mindestens ein transparentes leitfähiges Oxidmaterial umfassen, einschließlich Indium-Zinn-Oxid (ITO), Indium-Zink-Oxid (IZO), Zinkoxid (ZnO) und dergleichen. Außerdem kann die erste Elektrode 113 ein Metall mit hohem Reflexionsvermögen als Reflexionsschicht umfassen, z. B. Silber (Ag).
  • Beispielsweise kann im Fall von OLED die lichtemittierende Schicht 112 ein kleinmolekulares organisches Material oder ein molekulares organisches Polymermaterial umfassen und kann ein fluoreszierendes lichtemittierendes Material oder ein phosphoreszierendes lichtemittierendes Material sein kann rotes Licht, grünes Licht, blaues Licht oder weißes Licht emittieren. Darüber hinaus kann die Licht emittierende Schicht je nach Bedarf weiter funktionelle Schichten wie eine Elektroneninjektionsschicht, eine Elektronentransportschicht, eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht usw. umfassen.
  • Im Fall von QLED kann die lichtemittierende Schicht Quantenpunktmaterialien umfassen, wie z. B. Silizium-Quantenpunkte, Germanium-Quantenpunkte, Cadmiumsulfid-Quantenpunkte, Cadmiumselenid-Quantenpunkte, Cadmiumtellurid-Quantenpunkte, Zinkselenid-Quantenpunkte, Bleisulfid-Quantenpunkt, Bleiselenid-Quantenpunkt, Indiumphosphid-Quantenpunkt und Indiumarsenid-Quantenpunkt usw., und die Teilchengröße des Quantenpunkts beträgt 2 - 20 nm.
  • Beispielsweise kann die zweite Elektrode 111 verschiedene leitende Materialien umfassen. Beispielsweise kann die zweite Elektrode 111 Metallmaterialien wie etwa Lithium (Li), Aluminium (Al), Magnesium (Mg) und Silber (Ag) umfassen.
  • Wie beispielsweise in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 ferner eine Einkapselungsschicht 147. Die Einkapselungsschicht 147 ist auf der Seite der zweiten Elektrode 111 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die Einkapselungsschicht 147 dichtet ab das lichtemittierende Element 11 (lichtemittierendes Element 11), so dass die Verschlechterung des lichtemittierenden Elements 11, die durch in der Umgebung umfassene Feuchtigkeit und/oder Sauerstoff verursacht wird, reduziert oder verhindert werden kann. Die Einkapselungsschicht 147 kann eine Einzelschichtstruktur oder eine Verbundschichtstruktur aufweisen, die eine Struktur umfasst, in der anorganische Schicht(en) und organische Schicht(en) gestapelt sind. Die Kapselungsschicht 147 umfasst mindestens eine Kapselungsunterschicht. Beispielsweise kann die Einkapselungsschicht 147 eine erste anorganische Einkapselungsschicht, eine erste organische Einkapselungsschicht und eine zweite anorganische Einkapselungsschicht umfassen, die aufeinanderfolgend angeordnet sind.
  • Beispielsweise kann das Material der Kapselungsschicht 147 isolierende Materialien wie etwa Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Siliziumoxinitrid und Polymerharz umfassen. Das anorganische Material wie Siliziumnitrid, Siliziumoxid und Siliziumoxinitrid hat eine hohe Kompaktheit, die das Eindringen von Wasser und Sauerstoff verhindern kann. Das Material der organischen Einkapselungsschicht kann ein Trockenmittel umfassendes Polymermaterial oder ein Polymermaterial sein, das Wasserdampf blockieren kann, beispielsweise ein Polymerharz oder dergleichen, um die Oberfläche des Anzeigesubstrats einzuebnen und die Spannung der ersten anorganischen Einkapselung abzubauen Schicht und die zweite anorganische Einkapselungsschicht; und das Material der organischen Einkapselungsschicht kann auch wasserabsorbierende Materialien wie Trockenmittel umfassen, um Wasser, Sauerstoff und andere Substanzen zu absorbieren, die in die organische Einkapselungsschicht eindringen.
  • Wie in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 beispielsweise ferner eine Berührungsschicht 28, die sich auf der Seite der Einkapselungsschicht 147 entfernt von dem Basissubstrat 100 befindet. Die Berührungsschicht 28 umfasst mindestens eine Berührungsmetallschicht und eine berührungsisolierende Schicht 283. Die mindestens eine Berührungsmetallschicht beinhaltet eine erste Berührungsmusterschicht 282 und eine zweite Berührungsmusterschicht 281. Die erste Berührungsmusterschicht 282 umfasst eine erste Berührungssignalleitung Rx und eine zweite Berührungssignalleitung Tx, die abwechselnd verbunden sind, und die zweite Berührungsmusterschicht 281 ist auf der Seite der ersten Berührungsmusterschicht 282 nahe dem Basissubstrat angeordnet. Die berührungsisolierende Schicht 283 befindet sich zwischen der ersten Berührungsmusterschicht 282 und der zweiten Berührungsmusterschicht 281. Die zweite Berührungsmusterschicht 281 umfasst eine Vielzahl von erste Übergangsteile RL, die sich an den Positionen befinden, wo die ersten Berührungssignalleitungen Rx und die zweiten sich kreuzende Signalleitungen Tx berühren, und die Vielzahl von ersten Übergangsteile RL sind elektrisch mit den ersten Berührungssignalleitungen Rx durch die Durchgangslöcher verbunden, die durch die berührungsisolierende Schicht 283 verlaufen. Die zweite Berührungssignalleitung Tx und die erste Berührungssignalleitung Rx überlappen einander in der Richtung senkrecht zu der Substratoberfläche des Basissubstrats 100, um einen Berührungssensor zu bilden, und der Berührungssensor ist auch zwischen benachbarten zweiten Berührungssignalleitungen Tx und benachbarten ersten Berührungssignalleitungen Rx gebildet.
