DE112018007098T5

DE112018007098T5 - Statischer eliminator und bilderzeugnisvorrichtung

Info

Publication number: DE112018007098T5
Application number: DE112018007098.0T
Authority: DE
Inventors: Gouo Kurata; Yoshinori Ito; Shotaro Watanabe; Norikazu Kitamura
Original assignee: Omron Corp; Omron Tateisi Electronics Co
Current assignee: Omron Corp
Priority date: 2018-02-15
Filing date: 2018-12-05
Publication date: 2020-10-29
Also published as: WO2019159503A1; JPWO2019159503A1; JP7060076B2

Abstract

Ein statischer Eliminator wird realisiert, der die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche der Lichtleiterplatte ausgestrahlten Lichts gleichmäßiger machen kann und die Lichtleiterplatte eine kleine Dicke aufweist. Statischer Eliminator (10) ist mit einer Lichtquelle (11) und einer Lichtleiterplatte (20) versehen. Die Lichtleiterplatte (20) ist mit einer Lichteinfallsfläche (20a), auf die Licht von der Lichtquelle (11) eingestrahlt wird, einer Lichtreflexionsfläche (20b) mit mehreren Strahlengangänderungsabschnitten (21) zum Reflektieren des von der Lichteinfallsfläche (20a) eingestrahlten Lichts an einer Reflexionsfläche, sowie einer Lichtausfallsfläche, die parallel zur Lichtreflexionsfläche (20b) ist und das an den Strahlengangänderungsabschnitten (21) reflektierte Licht ausstrahlt, wobei entsprechend dem Abstand von der Lichteinfallsfläche (20a) der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro kurzen Bereich der Lichtreflexionsfläche (20b) unterschiedlich ist.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung betrifft einen statischen Eliminator, der durch Bestrahlung mit Licht statische Elektrizität von einem Fotoleiter eliminiert, und eine Bilderzeugungsvorrichtung mit dem statischen Eliminator.
HINTERGRUNDTECHNIK
Mit einer elektrophotographischen Bilderzeugungsvorrichtung wird die Bilderzeugung (Drucken) in den folgenden Prozessen vorgenommen. Zunächst wird die Fläche eines Fotoleiters (z. B. einer Fotoleitertrommel), der als Bildträger wirkt, elektrostatisch aufgeladen, und der geladene Bereich wird mit Laserlicht bildweise belichtet, um ein elektrostatisches latentes Bild zu erzeugen. Als nächstes wird das auf dem Fotoleiter erzeugte elektrostatische latente Bild als Tonerbild entwickelt, und das entwickelte Tonerbild wird auf einen Zwischenübertragungskörper wie ein Zwischenübertragungsband oder ein Aufzeichnungsmaterial wie ein Aufzeichnungsblatt elektrostatisch übertragen.
Die elektrophotographische Bilderzeugungsvorrichtung ist mit einem statischen Eliminator zum Entfernen von Ladung auf der Fläche des Fotoleiters vor elektrischer Aufladung der Fläche des Fotoleiters versehen. Ein solcher statischer Eliminator ist bspw. in Patentdokument 1 offenbart.
Der in Patentdokument 1 offenbarte statische Eliminator weist eine Lichteinfallsfläche, auf die das Licht von der Lichtquelle einfällt, und eine Lichtausfallsfläche auf, von der das auf die Lichteinfallsfläche einfallende Licht ausfällt, wobei an der Außenumfangsfläche abgesehen von der Lichteinfallsfläche und der Lichtausfallsfläche ein lichtreflektierendes Teil vorgesehen ist. Mit der obigen Ausbildung wird die Lichtmenge des Lichts erhöht, mit dem der Fotoleiter bestrahlt wird.
ERMITTELTER SCHRIFT
PATENTDOKUMENT
Patentdokument 1: JP Patentoffenlegungsschrift Nr. 2016-161796 (veröffentlicht am 05. 09. 2016)
ÜBERSICHT DER ERFINDUNG
ZU LÖSENDE AUFGABE DER ERFINDUNG
Bei der Technik des Patentdokuments 1 ist jedoch ein unebener Abschnitt zum Reflektieren von Licht in Richtung der Lichtausfallsfläche auf der der Lichtausfallsfläche abgewandten Seite gebildet. Der unebene Abschnitt erstreckt sich entlang der Dickenrichtung einer Lichtleiterplatte, jeder unebene Abschnitt ist gleich groß und ist entlang der Richtung senkrecht zur Lichteinfallsfläche in gleichen Abständen gebildet. Daher besteht das Problem, dass die Lichtmenge des von einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche ausgestrahlten Lichts und die Lichtmenge des von einem Bereich entfernt von der Lichtausfallsfläche ausgestrahlten Lichts deutlich unterschiedlich sind.
Ferner offenbart das Patentdokument 1 eine Technik zum Verringern des Abstands zwischen der Lichtausfallsfläche und der abgewandten Seitenfläche mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche, um die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche abgestrahlten Lichts gleichmäßig zu machen. Zur Realisierung der betreffenden Struktur ist es jedoch notwendig, die Dicke zwischen der Lichtausfallsfläche und der abgewandten Seitenfläche der Lichtleiterplatte zu erhöhen, so dass ein Problem besteht, dass der statische Eliminator groß wird.
Ein Aspekt der vorliegenden Erfindung bezweckt die Realisierung eines statischen Eliminators, der die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche der Lichtleiterplatte ausgestrahlten Lichts gleichmäßiger machen kann und eine geringe Dicke der Lichtleiterplatte aufweist.
MITTEL ZUM LÖSEN DER AUFGABE
Zum Lösen der obigen Probleme ist ein statischer Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung mit einer Lichtquelle und einer Lichtleiterplatte versehen, die von der Lichtquelle eingestrahltes Licht leitet und das geleitete Licht ausstrahlt, wobei die Lichtleiterplatte mit einer Lichteinfallsfläche, auf die Licht von der Lichtquelle eingestrahlt wird, einer ersten Fläche, die senkrecht zu der Lichteinfallsfläche ist und eine Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten zum Reflektieren des von der Lichteinfallsfläche eingestrahlten Lichts an einer Reflexionsfläche umfasst, sowie einer zweiten Fläche versehen ist, die parallel zur ersten Fläche ist und das an den Reflexionsstrukturabschnitten reflektierte Licht ausstrahlt, wobei entsprechend dem Abstand von der Lichteinfallsfläche der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit der ersten Fläche unterschiedlich ist.
EFFEKTE DER ERFINDUNG
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung werden Effekte erzielt, dass ein Kohlenstoffnanoröhrchen-Wachstumssubstrat realisiert wird, das beim Erhitzen eines Kohlenstoffnanoröhrchen-Wachstumssubstrats auf eine Kohlenstoffnanoröhrchen-Wachstumstemperatur keine Risse in der Zwischenschicht verursacht, selbst wenn die Erhitzung mit einer hohen Aufheizgeschwindigkeit erfolgt.
Figurenliste

1 ist eine vergrößerte Ansicht einer Bilderzeugungsvorrichtung um eine Fotoleitertrommel, die in einer Bilderzeugungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform 1 der vorliegenden Erfindung vorgesehen ist.
2 ist eine perspektivische Ansicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators zeigt, der in der Bilderzeugungsvorrichtung vorgesehen ist.
3 ist eine perspektivische Ansicht, die die Ausbildung einer Lichtleiterplatte zeigt, die in dem statischen Eliminator vorgesehen ist.
4 ist eine Draufsicht auf die Lichtleiterplatte.
5(a) ist eine perspektivische Ansicht, die eine Form eines Strahlengangänderungsabschnitts zeigt, der auf der Lichtleiterplatte gebildet ist, und 5(b) ist eine perspektivische Ansicht, die eine Form eines Strahlengangänderungsabschnitts als abgewandeltes Beispiel des Strahlengangänderungsabschnitts zeigt.
6 ist eine Ansicht, die die Struktur eines Gehäuses zeigt, das in dem statischen Eliminator vorgesehen ist.
7 ist ein Blockdiagramm, das die Ausbildung des Hauptteils des statischen Eliminators zeigt.
8(a) ist eine Draufsicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators zeigt, und 8(b) ist eine Draufsicht, die die Ausbildung des statischen Eliminators gemäß der Ausführungsform 1 zeigt.
9 ist eine Draufsicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators zeigt.
10(a) und 10(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 10(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 10(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
11(a) und 11(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 11(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 11(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
12(a) und 12(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 12(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 12 (b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
13 zeigt die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators und ist eine Draufsicht auf den statischen Eliminator.
14(a) und 14(b) sind Ansichten zur Erläuterung der Effekte des statischen Eliminators.
15 ist eine Ansicht, die eine Bilderzeugungsvorrichtung mit einem Abschirmteil zeigt.
16 ist eine Draufsicht, die eine Lichtleiterplatte als abgewandeltes Beispiel der im statischen Eliminator vorgesehenen Lichtleiterplatte F zeigt.
17(a) und 17(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 17(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 17(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
18(a) und 18(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 18(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 18(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
19(a) und 19(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 19(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 19(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
20 zeigt die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators und ist eine Draufsicht auf den statischen Eliminator.
21 ist eine Ansicht zur Erläuterung der Effekte des statischen Eliminators 10.
22(a) und 22(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 22(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 22(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
23(a) und 23(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 23(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 23(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.
24(a) und 24(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators als weiteres abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators, wobei 24(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator ist und 24(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators ist.

AUSFÜHRUNGSFORM DER ERFINDUNG
[Ausführungsform 1]
Im Folgenden wird eine Ausführungsform gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung (im Folgenden auch als „vorliegende Ausführungsform“ bezeichnet) unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert. Die im Folgenden erläuterte vorliegende Ausführungsform ist jedoch in jeder Hinsicht lediglich Beispiele der vorliegenden Erfindung. Es ist selbstverständlich, dass verschiedene Verbesserungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne vom Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. D. h., bei der Ausführung der vorliegenden Erfindung kann eine konkrete Ausbildung entsprechend der Ausführungsform in geeigneter Weise aufgenommen werden.
§1 Anwendungsbeispiel
Zunächst wird ein Beispiel eines Falls, auf den die vorliegende Erfindung angewendet wird, unter Bezugnahme auf die 2 bis 4 erläutert. 2 ist eine perspektivische Ansicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators 10 zeigt. 3 ist eine perspektivische Ansicht, die die Ausbildung einer Lichtleiterplatte 20 zeigt. In der folgenden Erläuterung kann ggf. die in 3 gezeigte X-Achsenrichtung als Längenrichtung, die Y-Achsenrichtung als Breitenrichtung und die Z-Achsenrichtung als Höhenrichtung bezeichnet werden. 4 ist eine Draufsicht auf die Lichtleiterplatte 20.
Wie in 2 gezeigt, ist ein statischer Eliminator 10 mit einer Lichtquelle 11, einer Lichtleiterplatte 20, einem optischen Sensor 12 und einem Gehäuse 13 versehen und bestrahlt eine in einer Bilderzeugungsvorrichtung 1 vorgesehene Fotoleitertrommel 2 mit Licht. Die Lichtleiterplatte 20 ist ein Teil, das das von der Lichtquelle 11 eingestrahlte Licht leitet und das geleitete Licht zur Fotoleitertrommel 2 hin abstrahlt.
Wie in 3 gezeigt, ist die Lichtleiterplatte 20 quaderförmig und mit einer Lichteinfallsfläche 20a, einer Lichtreflexionsfläche 20b (erste Fläche), einer Lichtausfallsfläche 20c (zweite Fläche), einer der Lichteinfallsfläche 20a gegenüberliegenden Fläche 20d, einer Seitenfläche 20e und einer Seitenfläche 20f versehen.
Die Lichteinfallsfläche 20a ist eine Fläche, auf der die Lichtquelle 11 angebracht ist, und Licht von der Lichtquelle 11 in das Innere der Lichtleiterplatte 20 einfällt. Die Lichtreflexionsfläche 20b ist eine Fläche senkrecht zur Lichteinfallsfläche 20a und auf der Lichtreflexionsfläche ist ein Strahlengangänderungsabschnitt 21 (Reflexionsstrukturabschnitt) gebildet, der das von der Lichteinfallsfläche 20a eingestrahlte Licht zur Lichtausfallsfläche 20c hin reflektiert. Die Lichtausfallsfläche 20c ist eine Fläche parallel zur Lichtreflexionsfläche 20b und strahlt das von dem Strahlengangänderungsabschnitt 21 reflektierte Licht zur Fotoleitertrommel 2 hin aus.
In dem statischen Eliminator 10 gemäß der vorliegenden Ausführungsform, wie in 4 gezeigt, wird die Anzahl der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildeten Strahlengangänderungsabschnitte 21 mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a erhöht.
Gemäß der obigen Ausbildung ist in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer großen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, der Bereich klein, in dem Licht reflektiert wird, während in einem Bereich entfernt von der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer kleinen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, der Bereich groß ist, in dem Licht reflektiert wird. Als Folge können Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20 (mit anderen Worten in der Richtung, in der das Licht innerhalb der Lichtleiterplatte 20 geleitet wird) unterdrückt werden. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gleichmäßig gemacht werden.
§2 Ausbildungsbeispiel
Im Folgenden wird ein Ausbildungsbeispiel des statischen Eliminators 10 und der Bilderzeugungsvorrichtung 1 mit dem statischen Eliminator 10 unter Bezugnahme auf die Zeichnungen erläutert. 1 ist eine vergrößerte Ansicht der Bilderzeugungsvorrichtung 1 um die Fotoleitertrommel 2, die in der Bilderzeugungsvorrichtung 1 vorgesehen ist. Die Bilderzeugungsvorrichtung 1 erzeugt (druckt) ein Bild durch ein elektrophotographisches Verfahren und ist bspw. ein Kopiergerät, ein Drucker, ein Faxgerät oder ein komplexes Gerät von diesen. Es ist anzumerken, dass in der Bilderzeugungsvorrichtung 1 andere Teile abgesehen von den nachstehend erläuterten Teilen als gleich wie bekannte Teile interpretiert werden können.
Wie in 1 gezeigt, ist die Bilderzeugungsvorrichtung 1 mit der Fotoleitertrommel 2, die ein Fotoleiter ist, der als Bildträger fungiert, einem Lader 3, einer Belichtungsvorrichtung 4, einer Entwicklungsvorrichtung 5, einer Übertragungsvorrichtung 6, einer Fixiervorrichtung 7, einer Reinigungsvorrichtung 8 und dem statischen Eliminator 10 versehen.
Hier wird der Betrieb des Druckens auf dem Aufzeichnungsblatt in der Bilderzeugungsvorrichtung 1 erläutert. In dem Druckbetrieb in der Bilderzeugungsvorrichtung 1, wird zunächst die Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 durch den Lader 3 gleichmäßig aufgeladen. Die Fotoleitertrommel 2 nimmt eine Trommelform an, und dreht sich in Richtung eines Pfeiles innerhalb der Fotoleitertrommel 2 in 1.