  • Beispielsweise können in anderen Ausführungsformen die erste Berührungsmusterschicht 282 und die zweite Berührungsmusterschicht 281 eine zweite Berührungssignalleitung Tx bzw. eine erste Berührungssignalleitung Rx umfassen. Die zweite Berührungssignalleitung Tx ist elektrisch mit der ersten Berührungssignalleitung Rx durch ein Durchgangsloch verbunden, das die berührungsisolierende Schicht 283 durchdringt, und die erste Berührungssignalleitung Rx ist durchgehend, so dass keine Notwendigkeit besteht, den ersten Übergangsteil bereitzustellen RL in diesem Fall. Die zweite Berührungssignalleitung Tx und die erste Berührungssignalleitung Rx überlappen einander in der Richtung senkrecht zur Substratoberfläche des Basissubstrats 200, um einen Berührungssensor zu bilden, und der Berührungssensor ist auch zwischen benachbarten zweiten Berührungssignalleitungen Tx gebildet und benachbarte erste Berührungssignalleitungen Rx.
  • Beispielsweise bestehen die erste Berührungsmusterschicht 282 und die zweite Berührungsmusterschicht 281 aus transparenten leitfähigen Materialien. Beispielsweise kann das transparente leitfähige Material ein transparentes leitfähiges Metalloxidmaterial sein, wie beispielsweise Indium-Zinn-Oxid (ITO), Indium-Zink-Oxid (IZO), Zinkoxid (ZnO), Aluminium-Zink-Oxid (AZO), Indium-Gallium-Zink-Oxid (IGZO) usw. Beispielsweise können in anderen Beispielen die zweite Berührungssignalleitung Tx und die erste Berührungssignalleitung Rx eine Metallgitterstruktur aufweisen, beispielsweise kann das Material des Metallgitters Gold (Au), Silber (Ag), Kupfer (Cu), Aluminium (Al), Molybdän (Mo), Magnesium (Mg), Wolfram (W) oder Legierungsmaterialien der oben genannten Metalle.
  • Beispielsweise ist in einigen Ausführungsformen die zweite Detektionssignalleitung FML in derselben Schicht wie die erste Berührungsmusterschicht 282 angeordnet.
  • Beispielsweise kann in anderen Ausführungsformen die zweite Detektionssignalleitung FML auch in derselben Schicht wie die zweite Berührungsmusterschicht 281 angeordnet sein.
  • Beispielsweise wie in 7 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 beispielsweise ferner eine Schutzschicht 284, die sich auf der Seite der Berührungsschicht 28 entfernt von dem Basissubstrat befindet. Beispielsweise kann das Material der Schutzschicht 284 isolierende Materialien wie Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Siliziumoxinitrid und Polymerharz umfassen. Die anorganischen Materialien wie Siliziumnitrid, Siliziumoxid, Siliziumoxynitrid usw. haben eine hohe Kompaktheit, die das Eindringen von Wasser, Sauerstoff usw. verhindern kann. Das Material wie Polymerharz kann die Oberfläche der Anzeigepanel ebnen und entlasten betonen.
  • In einigen Ausführungsformen, wie in 1 - Fig. In den 7 und 8 ist die zweite Detektionssignalleitung FML in der gleichen Schicht wie die Berührungsmetallschicht (beispielsweise die erste Berührungsmusterschicht 282 und/oder die zweite Berührungsmusterschicht 281) angeordnet, die erste Detektionssignalleitung BPL ist angeordnet in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 (zum Beispiel die zweite Elektrodenplatte 132 des Speicherkondensators 13), und die erste Stromleitung VSS ist in der gleichen Schicht wie die dritte Anzeigebereich-Metallschicht 303 angeordnet. Nachfolgend werden weitere Details unter Bezugnahme auf die Querschnittsansicht entlang der Linie B1-B2 in 6 gegeben.
  • Beispielsweise kann in anderen Ausführungsformen die erste Detektionssignalleitung BPL auch in derselben Schicht wie die Metallschicht 303 des dritten Anzeigebereichs angeordnet sein Anzeigebereich, wenn sowohl die erste Detektionssignalleitung BPL als auch die erste Stromleitung VSS in derselben Schicht wie die Metallschicht 303 des dritten Anzeigebereichs angeordnet sind, die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 hat keine Überlappung mit der orthografischen Projektion der ersten Detektionssignalleitung BPL auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100. Wenn die erste Detektionssignalleitung BPL in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 angeordnet ist und die erste Stromleitung VSS in der gleichen Schicht wie die dritte Anzeigebereich-Metallschicht 303 angeordnet ist, ist der Rand der ersten Stromleitung VSS nahe der ersten Detektionssignalleitung BPL kann sich weiter in Richtung der ersten Detektionssignalleitung BPL erstrecken, wenn der Randbereich 20 des Anzeigesubstrats 1 ausreichend Platz hat, so dass die orthographische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 den Bereich abdecken kann, wo die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten FML3 mit der orthographischen Projektion der ersten Detektionssignalleitung BPL überlappen (zum Beispiel das dritte Leitungssegment BPL3) auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100.
  • Beispielsweise kann, wie in 3 und 6 gezeigt, die Vielzahl von Signalleitungen CL mindestens eine Metallschicht umfassen; beispielsweise umfasst jede der Vielzahl von Signalleitungen CL zwei Metallschichten, die voneinander beabstandet sind; beispielsweise ist eine der zwei Metallschichten in derselben Schicht wie die erste Anzeigebereich-Metallschicht 301 angeordnet, und die andere der zwei Metallschichten ist in derselben Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 angeordnet. die zwei Metallschichten sind voneinander beabstandet und durch eine zweite Isolierschicht 1243 isoliert.
  • Beispielsweise erstrecken sich die Vielzahl von Signalleitungen CL jeweils auch bis zum Biegebereich 30 und sind im Biegebereich 30 mit entsprechenden Zuleitungen 3001 verbunden. Mindestens eine Metallschicht in der Zuleitung 3001 ist in derselben Schicht angeordnet als die vierte Anzeigebereich-Metallschicht 304. Beispielsweise ist die Metallschicht in den Vielzahl von Signalleitungen CL, die in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 angeordnet ist, mit der Leitung 3001 durch ein Durchgangsloch verbunden, und das Durchgangsloch durchdringt eine Vielzahl von Isolierschichten, die vorhanden sind in der gleichen Schicht wie die isolierende Zwischenschicht 1244, die erste Planarisierungsschicht 1245 und die Passivierungsschicht 1246 angeordnet.
  • Beispielsweise erstreckt sich die erste Stromleitung VSS auch bis zum Biegebereich 30 und ist im Biegebereich 30 mit der entsprechenden Zuleitung 3001 verbunden. Mindestens eine Metallschicht in der Zuleitung 3001 ist in derselben Schicht angeordnet wie die vierte Anzeigebereich-Metallschicht 304. Beispielsweise ist die Metallschicht in der ersten Stromleitung VSS, die in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht 302 angeordnet ist, mit der Leitung 3001 durch ein Durchgangsloch verbunden, und das Durchgangsloch durchdringt eine Vielzahl von angeordnete Isolierschichten in derselben Schicht wie die erste Planarisierungsschicht 1245 und die Passivierungsschicht 1246.
  • Es sollte beachtet werden, dass in der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung „in der gleichen Schicht angeordnet“ den Fall umfasst, in dem zwei Funktionsschichten oder Strukturschichten in der gleichen Schicht der hierarchischen Struktur des Anzeigesubstrats sind und ausgebildet sind aus dem gleichen Material; das heißt, in dem Herstellungsprozess können die zwei funktionellen Schichten oder strukturellen Schichten aus ein und derselben Materialschicht gebildet werden, und die erforderlichen Muster und Strukturen können durch ein und denselben Musterungsprozess gebildet werden. Ein einzelner Strukturierungsprozess umfasst beispielsweise Prozessschritte zum Bilden eines Photoresists, Belichten, Entwickeln und Ätzen.
  • Wie beispielsweise in 8 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 auf der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10 eine erste periphere Isolierschicht 2244 und eine zweite periphere Isolierschicht 2245. Die erste Detektionssignalleitung BPL ist auf der Seite der ersten peripheren Isolierschicht 2244 in der Nähe des Basissubstrats 100 angeordnet, die zweite periphere Isolierschicht 2245 auf der Seite der ersten peripheren Isolierschicht 2244 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet ist, und die zweite Detektionssignalleitung FML ist auf der Seite der zweiten peripheren Isolierschicht 2245 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet. Die erste periphere Isolierschicht 2244 ist in der gleichen Schicht wie die isolierende Zwischenschicht 1244 und die zweite periphere Isolierschicht angeordnet Schicht 2245 ist in derselben Schicht wie die erste Planarisierungsschicht 1245 angeordnet. Das zweite Durchgangsloch GK1 durchdringt zumindest die erste periphere Isolierschicht 2244 und die zweite periphere Isolierschicht 2245. Das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL und das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML sind in Reihe geschaltet durch das zweite Durchgangsloch GK1.
  • Wie beispielsweise in 8 gezeigt, umfasst das zweite Durchgangsloch GK1 ein erstes Sub-Via-Loch GK11 und ein zweites Sub-Via-Loch GK12. Das Anzeigesubstrat 1 umfasst ferner eine periphere Passivierungsschicht 2246, eine dritte periphere Isolierschicht 2251, eine vierte periphere Isolierschicht 2283, eine zweite Übergangselektrode ZL1 und eine dritte Übergangselektrode ZL2. Die periphere Passivierungsschicht 2246 ist zwischen der ersten peripheren Isolierschicht 2244 und der zweiten peripheren Isolierschicht 2245 angeordnet und ist in derselben Schicht wie die Passivierungsschicht 1246 angeordnet. Die dritte periphere Isolierschicht 2251 ist auf der Seite der zweiten Peripherie angeordnet Isolierschicht 2245 von dem Basissubstrat 100 weg. Die zweite Übergangselektrode ZL1 und die dritte Übergangselektrode ZL2 befinden sich zwischen der dritten peripheren Isolierschicht 2251 und der zweiten peripheren Isolierschicht 2245 und sind in der gleichen Schicht wie die erste Übergangselektrode 241 angeordnet. Die vierte periphere Isolierschicht 2283 ist angeordnet an der Seite der zweiten Übergangselektrode ZL1 und der dritten Übergangselektrode ZL2 entfernt von dem Basissubstrat 100. Die zweite Detektionssignalleitung FML ist auf der Seite der vierten peripheren Isolierschicht 2283 entfernt von dem Basissubstrat angeordnet. Das erste Sub-Via-Loch GK11 durchdringt die erste periphere Isolierschicht 2244, die periphere Passivierungsschicht 2246 und die zweite periphere Isolierschicht 2245 und ist so konfiguriert, dass es das zweite Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL freilegt. Das zweite Durchgangsloch GK12 durchdringt die dritte periphere Isolierschicht 2251 und die vierte periphere Isolierschicht 2283 und ist konfiguriert, um die zweite Übergangselektrode ZL1 freizulegen. Die zweite Übergangselektrode ZL1 ist mit dem zweiten Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL durch das erste Sub-Via-Loch GK11 verbunden, und ein Teil des zweiten Endes FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML ist mit der zweiten Übergangselektrode ZL1 verbunden durch das zweite Sub-Via-Loch GK12, um die Reihenschaltung zwischen dem zweiten Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML und dem zweiten Ende BPL2 der ersten Detektionssignalleitung BPL zu realisieren. Die zweite Übergangselektrode ZL1 kann das direkte Bilden eines Durchgangslochs mit einer relativ großen Öffnung in der Isolierschicht zwischen der ersten Detektionssignalleitung BPL und der zweiten Detektionssignalleitung FML vermeiden, wodurch die Qualität der elektrischen Verbindung durch das Durchgangsloch verbessert wird.