Als nächstes belichtet die Belichtungsvorrichtung 4 die Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 mit dem Laserlicht. Hierdurch wird ein elektrostatisches latentes Bild auf der Basis von Bilddaten auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 erzeugt. Als nächstes bewirkt die Entwicklungsvorrichtung 5, dass die Tonermittel der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 anhaften, und entwickelt ein Tonerbild (sichtbares Bild) auf der Basis des obigen elektrostatischen latenten Bilds auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2. Als nächstes überträgt die Übertragungsvorrichtung 6 das Tonerbild, das auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 entwickelt ist, auf ein Aufzeichnungsblatt. Als nächstes erwärmt und druckt die Fixiervorrichtung 7 das Aufzeichnungsblatt, wodurch das auf das Aufzeichnungsblatt übertragene Tonerbild schmilzt und das Tonerbild auf dem Aufzeichnungsblatt fixiert wird. Hierdurch wird das Bild auf dem Aufzeichnungsblatt gedruckt.
Die Tonermittel, die auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 nach der Übertragung verbleiben, werden von der Reinigungsvorrichtung 8 entfernt. Dann bestrahlt der statische Eliminator 10 die Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 mit Licht, wodurch die Ladung (Restladung) entfernt wird, die auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 verbleibt. Hierdurch wird die Fotoleitertrommel 2 zum Drucken auf dem nächsten Aufzeichnungsblatt bereit.
(Statischer Eliminator 10)
Als nächstes wird der statische Eliminator 10 gemäß der vorliegenden Ausführungsform unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Wie in 2 gezeigt, ist der statische Eliminator 10 mit der Lichtquelle 11, der Lichtleiterplatte 20, dem optischen Sensor 12 und dem Gehäuse 13 versehen.
Die Lichtquelle 11 bestrahlt die Lichtleiterplatte 20 mit Licht. Die Lichtquelle 11 ist bspw. eine LED (Light Emitting Diode)-Lichtquelle. Die Lichtquelle 11 ist in der Mitte in der Breitenrichtung der später erwähnten Lichtleiterplatte 20 benachbart zur Lichteinfallsfläche 20a angebracht. Es ist anzumerken, dass in der Fotoleitertrommel 2 eine Wellenlänge besteht, mit welcher statische Elektrizität abhängig von ihrer Konstruktion leicht eliminiert werden kann. Daher ist es bevorzugt, dass die Lichtquelle 11 Licht in einem engen Wellenlängenbereich einschließlich Licht mit einer Wellenlänge abstrahlt, die zur Eliminierung der statischen Elektrizität auf der Fotoleitertrommel 2 geeignet ist.
Die Lichtleiterplatte 20 ist ein Teil, das das von der Lichtquelle 11 eingestrahlte Licht leitet und das geleitete Licht zur Fotoleitertrommel 2 hin abstrahlt. Die Lichtleiterplatte 20 wird aus einem transparenten Harzmaterial mit einem relativ hohen Brechungsindex geformt. Als Material zur Bildung der Lichtleiterplatte 20 kann bspw. ein Polycarbonatharz, ein Polymethylmethacrylatharz, ein Cycloolefinpolymerharz od. dgl. verwendet werden. In der vorliegenden Ausführungsform wird die Lichtleiterplatte 20 aus einem Polymethylmethacrylatharz geformt.
Wie in 3 gezeigt, ist die Lichtleiterplatte 20 quaderförmig und mit der Lichteinfallsfläche 20a, der Lichtreflexionsfläche 20b, der Lichtausfallsfläche 20c, der der Lichteinfallfläche 20a gegenüberliegenden Fläche 20d, der Seitenfläche 20e und der Seitenfläche 20f versehen.
Die Lichteinfallsfläche 20a ist eine Fläche, auf der die Lichtquelle 11 angebracht ist, und Licht von der Lichtquelle 11 in das Innere der Lichtleiterplatte 20 einfällt.
Die Lichtreflexionsfläche 20b ist eine Fläche senkrecht zur Lichteinfallsfläche 20a und auf der Lichtreflexionsfläche ist ein Strahlengangänderungsabschnitt 21 (Details später erläutert) gebildet, der das von der Lichteinfallsfläche 20a eingestrahlte Licht zur Lichtausfallsfläche 20c hin reflektiert.
Die Lichtausfallsfläche 20c ist eine Fläche parallel zur Lichtreflexionsfläche 20b und strahlt das von dem Strahlengangänderungsabschnitt 21 reflektierte Licht zur Fotoleitertrommel 2 hin aus.
Der Abstand zwischen der Lichtreflexionsfläche 20b und der Lichtausfallsfläche 20c beträgt bevorzugt z. B. die Hälfte oder weniger des Durchmessers der Fotoleitertrommel 2.
Der statische Eliminator 10 ist derart angebracht, dass die Lichtausfallsfläche 20c der Lichtleiterplatte 20 der Fotoleitertrommel 2 gegenüberliegt und die Längenrichtung der Lichtausfallsfläche 20c die Breitenrichtung der Fotoleitertrommel 2 ist (siehe 2).
Der optische Sensor 12 ist ein Sensor, der an der gegenüberliegenden Fläche 20d der Lichtleiterplatte 20 angebracht ist und zur Messung der Lichtmenge des zur gegenüberliegenden Fläche 20d gelangten Lichts dient.
Das Gehäuse 13 legt jeden Teil des statischen Eliminators 10 im Inneren ab. Das Gehäuse 13 ist quaderförmig und lediglich die Fläche, die der Lichtausfallsfläche 20c der Lichtleiterplatte 20 entspricht, ist offen (siehe 6).
Als nächstes wird die Form und Anordnung des Strahlengangänderungsabschnitts 21, der auf der Lichtreflexionsfläche 20b der Lichtleiterplatte 20 gebildet ist, unter Bezugnahme auf 4, 5(a) und 5(b) näher erläutert.
4 ist eine Draufsicht auf die Lichtleiterplatte 20. Wie in 4 gezeigt, ist eine Mehrzahl von Strahlengangänderungsabschnitten 21 auf der Lichtreflexionsfläche 20b der Lichtleiterplatte 20 gebildet.
5(a) ist eine perspektivische Ansicht, die die Form des Strahlengangänderungsabschnitts 21 in der vorliegenden Ausführungsform zeigt, und 5(b) ist eine perspektivische Ansicht für die Form eines Strahlengangänderungsabschnitts 21A als abgewandeltes Beispiel des Strahlengangänderungsabschnitts 21. Wie in 5(a) gezeigt, ist der Strahlengangänderungsabschnitt 21 durch einen kreisbogenförmigen Kegel ausgebildet und mit einer Reflexionsfläche 21a als flache Fläche versehen. In der vorliegenden Ausführungsform ist der Strahlengangänderungsabschnitt 21 derart gebildet, dass die Kante, auf der die Reflexionsfläche 21a und die Lichtreflexionsfläche 20b in Kontakt stehen, in der Breitenrichtung (d.h. der Y-Achsenrichtung) liegt. Hierdurch wird das von der Lichteinfallsfläche 20a einfallende Licht von der Reflexionsfläche 21a zur Lichtausfallsfläche 20c reflektiert (mit anderen Worten, in der +Z-Achsenrichtung reflektiert).
Der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildete Strahlengangänderungsabschnitt ist nicht auf die in 5(a) gezeigte Form beschränkt und kann alle Formen annehmen, solange er eine flache Reflexionsfläche aufweist. Bspw. kann, wie in 5(b) gezeigt, der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildete Strahlengangänderungsabschnitt eine Form eines dreieckigen Prismas mit einer Reflexionsfläche 21Aa aufweisen. Durch Bilden des Strahlengangänderungsabschnitts in der in 5(a) gezeigte Form sind beide Enden des Strahlengangänderungsabschnitts nicht flach, so dass der Vorteil besteht, dass, wenn der Strahlengangänderungsabschnitt durch Spritzgießen gebildet wird, kein Durchhängen entsteht und eine hohe Formbarkeit erreicht wird.