  • Beispielsweise ist, wie in 8 gezeigt, in der Richtung senkrecht zu der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 die Isolierschicht in derselben Schicht wie die Pixeldefinitionsschicht 1461 nicht zwischen dem zweiten Ende BPL2 vorgesehen die erste Detektionssignalleitung BPL und das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML, um die Filmdicke zu reduzieren und die Verbindungsqualität zwischen der ersten Detektionssignalleitung BPL und der zweiten Detektionssignalleitung FML zu verbessern.
  • Wie in 8 gezeigt, durchdringt beispielsweise das Neben-Durchgangsloch GK21 des dritten Durchgangslochs GK2 die dritte periphere Isolierschicht 2251 und die vierte periphere Isolierschicht 2283 und ist konfiguriert, um die zweite Übergangselektrode freizulegen ZL1. Das zweite Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML ist mit der zweiten Übergangselektrode ZL1 durch das Sub-Via-Loch GK21 des dritten Via-Lochs GK2 verbunden. Beispielsweise kann die zweite Übergangselektrode ZL1 in derselben Schicht angeordnet sein wie eine Metallschicht der Leitung 3001 des Biegebereichs 30, beispielsweise die Metallschicht, die in derselben Schicht angeordnet ist wie die Metallschicht 304 des vierten Anzeigebereichs; alternativ kann sich die zweite Übergangselektrode ZL1 in einer anderen Schicht als der Zuleitung 3001 des Biegebereichs 30 befinden und ist mit der Zuleitung 3001 des Biegebereichs 30 durch andere Sub-Via-Löcher des dritten Via-Lochs GK2 verbunden. Das Sub-Via-Loch GK31 des vierten Via-Lochs GK3 dringt durch die dritte periphere Isolierschicht 2251 und die vierte periphere Isolierschicht 2283 und ist konfiguriert, um die dritte Übergangselektrode ZL2 freizulegen. Das erste Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML ist mit der dritten Übergangselektrode ZL2 durch das Sub-Via-Loch GK31 des vierten Via-Lochs GK3 verbunden. Beispielsweise kann die dritte Übergangselektrode ZL2 in derselben Schicht angeordnet sein wie eine Metallschicht der Leitung 3001 des Biegebereichs 30, beispielsweise die Metallschicht, die in derselben Schicht angeordnet ist wie die Metallschicht 304 des vierten Anzeigebereichs; alternativ kann sich die dritte Übergangselektrode ZL2 in einer anderen Schicht als der Zuleitung 3001 des Biegebereichs 30 befinden und ist mit der Zuleitung 3001 des Biegebereichs 30 durch andere Sub-Via-Löcher des vierten Via-Lochs GK3 verbunden. Beispielsweise ist, wie in 8 gezeigt, die Ausführungsform, in der die zweite Übergangselektrode ZL1 und die dritte Übergangselektrode ZL2 in der gleichen Schicht wie die vierte Anzeigebereich-Metallschicht 304 angeordnet sind, beispielhaft dargestellt.
  • Beispielsweise ist, wie in 8 gezeigt, die Ausführungsform, in der die zweite Übergangselektrode ZL1 und die dritte Übergangselektrode ZL2 in der gleichen Schicht wie die vierte Anzeigebereich-Metallschicht 304 angeordnet sind, beispielhaft dargestellt.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass in der Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung Metallschichten (die beispielsweise die zweite Übergangselektrode ZL1 und die dritte Übergangselektrode ZL2 umfassen), die in der gleichen Schicht wie die erste Übergangselektrode 241 angeordnet sind, sind bereitgestellt in einem Bereich der orthografischen Projektionen des ersten Endes FML1 und des zweiten Endes FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100, um die Verbindungsqualität der zweiten Detektionssignalleitung FML zu verbessern.
  • In einigen Ausführungsformen, wie z. B. in 6 gezeigt, ist das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL mit der entsprechenden Leitung 3001 in dem Biegebereich 30 verbunden. Mindestens eine Metallschicht in der Leitung 3001 ist in derselben Schicht wie die Metallschicht 304 des vierten Anzeigebereichs angeordnet. Wenn beispielsweise die erste Detektionssignalleitung BPL in derselben Schicht wie die zweite Anzeigebereichsmetallschicht 302 angeordnet ist, ist das erste Ende BPL1 der ersten Detektionssignalleitung BPL mit der Leitung 3001 durch ein Durchgangsloch verbunden, das die zweite durchdringt periphere Isolierschicht 2245, die erste periphere Isolierschicht 2244 und die periphere Passivierungsschicht 2246.
  • Beispielsweise umfasst das Anzeigesubstrat 1 in einigen Ausführungsformen, wie in 6 gezeigt, ferner eine dritte Detektionssignalleitung BPL5. Das erste Ende BPL51 und das zweite Ende BPL52 der dritten Detektionssignalleitung BPL5 werden aus dem Biegebereich 30 herausgeführt. Beispielsweise sind das erste Ende BPL51 und das zweite Ende BPL52 der dritten Detektionssignalleitung BPL5 mit den Leitungen 3001 verbunden im Biegebereich 30. Die dritte Detektionssignalleitung BPL5 ist auf der Seite angeordnet, auf der sich die erste Detektionssignalleitung BPL und das Schieberegister GOA befinden (beispielsweise die zweite Seite S2 und die dritte Seite S3 des Anzeigebereichs), und die vierte Seite S4 gegenüber zu der ersten Seite S1 des Anzeigebereichs 10, das heißt, die dritte Detektionssignalleitung BPL5 wird um den Anzeigebereich 10 herum geführt. Die dritte Detektionssignalleitung BPL5 ist nicht mit der zweiten Detektionssignalleitung FML verbunden und erfasst unabhängig das PCD-Signal, das anzeigt, dass das TFT-Schichtmetall des Anzeigesubstrats Risse aufweist. Die dritte Detektionssignalleitung BPL5 ist auf der Seite des ersten Endes FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML entfernt von dem zweiten Ende FML2 der zweiten Detektionssignalleitung FML angeordnet, das heißt, zwischen der Vielzahl von Signalleitungen CL und der angeordnet erstes Ende FML1 der zweiten Detektionssignalleitung FML.
  • Beispielsweise hat, wie in 6 gezeigt, das Verdrahtungslayout der dritten Detektionssignalleitung BPL5 eine Form, die ungefähr dieselbe ist wie diejenige der ersten Detektionssignalleitung BPL. Beispielsweise umfasst die dritte Detektionssignalleitung BPL5 ferner ein fünftes Leitungssegment BPL53, das mit dem ersten Ende BPL51 verbunden ist, und ein fünftes Leitungssegment BPL54, das mit dem zweiten Ende BPL2 verbunden ist. Die fünften Leitungssegmente BPL53 und BPL54 sind parallel (z. B. ungefähr parallel) zu den vierten Leitungssegmenten BPL41 und BPL42. Daher wird Verdrahtungsraum eingespart.
  • Wie beispielsweise in 5 gezeigt, umfasst die dritte Detektionssignalleitung BPL5 ferner ein sechstes Leitungssegment BPL55, das mit dem fünften Leitungssegment BPL53 verbunden ist, und ein sechstes Leitungssegment BPL56, das mit dem fünften Leitungssegment BPL54 verbunden ist. Das sechste Leitungssegment BPL55 und das fünfte Leitungssegment BPL54 sind parallel (zum Beispiel ungefähr parallel) zu dem dritten Leitungssegment BPL31 und dem dritten Leitungssegment BPL32. Das sechste Leitungssegment BPL55 und das fünfte Leitungssegment BPL54 sind zwischen dem dritten Leitungssegment BPL32 und der Vielzahl von Signalleitungen CL angeordnet. Daher wird Verdrahtungsraum eingespart.
  • Beispielsweise tritt, wie in 6 gezeigt, eine Krümmung zwischen dem zweiten Leitungssegment FML42 und dem ersten unterbrochenen Leitungssegment FML52 der zweiten Detektionssignalleitung FML auf. Die Ecke C1 an der Verbindungsstelle des zweiten Leitungssegments FML42 und des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML52 ist ein stumpfer Winkel. Beispielsweise ist der Wertebereich der Ecke C1 beispielsweise größer als 90°, beispielsweise etwa 110°. Zwischen dem zweiten Leitungssegment FML41 und dem ersten unterbrochenen Leitungssegment FML51 der zweiten Detektionssignalleitung FML tritt eine Krümmung auf. Die Ecke C2 an der Verbindungsstelle des zweiten Leitungssegments FML41 und des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML51 ist ein stumpfer Winkel. Beispielsweise ist der Wertebereich der Ecke C2 beispielsweise größer als 90°, beispielsweise etwa 110°. Zwischen dem vierten Leitungssegment BPL41 und dem dritten Leitungssegment BPL31 der ersten Detektionssignalleitung BPL tritt eine Krümmung auf. Die Ecke C3 an der Verbindungsstelle des vierten Leitungssegments BPL41 und des dritten Leitungssegments BPL31 ist ein stumpfer Winkel. Beispielsweise ist der Wertebereich der Ecke C3 beispielsweise größer als 90°, beispielsweise etwa 110°. Beispielsweise kann die Ecke an der Verbindungsstelle des vierten Leitungssegments BPL42 und des dritten Leitungssegments BPL32 der ersten Detektionssignalleitung BPL die gleiche Größe wie die Ecke C3 haben, was hier nicht im Detail beschrieben wird. Daher wird der Verdrahtungsraum reduziert.
  • Beispielsweise liegt, wie in 6 gezeigt, die Breite H1 der Ecke C1, die an der Verbindungsstelle des zweiten Leitungssegments FML42 und des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML52 gebildet wird, beispielsweise im Wertebereich von 32 - 40 Mikrometer, beispielsweise etwa 36 Mikrometer. Beispielsweise liegt die Breite H2 der an der Verbindungsstelle des zweiten Leitungssegments FML41 und des ersten unterbrochenen Leitungssegments FML51 gebildeten Ecke C2 beispielsweise im Wertebereich von 32 - 40 Mikrometer, beispielsweise etwa 36 Mikrometer. Beispielsweise liegt der Abstand H3 zwischen der Ecke C1 und der Ecke C2 im Wertebereich von 40 - 60 Mikrometer, beispielsweise etwa 50 Mikrometer. Beispielsweise liegt der Abstand H4 zwischen dem zweiten Leitungssegment FML42 und dem zweiten Leitungssegment FML41 im Wertebereich von beispielsweise 15 - 20 Mikrometer, beispielsweise etwa 18 Mikrometer. Daher wird der Verdrahtungsraum reduziert.
  • Beispielsweise können in anderen Ausführungsformen in dem Bereich, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet, die zweite Detektionssignalleitung FML und die erste Detektionssignalleitung BPL angeordnet sein so verlegt werden, dass sie sich mit der Vielzahl von Signalleitungen CL kreuzen, um den Verdrahtungsraum zu reduzieren; und die erste Stromleitung VSS kann die Rolle der Signalabschirmung spielen und die Interferenz zwischen verschiedenen Leitungen reduzieren. Beispielsweise wird, wie beispielsweise in 4 gezeigt, die erste Detektionssignalleitung BPL parallel zu den Vielzahl von Signalleitungen CL geführt. Die zweite Detektionssignalleitung FML und die erste Detektionssignalleitung BPL können die Vielzahl von Signalleitungen CL außerhalb des Bereichs kreuzen, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung VSS auf der Substratoberfläche S des Basissubstrats 100 befindet.