Hierbei ist die Lichtmenge des Lichts, das von der Lichtquelle ausgestrahlt wird und den Strahlengangänderungsabschnitt erreicht, in Abhängigkeit vom Abstand von der Lichteinfallsfläche unterschiedlich. D. h., das Licht mit einer großen Lichtmenge erreicht den Strahlengangänderungsabschnitt mit einem kurzen Abstand von der Lichteinfallsfläche, während das Licht mit einer kleinen Lichtmenge den Strahlengangänderungsabschnitt mit einem langen Abstand von der Lichteinfallsfläche erreicht. Daher ist die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche ausgestrahlten Lichts in Abhängigkeit vom Abstand von der Lichteinfallsfläche unterschiedlich, wenn die Strahlengangänderungsabschnitte, wie bei herkömmlichem statischem Eliminator, unabhängig vom Abstand von der Lichteinfallsfläche und mit einer konstanten Dichte auf der Lichtreflexionsfläche gebildet sind. Daher besteht das Problem, dass die Lichtmenge des an die Fotoleitertrommel 2 abgestrahlten Lichts ungleichmäßig wird, was zu einer Ungleichmäßigkeit im Grad der Eliminierung von statischer Elektrizität der Fotoleitertrommel 2 führt.
Demgegenüber nimmt in dem statischen Eliminator 10 gemäß der vorliegenden Ausführungsform, wie in 4 gezeigt, die Anzahl der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildeten Strahlengangänderungsabschnitte 21 mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zu (mit anderen Worten ist die Dichte der Strahlengangänderungsabschnitte 21 hoch).
Gemäß der obigen Ausbildung ist in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer großen Menge von der Lichtquelle 11 erreicht, der Flächeninhalt zum Reflektieren von Licht pro Flächeneinheit klein, während in einem Bereich entfernt von der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer kleinen Menge von der Lichtquelle 11 erreicht, der Flächeninhalt zum Reflektieren von Licht pro Flächeneinheit groß. Als Folge können Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20 (mit anderen Worten in der Richtung, in der das Licht innerhalb der Lichtleiterplatte 20 geleitet wird) unterdrückt werden. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gleichmäßig gemacht werden.
Ferner ist es gemäß der obigen Ausbildung nicht erforderlich, die Lichtreflexionsfläche zu neigen, so wie bei der Technik des Patentdokuments 1, und daher der Abstand zwischen der Lichtreflexionsfläche 20b und der Lichtausfallsfläche 20c, also die Dicke der Lichtleiterplatte 20 kann reduziert werden. Als Folge kann die Lichtleiterplatte 20 verkleinert werden. Somit kann der statische Eliminator 10 verkleinert werden.
Ferner ist, wie oben erläutert, die Reflexionsfläche 21a der Strahlengangänderungsabschnitt 21 flach. Der Bereich des vom statischen Eliminator 10 abgestrahlten Lichts kann in einer linearen Form oder einer rechteckigen Form untergebracht werden. Als Folge kann das Licht in einem notwendigen Bereich konzentriert werden und die Geschwindigkeit der Eliminierung von statischer Elektrizität auf der Oberfläche der Fotoleitertrommel 2 erhöht werden. Hierdurch kann die Druckgeschwindigkeit erhöht werden. Ferner ist es möglich, im Vergleich zu dem Fall, in dem die Reflexionsfläche 21a eine gekrümmte Fläche ist, zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht an eine unerwartete Stelle abgestrahlt wird, und damit kann ein negativer Einfluss (z. B. eine Abnahme der Haftkraft der Tonermittel) auf den Druckprozess aufgrund von Streulicht in andere Bereiche abgesehen vom statischen Eliminierungsbereich verhindert werden.
Ferner beträgt der Winkel, der durch die Lichtreflexionsfläche 20b der Lichtleiterplatte 20 und die Reflexionsfläche 21a des Strahlengangänderungsabschnitts 21 gebildet wird, bevorzugt 35° bis 55°. Hierdurch kann die Verlaufsrichtung des von der Reflexionsfläche 21a reflektierten Lichts in Bezug auf die Lichtausfallsfläche 20c auf einen Winkel nahe der Senkrechten festgelegt werden. Als Folge ist es möglich, zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht auf eine unerwartete Stelle abgestrahlt wird.
Als nächstes wird die Struktur des Gehäuses 13 unter Bezugnahme auf 6 erläutert. 6 ist eine Ansicht, die die Struktur des Gehäuses 13 zeigt. Wie in 6 gezeigt, ist das Gehäuse 13 mit einer Seitenfläche 13a, die der Seitenfläche 20e der Lichtleiterplatte 20 gegenüberliegt, und einer Seitenfläche 13b, die der Seitenfläche 20f der Lichtleiterplatte 20 gegenüberliegt. Das Gehäuse 13 besteht aus weißem Harz und kann Licht reflektieren.
Das Gehäuse 13 ist derart angeordnet, dass sich die Seitenfläche 13a in Bezug auf die Seitenfläche 13b auf einer Seite befindet, auf der sich die Fotoleitertrommel 2 dreht (mit anderen Worten die Seite, auf der der Lader 3 angebracht ist). Wie in 6 gezeigt, sind die Seitenfläche 13a und die Seitenfläche 13b derart gebildet, dass der Endabschnitt auf der Seite der Fotoleitertrommel 2 höher ist als die Lichtausfallsfläche 20c der Lichtleiterplatte 20. Hierdurch kann, wenn das Licht von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlt wird, das Licht, das nicht in der gewünschten Richtung abgestrahlt wird, von den Seitenflächen 13a und 13b reflektiert werden. Hierdurch ist es möglich, zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht an eine unerwartete Stelle abgestrahlt wird.
Insbesondere wenn die Seite des Laders 3 mit unerwartetem Licht bestrahlt wird, wirkt sich dies nachteilig aus, wenn die Fotoleitertrommel 2 vom Lader 3 aufgeladen wird. Daher ist, wie in 6 gezeigt, die Höhe der Seitenfläche 13a auf der Seite des Laders 3 höher als die Höhe der Seitenfläche 13b. Hierdurch ist es schwierig, unerwartetes Licht auf die Seite des Laders 3 abzustrahlen.
Zusätzlich kann in dem statischen Eliminator 10 eines Aspekts der vorliegenden Erfindung das Gehäuse 13 auch aus schwarzem Harz bestehen. Hierdurch kann das Licht, das nicht in der gewünschten Richtung abgestrahlt wird, von den Seitenflächen 13a und 13b absorbiert werden, so dass es möglich ist, zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht auf eine unerwartete Stelle abgestrahlt wird.
7 ist ein Blockdiagramm, das die Ausbildung des Hauptteils des statischen Eliminators 10 zeigt. Wie in 7 gezeigt, ist der statische Eliminator 10 mit einem Steuerungsabschnitt 14 versehen. Der Steuerungsabschnitt 14 erhält Informationen über die Lichtmenge des vom optischen Sensor 12 gemessenen Lichts und legt auf der Basis der Information die Intensität des Lichts fest, das die Lichtquelle 11 abstrahlt. Hierdurch kann die Lichtmenge des vom statischen Eliminator 10 abgestrahlten Lichts auf eine angemessene Lichtmenge eingestellt werden.
In der vorliegenden Ausführungsform ist der Strahlengangänderungsabschnitt 21 innerhalb der Lichtleiterplatte 20 an der Lichtreflexionsfläche 20b gebildet. D. h., der Strahlengangänderungsabschnitt 21 ist derart gebildet, dass dieser innerhalb der Lichtreflexionsfläche 20b eine konvexe Form annimmt, jedoch die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt. D. h., der Strahlengangänderungsabschnitt 21 kann auf der Lichtreflexionsfläche 20b auch derart gebildet sein, dass dieser eine konvexe Form von der Lichtreflexionsfläche 20b nach außen der Lichtleiterplatte 20 annimmt.