  • Beispielsweise werden, wie in 5 gezeigt, die Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 der ersten Detektionssignalleitung BPL parallel geführt; und der Abstand der Vielzahl von dritten Leitungssegmente BPL3 in der Richtung senkrecht zur Leitrichtung ist beispielsweise größer oder gleich 1 Mikrometer, beispielsweise etwa 1 Mikrometer, um die Interferenz zwischen Signalen zu verringern oder zu vermeiden Erzeugung von parasitären Kapazitäten.
  • Wie in 8 gezeigt, umfasst das Anzeigesubstrat 1 beispielsweise ferner eine periphere Sperrschicht 2240, eine periphere Pufferschicht 2241, eine erste periphere Gate-Isolierschicht 2242, eine zweite periphere Gate-Isolierschicht 2243 und eine Peripherie Schutzschicht 2284. Die periphere Sperrschicht 2240 ist auf dem Basissubstrat 100 angeordnet und ist in derselben Schicht wie die Sperrschicht 1240 angeordnet. Die periphere Pufferschicht 2241 ist auf der Seite der peripheren Sperrschicht 2240 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet und ist in der gleichen Schicht wie die Pufferschicht 1241 angeordnet. Die erste periphere Gate-Isolierschicht 2242 ist auf der Seite der angeordnet periphere Pufferschicht 2241 vom Basissubstrat 100 entfernt und ist in der gleichen Schicht wie die erste Isolierschicht 1242 angeordnet. Die zweite periphere Gate-Isolierschicht 2243 ist auf der Seite der ersten peripheren Gate-Isolierschicht 2242 entfernt von dem Basissubstrat 100 angeordnet und ist in der gleichen Schicht wie die zweite isolierende Schicht 1243 angeordnet. Die periphere Schutzschicht 2284 ist an der angeordnet Seite der zweiten Detektionssignalleitung FML weg von dem Basissubstrat 100 und ist in der gleichen Schicht wie die Schutzschicht 284 angeordnet. Daher wird der Herstellungsprozess vereinfacht.
  • 9 ist ein schematisches Diagramm einer Anzeigevorrichtung, die von mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird.
  • Mindestens eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung stellt auch eine Anzeigevorrichtung bereit. 9 ist ein schematisches Diagramm einer Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Wie in 9 gezeigt, umfasst die Anzeigevorrichtung 2 ein Anzeigesubstrat 1, das durch eine beliebige Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bereitgestellt wird, und ein Signaleingabeelement. Beispielsweise wird das in 1 gezeigte Anzeigesubstrat 1 als Anzeigesubstrat 1 verwendet.
  • Wie in 9 gezeigt, wird der Abschnitt des Anzeigesubstrats 1, der sich in dem Randbereich 20 befindet, auf die Rückseite des Abschnitts DS des Anzeigesubstrats 1 gebogen, der sich in dem Anzeigebereich 10 befindet. Zum Beispiel die Rückseite Seite bezieht sich auf die Betriebsseite des Anzeigesubstrats 1 (oder die gegenüberliegende Seite, wo die Vielzahl von Subpixeln P111 bereitgestellt ist). Wenn das Basissubstrat 100 ein flexibles Basissubstrat annimmt, wird der Biegevorgang des Biegebereichs 30 des Anzeigesubstrats 1 erleichtert. Die durch den Biegeprozess geformte Anzeigevorrichtung 2 hat einen schmalen Rand. Beispielsweise umfasst das Signaleingangselement einen Datentreiberschaltkreis IC. Beispielsweise kann die Datentreiberschaltung IC mit dem Verbindungsbereich 40 des Anzeigesubstrats 1 verbunden werden. Die Datentreiberschaltung IC liefert das Anzeigesignal des Anzeigesubstrats 1 in der Anzeigestufe, so dass die Subpixel P111 ein Bild anzeigen.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass die Anzeigevorrichtung 2 jedes Produkt oder jede Komponente mit Anzeigefunktion sein kann, wie z. usw. Die Anzeigevorrichtung 2 kann auch andere Komponenten umfassen, wie etwa eine Datentreiberschaltung, eine Zeitsteuerung usw., und die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt.
  • Es sei darauf hingewiesen, dass die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung aus Gründen der Klarheit und Prägnanz nicht alle Bestandteile der Anzeigevorrichtung zeigen. Um die grundlegende(n) Substratfunktion(en) der Anzeigevorrichtung zu realisieren, können Fachleute andere nicht gezeigte Strukturen gemäß spezifischen Anforderungen bereitstellen und konfigurieren, und die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung sind nicht darauf beschränkt.
  • Für die technischen Wirkungen der in den obigen Ausführungsformen bereitgestellten Anzeigevorrichtung 2 wird auf die technischen Wirkungen des in den Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung bereitgestellten Anzeigesubstrats 1 verwiesen, die hier nicht wiederholt werden.
  • Folgende Punkte bedürfen der Erläuterung:
    1. (1) Die Zeichnungen der Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung beziehen sich nur auf die Strukturen, die sich auf die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung beziehen, und andere Strukturen können sich auf das allgemeine Design beziehen.
    2. (2) Konfliktfrei können die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung und die Merkmale in den Ausführungsformen miteinander kombiniert werden, um neue Ausführungsform(en) zu erhalten.
  • Das Obige sind nur die spezifischen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung, aber der Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. Jede Person, die mit diesem technischen Gebiet vertraut ist, kann sich innerhalb des in der vorliegenden Offenbarung offenbarten technischen Umfangs leicht Änderungen oder Ersetzungen vorstellen, die in den Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung fallen sollten. Daher sollte der Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung auf dem Schutzumfang der Ansprüche basieren.