Die Lichtquelle 11 ist eine LED-Lichtquelle wie oben erläutert. Die Lichtquelle 11 kann bspw. eine LED-Lichtquelle sein, die ein Licht emittierendes Element und eine Linse enthält, die die Richtung des von dem Licht emittierenden Element abgestrahlten Lichts parallel zu einer vorbestimmten Richtung macht. Hiermit kann das von der Lichtquelle 11 abgestrahlte Licht lediglich in einer vorbestimmten Richtung abgestrahlt werden. Die Lichtquelle 11 kann ferner auch eine allgemeine LED-Lichtquelle sein, die ein Licht emittierendes Element und ein Harz enthält, das das Licht emittierende Element abdichtet. Gemäß der Struktur kann die Lichtquelle 11 leicht montiert werden.
In der vorliegenden Ausführungsform nimmt die Reflexionsfläche 21 a des Strahlengangänderungsabschnitt 21 unabhängig vom Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a einen konstanten Winkel mit der Lichtreflexionsfläche 20b ein. Der statische Eliminator der vorliegenden Erfindung wird jedoch nicht hierauf beschränkt. Die Reflexionsfläche 21 a des Strahlengangänderungsabschnitts 21 kann bspw. auch derart gebildet sein, dass ein mit der Lichtreflexionsfläche 20b eingenommener Winkel mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zunimmt.
§3 abgewandelte Beispiele
Obwohl die Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung oben ausführlich erläutert wurde, ist die obige Erläuterung lediglich ein Beispiel für die vorliegende Offenbarung in jeder Hinsicht. Es ist selbstverständlich, dass verschiedene Verbesserungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne vom Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen. Bspw. sind die folgenden Änderungen möglich. Im Folgenden wird das gleiche Bezugszeichen für dieselben Bestandteil wie die Ausführungsform verwendet, und die Erläuterung für denselben Punkt wie die Ausführungsform wurde in geeigneter Weise weggelassen. Die folgenden abgewandelten Beispiele können in geeigneter Weise kombiniert werden.
<abgewandeltes Beispiel 1>
8(a) ist eine Draufsicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators 10A gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel zeigt, und 8(b) ist eine Draufsicht, die die Ausbildung des statischen Eliminators 10 gemäß der Ausführungsform 1 zeigt.
Zunächst, wie in 8(b) gezeigt, wird der Fall erläutert, in dem auf den Strahlengangänderungsabschnitt 21, der in einem Bereich (Bereich zwischen der gepunkteten Linie in 8(a) und 8(b) und der Lichteinfallsfläche 20a) nahe der Lichteinfallsfläche 20a (mit anderen Worten der Lichtquelle 11) und nahe dem Endabschnitt in der Breitenrichtung (Y-Achsenrichtung) der Lichtleiterplatte 20 gebildet wird, das von der Lichteinfallsfläche 20a einfallende Licht abgestrahlt wird. In diesem Fall ist der Winkel des auf den Bereich abgestrahlten Lichts mit der Reflexionsfläche 21a in der Ebene parallel zur XY-Ebene kleiner als der Winkel des auf den anderen Bereich abgestrahlten Lichts. Daher kann der Bestrahlungswinkel durch das Licht erweitert werden, das von dem Strahlengangänderungsabschnitt 21, der in dem Bereich zwischen der gepunkteten Linie in 8(a) und 8(b) und der Lichteinfallsfläche 20a gebildet ist, reflektiert wird, und von der Lichtausfallsfläche 20c ausfällt, und das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht kann an eine unerwartete Stelle gestrahlt werden.
Demgegenüber ist der statische Eliminator 10A in dem vorliegenden abgewandelten Beispiel, wie in 8(a) gezeigt, mit einer Lichtleiterplatte 20A anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1 versehen. In der Lichtleiterplatte 20A ist der Strahlengangänderungsabschnitt 21 nicht in dem Bereich zwischen der gepunkteten Linie in 8(a) und 8(b) und der Lichteinfallsfläche 20a gebildet. Hierdurch ist es möglich, zu verhindern, dass der Bestrahlungswinkel durch das von der Lichtausfallsfläche 20c abgestrahlte Licht erweitert wird.
<abgewandeltes Beispiel 2>
9 ist eine Draufsicht, die die Ausbildung eines statischen Eliminators 10B gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel zeigt. Wie in 9 gezeigt, enthält der statische Eliminator 10B eine Lichtleiterplatte 20B anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1.
In der Lichtleiterplatte 20B ist die Reflexionsfläche 21a des auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildeten Strahlengangänderungsabschnitts 21 in einer Ebene parallel zur XY-Ebene (d. h. einer Ebene parallel zur Lichtreflexionsfläche 20b) auf die Lichtquelle 11 gerichtet. Die Reflexionsfläche 21a der Strahlengangänderungsabschnitt 21 muss jedoch nicht derart gebildet sein, dass diese in einem strengen Sinne auf die Lichtquelle 11 gerichtet ist, und es kann eine gewisse Abweichung auftreten.
Gemäß der obigen Ausbildung befindet sich die Reflexionsfläche 21a des Strahlengangänderungsabschnitts 21 in einem Zustand, der nicht in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche 20a, sondern auf die Mittelseite in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gerichtet ist. Daher kann die Verlaufsrichtung des von der Lichteinfallsfläche 20a reflektierten Lichts in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20 auf die Mittelseite eingestellt werden. Hierdurch ist es möglich, die Erweiterung des Bestrahlungswinkels des von der Lichtausfallsfläche 20c abgestrahlten Lichts zu unterdrücken. D. h., es ist möglich zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator 10 abgestrahlte Licht in eine unerwartete Richtung abgestrahlt wird.
<abgewandeltes Beispiel 3>
10(a) und 10(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10C gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel, wobei 10(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10C ist und 10(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10C ist. Wie in 10(a) und 10(b) gezeigt, ist der statische Eliminator 10C mit einer Lichtleiterplatte 20C anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1 versehen.
Die Lichtleiterplatte 20C enthält mehrere
Strahlengangänderungsabschnitten 22. Der Strahlengangänderungsabschnitt 22 ist derart gebildet, dass sie sich in der Breitenrichtung (Y-Achsenrichtung) der Lichtleiterplatte 20 erstreckt und über die gesamte Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20C gebildet ist. Die Höhen der Mehrzahl von Strahlengangänderungsabschnitten 22 sind gleich. In der Lichtleiterplatte 20C nimmt die Anzahl der Strahlengangänderungsabschnitte 22 pro Flächeneinheit zu, wenn der Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zunimmt.
Gemäß der obigen Ausbildung ist die Anzahl der Strahlengangänderungsabschnitte 22 pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche 20a klein, den das Licht mit einer großen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, so dass ein Bereich, der Licht reflektiert, klein ist. Demgegenüber ist in einem Bereich fern von der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer kleinen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, die Anzahl der Strahlengangänderungsabschnitten 22 pro Flächeneinheit groß, und somit ist der Bereich zum Reflektieren des Lichts groß. Als Folge können Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20C (mit anderen Worten in der Richtung, in der das Licht innerhalb der Lichtleiterplatte 20C geleitet wird) unterdrückt werden. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gleichmäßig gemacht werden.
<abgewandeltes Beispiel 4>
11(a) und 11(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10D gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel, wobei 11(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10D ist und 11(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10D ist. Wie in 11(a) und 11(b) gezeigt, enthält der statische Eliminator 10D eine Lichtleiterplatte 20D anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1.
Die Lichtleiterplatte 20D enthält Strahlengangänderungsabschnitte 23A bis 23E als Strahlengangänderungsabschnitte. In den Strahlengangänderungsabschnitten 23A bis 23E sind die Winkel gleich, die von der Lichtreflexionsfläche 20b der Lichtleiterplatte 20 und der Reflexionsflächen der Strahlengangänderungsabschnitte 23A bis 23E gebildet werden. Die Strahlengangänderungsabschnitte 23A bis 23E sind derart gebildet, dass sie sich in der Breitenrichtung (Y-Achsenrichtung) der Lichtleiterplatte 20 erstrecken, und sind über die gesamte Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gebildet. In der Lichtleiterplatte 20D nimmt die Höhe des Strahlengangänderungsabschnitts mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zu. D. h., die Höhe des Strahlengangänderungsabschnitts 23A ist niedriger und die Höhe wird in der Reihenfolge des Strahlengangänderungsabschnitts 23B, des Strahlengangänderungsabschnitts 23C, des Strahlengangänderungsabschnitts 23D und des Strahlengangänderungsabschnitts 23E höher.
Gemäß der obigen Ausbildung ist in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer großen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, ist die Höhe des Strahlengangänderungsabschnitts (z. B. des Strahlengangänderungsabschnitts 23A) niedrig, so dass der Bereich zum Reflektieren des Lichts klein ist. Demgegenüber ist in einem Bereich entfernt von der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer kleinen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, die Höhe des Strahlengangänderungsabschnitts (z. B. des Strahlengangänderungsabschnitts 23E) hoch, und somit ist der Bereich zum Reflektieren des Lichts groß. Als Folge können Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20D (mit anderen Worten in der Richtung, in der Licht innerhalb der Lichtleiterplatte 20D geleitet wird) unterdrückt werden. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20D gleichmäßig gemacht werden.
In der obigen Erläuterung wurde erläutert, dass die Lichtleiterplatte 20D fünf Strahlengangänderungsabschnitte (Strahlengangänderungsabschnitte 23A bis 23E) enthält, jedoch die Anzahl der Strahlengangänderungsabschnitte ist nicht besonders beschränkt und kann in geeigneter Weise geändert werden.
<abgewandeltes Beispiel 5>
12(a) und 12(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10E gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel, wobei 12(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10E ist und 12(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10E ist. Wie in 12(a) und 12(b) gezeigt, ist der statische Eliminator 10E mit einer Lichtleiterplatte 20E anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1 versehen.
Die Lichtleiterplatte 20E enthält Strahlengangänderungsabschnitte 24A bis 24G als Strahlengangänderungsabschnitte. In den Strahlengangänderungsabschnitten 24A bis 24G sind die Winkel gleich, die von der Lichtreflexionsfläche 20b der Lichtleiterplatte 20 und der Reflexionsflächen der Strahlengangänderungsabschnitte 23A bis 23E gebildet werden. Die Strahlengangänderungsabschnitte 24A bis 24G sind derart gebildet, dass sie sich in der Breitenrichtung (Y-Achsenrichtung) der Lichtleiterplatte 20E erstrecken. Die Höhen der Strahlengangänderungsabschnitte 24A bis 24G sind gleich. In der Lichtleiterplatte 20D nimmt mit zunehmendem Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a die Länge des Strahlengangänderungsabschnitts in Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche (Y-Achsenrichtung) zu. D. h., die Länge des Strahlengangänderungsabschnitts 24A in der Y-Achsenrichtung ist die kürzeste, und die Länge in der Y-Achsenrichtung wird in der Reihenfolge des Strahlengangänderungsabschnitts 24B, des Strahlengangänderungsabschnitts 24C, des Strahlengangänderungsabschnitts 24D, des Strahlengangänderungsabschnitts 24E, des Strahlengangänderungsabschnitts 24F und des Strahlengangänderungsabschnitts 24G länger.
Gemäß der obigen Ausbildung ist, da die Länge des Strahlengangänderungsabschnitts (z. B. der Strahlengangänderungsabschnitt 24A) in der Y-Achsenrichtung in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer großen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, kurz ist, ist der Bereich zum Reflektieren des Lichts klein. Demgegenüber ist in dem Bereich fern von der Lichteinfallsfläche 20a, den das Licht mit einer kleinen Lichtmenge von der Lichtquelle 11 erreicht, die Länge des Strahlengangänderungsabschnitts (Strahlengangänderungsabschnitt 24G) in der Y-Achsenrichtung lang, und somit ist der Bereich zum Reflektieren des Lichts groß. Als Folge können Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20E (mit anderen Worten in der Richtung, in der Licht innerhalb der Lichtleiterplatte 20E geleitet wird) unterdrückt werden. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche 20c ausgestrahlten Lichts in der Längenrichtung der Lichtleiterplatte 20E gleichmäßig gemacht werden.
In der obigen Erläuterung wurde erläutert, dass die Lichtleiterplatte 20E sieben Strahlengangänderungsabschnitte (Strahlengangänderungsabschnitte 24A bis 24G) enthält, jedoch die Anzahl der Strahlengangänderungsabschnitte ist nicht besonders beschränkt und kann in geeigneter Weise geändert werden.
<abgewandeltes Beispiel 6>
13 zeigt die Ausbildung eines statischen Eliminators 10F gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel und ist eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10F. Wie in 13 gezeigt, ist der statische Eliminator 10F mit einer Lichtleiterplatte 20F anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1 versehen.
Die Lichtleiterplatte 20F ist mit mehreren Strahlengangänderungsabschnitten 21 versehen. In der Lichtleiterplatte 20F nimmt die Anzahl der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildeten Strahlengangänderungsabschnitte 21 zu, wenn der Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zunimmt (mit anderen Worten, die Dichte der Strahlengangänderungsabschnitte 21 nimmt zu), und die Strahlengangänderungsabschnitte 21 sind lediglich in dem zentralen Abschnitt in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20F gebildet.
14(a) und 14(b) sind Ansichten zur Erläuterung der Effekte des statischen Eliminators 10F, wobei 14(a) die Ansicht ist, die einen Lichtabstrahlungsbereich in dem statischen Eliminator 10 zeigt, und 14(b) die Ansicht ist, die einen Lichtabstrahlungsbereich in dem statischen Eliminator 10F zeigt.
Wie in 14(a) gezeigt, wird in dem statischen Eliminator 10 Licht durch die gesamte Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20 ausgestrahlt, da die Strahlengangänderungsabschnitte 21 über die gesamte Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20 gebildet sind. Daher wird das von der Lichtleiterplatte 20 ausgestrahlte Licht auch in einem Bereich außerhalb von dem mit Licht zu bestrahlenden Bereich auf die Fotoleitertrommel 2 abgestrahlt. Als Folge kann der Fotoleitertrommel 2 in einem unbeabsichtigten Bereich Leitfähigkeit verliehen werden.
Demgegenüber sind in dem statischen Eliminator 10F, wie in 14(b) gezeigt, die Strahlengangänderungsabschnitte 21 in einem vorbestimmten Bereich in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20F (gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel lediglich der zentrale Abschnitt) gebildet. Hierdurch kann der Bereich, in dem das Licht von der Lichtleiterplatte 20F ausgestrahlt wird, verengt werden. Als Folge kann der größte Teil des von der Lichtleiterplatte 20F ausgestrahlten Lichts auf den Bereich der Fotoleitertrommel 2 abgestrahlt werden, der mit Licht bestrahlt werden soll.
Ferner sind in dem statischen Eliminator 10F die Strahlengangänderungsabschnitte 21 lediglich in dem zentralen Abschnitt in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20F gebildet, so dass die Lichtmenge des von einem Strahlengangänderungsabschnitt 21 reflektierten Lichts zunimmt. Als Folge ist es möglich, die Lichtmenge (d. h. die Beleuchtungsstärke) zu erhöhen, die auf den Bereich angewendet wird, der mit Licht bestrahlt werden soll.