Claims (20)

  1. Anzeigesubstrat, umfassend: ein Basissubstrat, das einen Anzeigebereich und einen den Anzeigebereich umgebenden Peripheriebereich umfasst, wobei der Anzeigebereich ein Pixelarray umfasst, das eine Vielzahl von Subpixeln umfasst, und wobei der Peripheriebereich einen Biegebereich, der sich auf einer ersten Seite des Anzeigebereichs befindet und ein Schieberegister umfasst, das sich auf mindestens einer von einer zweiten Seite oder einer dritten Seite des Anzeigebereichs befindet, wobei die erste Seite benachbart zu der zweiten Seite und der dritten Seite ist, die Vielzahl von Signalleitungen, wobei ein Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen aus dem Biegebereich herausgeführt ist und das andere Ende jeder der Vielzahl von Signalleitungen mit dem Schieberegister verbunden ist, eine erste Stromleitung, die aus dem Biegebereich herausgeführt ist und um den Anzeigebereich geführt ist, mindestens eine erste Detektionssignalleitung, die auf mindestens einer von einer Seite, wo sich das Schieberegister befindet, und einer vierten Seite gegenüber der ersten Seite des Anzeigebereichs angeordnet ist, wobei ein erstes Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung aus dem Biegebereich herausgeführt ist und mindestens eine zweite Detektionssignalleitung, die auf mindestens einer von der Seite, wo sich das Schieberegister befindet, und der vierten Seite angeordnet ist, wobei ein erstes Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung aus dem Biegebereich herausgeführt ist, wobei auf einer Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb eines Bereichs, in dem sich eine orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf einer Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, eine orthographische Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat, und eine orthographische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats keine Überlappung mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats hat.
  2. Anzeigesubstrat nach Anspruch 1, wobei auf der ersten Seite des Anzeigebereichs, in dem Bereich, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, die orthographische Projektion der zumindest eine zweite Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappt.
  3. Anzeigesubstrat nach Anspruch 2, wobei ein Bereich, in dem die orthographische Projektion der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappt, vollständig von dem Bereich bedeckt ist, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet.
  4. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-3, wobei auf der ersten Seite des Anzeigebereichs ein zweites Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung mit einem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung in Reihe verbunden ist.
  5. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-4, wobei auf der ersten Seite des Anzeigebereichs und in einer Richtung senkrecht zur Substratoberfläche des Basissubstrats, eine Filmschicht, in der sich zumindest ein Teil der ersten Stromleitung befindet, sich zwischen einer Filmschicht, in der sich die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung befindet, und einer Filmschicht, in der sich die Vielzahl von Signalleitungen befinden, befindet.
  6. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-5, wobei auf der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, in dem sich die orthografische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, die Vielzahl von Signalleitungen parallel geführt sind, zumindest ein Teil der Leitungssegmente der zumindest einen ersten Detektionssignalleitung und zumindest ein Teil der Leitungssegmente der zumindest einen zweiten Detektionssignalleitung parallel zu der Vielzahl von Signalleitungen geführt sind, und die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung sich auf einer von der Vielzahl von Signalleitungen entfernten Seite der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung befindet.
  7. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-6, wobei auf der ersten Seite des Anzeigebereichs, die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung eine Vielzahl von ersten Leitungssegmenten umfasst, die jeweils mit dem ersten Ende und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung, und die Vielzahl von ersten Leitungssegmenten sich entlang einer ersten Richtung erstrecken, in dem Bereich, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, orthographische Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen.
  8. Anzeigesubstrat nach Anspruch 7, wobei ein Bereich, in dem die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats mit den orthographischen Projektionen der Vielzahl von Signalleitungen auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen, eine Länge im Bereich von 220 Mikrometer bis 260 Mikrometer in der ersten Richtung aufweist.
  9. Anzeigesubstrat nach Anspruch 7 oder 8, wobei auf der Seite nahe dem Biegebereich und außerhalb des Bereichs, in dem sich die orthographische Projektion der ersten Stromleitung auf der Substratoberfläche des Basissubstrats befindet, die orthographischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats auch mit der orthografischen Projektion der mindestens einen ersten Detektionssignallinie auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen.
  10. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 7-9, wobei die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten umfasst, wobei eines der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten mit dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch eines der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten verbunden ist, ein anderes der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten mit dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch ein anderes der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten verbunden ist, und die Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten sich zwischen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten und dem Biegebereich befinden, und die zweiten Leitungssegmenten entlang einer Richtung geführt werden, die sich mit der ersten Richtung schneidet, die mindestens eine erste Detektionssignalleitung eine Vielzahl von dritten Leitungssegmenten umfasst, die jeweils mit dem ersten Ende und dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung verbunden sind, orthografische Projektionen der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche das Basissubstrat mit den orthografischen Projektionen der Vielzahl von ersten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen, und die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten parallel zu den Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten geführt und angeordnet sind, die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten sich auf einer in der Nähe des Anzeigebereichs liegenden Seite der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten befinden, und sich zwischen der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von Signalleitungen befinden.
  11. Anzeigesubstrat nach Anspruch 10, wobei in einer Führungsrichtung senkrecht zu der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten, die Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und die Vielzahl von dritten Leitungssegmenten parallel zu Leitungssegmenten der Vielzahl von Signalleitungen geführt sind, die den zweiten Leitungssegmenten und den dritten Leitungssegmenten entsprechen.
  12. Anzeigesubstrat nach Anspruch 11, wobei das zweite Leitungssegment, das mit dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, benachbart zu dem dritten Leitungssegment ist, das mit dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung verbunden ist, und in der Führungsrichtung senkrecht zu der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten, eine Intervallbreite zwischen dem zweiten Leitungssegment und dem dritten Leitungssegment, die benachbart sind, in einem Wertebereich von 2 Mikrometer bis 3 Mikrometer liegt.