Es ist zu beachten, dass es denkbar ist, die Breite der Lichtleiterplatte zu verringern, um den Bereich zu verengen, in dem Licht von der Lichtleiterplatte ausgestrahlt wird. Wenn jedoch die Breite der Lichtleiterplatte verringert wird, verschlechtert sich die Formbarkeit der Lichtleiterplatte und die Herstellung der Lichtleiterplatte wird schwierig. Demgegenüber ist es in der Lichtleiterplatte 20F nicht erforderlich, die Breite der Lichtleiterplatte 20F zu verringern, da die Strahlengangänderungsabschnitte 21 lediglich in dem zentralen Abschnitt in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20F gebildet sind. Als Folge ist es möglich, den zu bestrahlenden Bereich mit Licht zu bestrahlen, ohne die Formbarkeit zu beeinträchtigen.
Ferner kann die Bilderzeugungsvorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung zwischen dem statischen Eliminator und der Fotoleitertrommel ein Abschirmteil enthalten, das einen Teil des von der Lichtleiterplatte ausgestrahlten Lichts blockiert. Dies wird unter Bezugnahme auf 15(a) und 15(b) erläutert.
15(a) und 15(b) zeigen eine Bilderzeugungsvorrichtung, die mit einem Abschirmteil versehen ist, wobei 15(a) eine Ansicht, die einen Fall zeigt, in dem der statische Eliminator 10 in der Ausführungsform 1 verwendet wird, und 15(b) eine Ansicht ist, die einen Fall zeigt, in dem der statische Eliminator 10F gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel verwendet wird.
Wie in 15(a) gezeigt, kann, wenn der statische Eliminator 10 der Ausführungsform 1 verwendet wird, durch Bereitstellen des Abschirmteils 30 unterdrückt werden, auf einen Bereich außerhalb von dem Bereich der Fotoleitertrommel 2, der mit Licht bestrahlt werden soll, das von der Lichtleiterplatte 20 ausgestrahlte Licht abzustrahlen.
Ferner kann, wie in 15(b) gezeigt, wenn der statische Eliminator 10F gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel verwendet wird, durch Bereitstellen des Abschirmteils 30 das Licht, das unter dem von der Lichtleiterplatte 20F ausgestrahlten Licht nicht vertikal zur Lichtausfallsfläche 20c ist, durch den Abschirmteil 30 blockiert werden, so dass es möglich ist, lediglich den Bereich der Fotoleitertrommel 2 mit Licht zu bestrahlen, in dem das Licht abgestrahlt werden soll.
16 ist eine Draufsicht, die eine Lichtleiterplatte 20Fa als abgewandeltes Beispiel der Lichtleiterplatte 20F dieses abgewandelten Beispiels zeigt. In dem statischen Eliminator eines Aspekts der vorliegenden Erfindung, wie in 16 gezeigt, ist der größte Teil der Strahlengangänderungsabschnitte 21 in einem vorbestimmten Bereich (lediglich der zentrale Abschnitt in diesem abgewandelten Beispiel) in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20Fa gebildet. Die anderen Strahlengangänderungsabschnitte sind in dem zentralen Abschnitt des anderen Bereichs gebildet. Auch in dieser Ausbildung kann der größte Teil des von der Lichtleiterplatte 20Fa ausgestrahlten Lichts auf den Bereich der Fotoleitertrommel 2 abgestrahlt werden, der mit Licht bestrahlt werden soll.
17(a) und 17(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10G als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10C im abgewandelten Beispiel 3, wobei 17(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10G ist und 17(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10G ist. 18(a) und 18(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10H als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10D im abgewandelten Beispiel 4, wobei 18(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10H ist und 18(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10H ist. 19(a) und 19(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10I als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10E im abgewandelten Beispiel 5, wobei 19(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10I ist und 19(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 101 ist.
Wie in 17(a) bis 19(b) gezeigt, ist auch in den statischen Eliminatoren 10G, 10H und 101 der Strahlengangänderungsabschnitt lediglich in dem zentralen Abschnitt in der Breitenrichtung jeder der Lichtleiterplatten 20F, 20G und 20H gebildet. Als Folge kann der Bereich, in dem das Licht von der Lichtleiterplatte 20F ausgestrahlt wird, verengt werden, so dass der größte Teil des von der Lichtleiterplatte ausgestrahlten Lichts auf den Bereich der Fotoleitertrommel 2 abgestrahlt werden kann, der mit Licht bestrahlt werden soll.
<abgewandeltes Beispiel 7>
20 zeigt die Ausbildung eines statischen Eliminators 10J gemäß dem vorliegenden abgewandelten Beispiel und ist eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10J. Wie in 20 gezeigt, ist der statische Eliminator 10J mit einer Lichtleiterplatte 20I anstelle der Lichtleiterplatte 20 in der Ausführungsform 1 versehen.
Die Lichtleiterplatte 20I ist mit mehreren Strahlengangänderungsabschnitten 21 versehen. In der Lichtleiterplatte 20I nimmt die Anzahl der auf der Lichtreflexionsfläche 20b gebildeten Strahlengangänderungsabschnitte 21 zu, wenn der Abstand von der Lichteinfallsfläche 20a zunimmt (mit anderen Worten, die Dichte der Strahlengangänderungsabschnitte 21 nimmt zu), und die Strahlengangänderungsabschnitte 21 sind lediglich auf einer Seite in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20F gebildet.
21 ist eine Ansicht zur Erläuterung der Effekte des statischen Eliminators 10J. Aufgrund der Einschränkung der Anordnung der Bilderzeugungsvorrichtung ist es hier ggf. nicht möglich, den Bereich auf der Fotoleitertrommel 2 mit Licht zu bestrahlen, der bestrahlt werden soll, wenn der statische Eliminator 10F gemäß dem abgewandelten Beispiel 7 verwendet wird. Demgegenüber ist in dem statischen Eliminator 10J, wie in 21 gezeigt, der Strahlengangänderungsabschnitt 21 lediglich auf einer Seite in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte 20I gebildet. Als Folge kann das von der Lichtleiterplatte 20I ausgestrahlte Licht auf den Bereich der Fotoleitertrommel 2 abgestrahlt werden, der bestrahlt werden soll.
22(a) und 22(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10K als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10C im abgewandelten Beispiel 3, wobei 22(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10K ist und 22(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10K ist. 23(a) und 23(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10L als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10D im abgewandelten Beispiel 4, wobei 23(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10L ist und 23(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10L ist. 24(a) und 24(b) zeigen die Ausbildung eines statischen Eliminators 10M als abgewandeltes Beispiel des statischen Eliminators 10E im abgewandelten Beispiel 5, wobei 24(a) eine Draufsicht auf den statischen Eliminator 10M ist und 24(b) eine Seitenansicht des statischen Eliminators 10M ist.
Wie in den 22(a) bis 24(b) gezeigt, ist auch in den statischen Eliminatoren 10K, 10L und 10M der Strahlengangänderungsabschnitt lediglich auf einer Seite in der Breitenrichtung jeder der Lichtleiterplatten 20J, 20K und 20L gebildet. Als Folge kann das von den Lichtleiterplatten 20F, 20G und 20H ausgestrahlte Licht auf einen Bereich der Fotoleitertrommel 2, der bestrahlt werden soll, abgestrahlt werden.