  13. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 10-12, wobei auf einer in der Nähe des Anzeigebereichs liegenden Seite des Biegebereichs, eine Position, an der das zweite Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und das zweite Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung in Reihe verbunden sind, sich zwischen dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung und dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung befindet, das erste Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung sich auf einer von der Vielzahl von Signalleitungen entfernten Seite des ersten Endes der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung befindet.
  14. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 10-13, wobei die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von zueinander parallelen ersten unterbrochenen Leitungssegmenten umfasst, wobei eines der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten mit einem der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und dem ersten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, ein anderes der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten mit einem anderen der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung verbunden ist, eine Leitungsbreite der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten größer als die der Vielzahl von zweiten Leitungssegmenten ist.
  15. Anzeigesubstrat nach Anspruch 14, wobei zumindest ein Teil der Leitungssegmenten der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten in einer zweiten Richtung geführt sind, die sich von der ersten Richtung unterscheidet.
  16. Anzeigesubstrat nach Anspruch 14 oder 15, wobei die mindestens eine erste Detektionssignalleitung ferner eine Vielzahl von vierten Leitungssegmenten umfasst und die Vielzahl von vierten Leitungssegmenten entlang der ersten Richtung geführt sind, eines der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten mit dem ersten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung durch eines der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten verbunden ist, ein anderes der Vielzahl von dritten Leitungssegmenten mit dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung durch ein anderes der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten verbunden ist, orthografische Projektionen der Vielzahl von vierten Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats jeweils mit einer orthografischen Projektion von mindestens einem der Vielzahl von ersten unterbrochenen Leitungssegmenten auf der Substratoberfläche des Basissubstrats überlappen.
  17. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-16, wobei das Subpixel eine Pixelstruktur umfasst, die eine Pixeltreiberschaltung, eine erste Planarisierungsschicht und ein lichtemittierendes Element umfasst, wobei die Pixeltreiberschaltung eine erste Anzeigebereich-Metallschicht, eine zweite Anzeigebereich-Metallschicht, eine dritte Anzeigebereich-Metallschicht, eine erste Isolierschicht, eine zweite Isolierschicht, eine Zwischenschicht-Isolierschicht, die erste Planarisierungsschicht und eine Pixeldefinitionsschicht umfasst, wobei sich die erste Planarisierungsschicht auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Pixeltreiberschaltung befindet, um eine erste Planarisierungsoberfläche bereitzustellen, und die erste Planarisierungsschicht ein erstes Durchgangsloch umfasst, das lichtemittierende Element eine erste Elektrode, eine zweite Elektrode und eine lichtemittierende Schicht umfasst, die sich zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode befindet, wobei sich die erste Elektrode auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Planarisierungsschicht befindet, die erste Elektrode durch das erste Durchgangsloch elektrisch mit der dritten Anzeigebereich-Metallschicht der Pixeltreiberschaltung verbunden ist, die Pixeldefinitionsschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Elektrode befindet, und die Pixeldefinitionsschicht einen lichtemittierenden Bereich des lichtemittierenden Elements definiert, die erste Isolierschicht sich auf dem Basissubstrat befindet, die erste Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Isolierschicht befindet, die zweite Isolierschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten Anzeigebereich-Metallschicht befindet, die zweite Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der zweiten Isolierschicht befindet, die Zwischenschicht-Isolierschicht sich zwischen der ersten Planarisierungsschicht und der zweiten Isolierschicht befindet, und die dritte Anzeigebereich-Metallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Zwischenschicht-Isolierschicht befindet, das Anzeigesubstrat ferner eine Verkapselungsschicht und eine Berührungsmetallschicht umfasst, wobei sich die Verkapselungsschicht auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite des lichtemittierenden Elements befindet, und die Berührungsmetallschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der Verkapselungsschicht befindet, wobei die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung mindestens in der gleichen Schicht wie die Berührungsmetallschicht angeordnet ist, die zumindest eine erste Detektionssignalleitung zumindest in der gleichen Schicht wie die zweite Anzeigebereich-Metallschicht angeordnet ist, und die erste Stromleitung zumindest in der gleichen Schicht wie die dritte Anzeigebereich-Metallschicht angeordnet ist.
  18. Anzeigesubstrat nach Anspruch 17, ferner umfassend ein zweites Durchgangsloch, eine erste periphere Isolierschicht und eine zweite periphere Isolierschicht, wobei die mindestens eine erste Detektionssignalleitung sich auf einer in der Nähe des Basissubstrats liegenden Seite der ersten peripheren Isolierschicht befindet, die zweite periphere Isolierschicht sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der ersten peripheren Isolierschicht befindet, und die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung sich auf einer von dem Basissubstrat entfernten Seite der zweiten peripheren Isolierschicht befindet, die erste periphere Isolierschicht in der gleichen Schicht wie die Zwischenschicht-Isolierschicht angeordnet ist, die zweite periphere Isolierschicht in der gleichen Schicht wie die erste Planarisierungsschicht angeordnet ist, das zweite Durchgangsloch durch mindestens die erste periphere Isolierschicht und die zweite periphere Isolierschicht hindurchdringt, und das zweite Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und das zweite Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung durch das zweite Durchgangsloch in Reihe verbunden sind, und in einer Richtung senkrecht zur Substratoberfläche des Basissubstrats, zumindest nicht zwischen dem zweiten Ende der mindestens einen ersten Detektionssignalleitung und dem zweiten Ende der mindestens einen zweiten Detektionssignalleitung eine Isolierschicht vorgesehen ist, die in der gleichen Schicht wie die Pixeldefinitionsschicht angeordnet ist.
  19. Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-18, wobei auf der sich das Schieberegister befindenden Seite des Anzeigesubstrats, die mindestens eine erste Detektionssignalleitung und die mindestens eine zweite Detektionssignalleitung sich auf einer von dem Anzeigebereich entfernten Seite des Schieberegisters befindet.
  20. Anzeigevorrichtung, umfassend das Anzeigesubstrat nach einem der Ansprüche 1-19.
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