[Überblick]
Ein statischer Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung ist mit einer Lichtquelle und einer Lichtleiterplatte versehen, die von der Lichtquelle eingestrahltes Licht leitet und das geleitete Licht ausstrahlt, wobei die Lichtleiterplatte mit einer Lichteinfallsfläche, auf die Licht von der Lichtquelle eingestrahlt wird, einer ersten Fläche, die senkrecht zu der Lichteinfallsfläche ist und eine Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten zum Reflektieren des von der Lichteinfallsfläche eingestrahlten Lichts an einer Reflexionsfläche umfasst, sowie einer zweiten Fläche versehen ist, die parallel zur ersten Fläche ist und das an den Reflexionsstrukturabschnitten reflektierte Licht ausstrahlt, wobei entsprechend dem Abstand von der Lichteinfallsfläche der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit der ersten Fläche unterschiedlich ist.
Gemäß der obigen Ausbildung wird der Flächeninhalt der Reflexionsfläche der ersten Fläche entsprechend dem Abstand von der Lichteinfallsfläche geändert, so dass die Lichtmenge des von der zweiten Fläche der Lichtleiterplatte ausgestrahlten Lichts gleichmäßiger gemacht werden kann. Da es außerdem nicht erforderlich ist, die erste Fläche zu neigen, kann der Abstand zwischen der ersten Fläche und der zweiten Fläche, also die Dicke der Lichtleiterplatte, verkleinert werden.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann in einer Richtung, in der das Licht geleitet wird, der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kleiner sein als der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in einem anderen Bereich.
Gemäß der obigen Ausbildung ist die Dichte der Reflexionsfläche, die das Licht reflektiert, in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche klein, den das Licht mit einer großen Lichtmenge von der Lichtquelle erreicht, während die Dichte der Reflexionsfläche, die das Licht reflektiert, groß ist, in einem Bereich entfernt von der Lichteinfallsfläche, den das Licht mit einer kleinen Lichtmenge von der Lichtquelle erreicht. Als Folge ist es möglich, Schwankungen der Lichtmenge des von der Lichtausfallsfläche ausgestrahlten Lichts in der Richtung zu unterdrücken, in der das Licht innerhalb der Lichtleiterplatte geleitet wird. Mit anderen Worten kann die Lichtmenge des von der zweiten Fläche ausgestrahlten Lichts in Längenrichtung der Lichtleiterplatte gleichmäßig gemacht werden.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, die Dichte der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kleiner sein als die Dichte der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich.
Gemäß der obigen Ausbildung kann durch Ändern der Dichte der Reflexionsstrukturabschnitte der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in dem Bereich nahe der Lichteinfallfläche in der Lichtleitrichtung als der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich kleiner sein.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten derart ausgebildet werden, dass die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, in der gesamten Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in der Lichtleiterplatte gebildet ist, die Reflexionsfläche die gleiche Höhe von der ersten Fläche aufweist, und die Anzahl der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, als die Anzahl der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich kleiner ist.
Gemäß der obigen Ausbildung kann durch Ändern der Anzahl der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in der Richtung, in der Licht geleitet wird, der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der Licht geleitet wird, als der Flächeninhalt des Reflexionsstrukturabschnitts pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich kleiner sein.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten derart ausgebildet werden, dass die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, in der gesamten Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in der Lichtleiterplatte gebildet ist, und die Höhe der Reflexionsstrukturabschnitte in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, als die Höhe der Reflexionsstrukturabschnitte in dem anderen Bereich niedriger ist.
Gemäß der obigen Ausbildung kann durch Ändern der Höhe der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung, in der Licht geleitet wird, der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der Licht geleitet wird als der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit im anderen Bereich kleiner sein.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten derart ausgebildet werden, dass die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, die Reflexionsfläche die gleiche Höhe von der ersten Fläche aufweist, und in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, die Länge der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kürzer ist als die Länge der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in dem anderen Bereich.
Gemäß der obigen Ausbildung kann in der Richtung, in der Licht geleitet wird, durch Ändern der Länge der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in der Mitte der Lichtleiterplatte in der Richtung, in der Licht geleitet wird, der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche als der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit im anderen Bereich kleiner sein.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung kann die Reflexionsfläche der Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten in einer Ebene parallel zur ersten Fläche in Bezug auf eine Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gegenüber der Lichteinfallsfläche mehr zur Lichtquelle zugewandt ist.
Gemäß der obigen Ausbildung kann die Verlaufsrichtung des von der Lichteinfallsfläche reflektierten Lichts auf der Mittelseite in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte gelegt werden. Hierdurch ist es möglich, die Erweiterung des Bestrahlungswinkels des von der Lichtausfallsfläche ausgestrahlten Lichts zu unterdrücken. D. h., es ist möglich, zu verhindern, dass das vom statischen Eliminator abgestrahlte Licht in eine unerwartete Richtung ausgestrahlt wird.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung können in einem Bereich nahe der Lichteinfallfläche auf der ersten Fläche und nahe dem Endabschnitt der Lichtleiterplatte in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung, in der Licht der Lichtleiterplatte geleitet wird, die Reflexionsstrukturabschnitte auch nicht gebildet werden.
Wenn hier das von der Lichteinfallsfläche eingestrahlte Licht auf den Reflexionsstrukturabschnitt abgestrahlt wird, der in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche und nahe dem Endabschnitt in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte gebildet wird, weist das Licht, das auf den Bereich abgestrahlt wird, als das Licht, das auf den anderen Bereich abgestrahlt wird, einen kleineren Winkel mit der Reflexionsfläche in der Ebene parallel zur Lichtreflexionsfläche auf. Es besteht daher die Möglichkeit, dass der Bestrahlungswinkel des an den Reflexionsstrukturabschnitten reflektierten und von der zweiten Fläche ausfallenden Lichts erweitert wird, und das vom statischen Eliminator abgestrahlte Licht an eine unerwartete Stelle abgestrahlt werden.
Demgegenüber kann gemäß der obigen Ausbildung verhindert werden, dass der Bestrahlungswinkel erweitert wird, da der Reflexionsstrukturabschnitt nicht in dem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche und nahe dem Endabschnitte in der Breitenrichtung der Lichtleiterplatte gebildet wird.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung ist ein Gehäuse weiter vorgesehen, das die Lichtleiterplatte und die Lichtquelle ablegt, und das Gehäuse weist eine Öffnung auf einer Ebene auf, die der zweiten Fläche entspricht, ist mit Seitenflächen versehen, die einer Fläche zum Verbinden der ersten Fläche und der zweiten Fläche der Lichtleiterplatte jeweils gegenüberliegen, wobei mindestens eine der Seitenflächen derart ausgebildet sein kann, dass sich der öffnungsseitige Endabschnitt als die zweite Fläche mehr in Richtung erstreckt, in der Licht von der zweiten Fläche ausgestrahlt wird.
Gemäß der obigen Ausbildung kann, wenn das Licht von der zweiten Fläche ausgestrahlt wird, das Licht, das nicht in der gewünschten Richtung abgestrahlt wird, von der Seitenfläche reflektiert werden. Hierdurch kann verhindert werden, dass das vom statischen Eliminator abgestrahlte Licht auf eine unerwartete Stelle abgestrahlt wird.
In dem statischen Eliminator gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung eliminiert der statische Eliminator Restladungen, die auf der Oberfläche einer in einer Bilderzeugungsvorrichtung vorgesehenen Fotoleitertrommel vorhanden sind, und kann derart ausgebildet werden, dass dieser derart angebracht wird, dass eine Richtung parallel zur Richtung, in der das Licht der Lichtleiterplatte geleitet wird, der Breitenrichtung der Fotoleitertrommel entspricht, und der Endabschnitt auf der Öffnungsseite der Seitenfläche auf der Seite, auf der der Lader zum Aufladen der Fotoleitertrommel in der Bilderzeugungsvorrichtung angebracht ist, sich als die zweite Fläche mehr in die Richtung erstreckt, in der das Licht von der zweiten Fläche ausgestrahlt wird.
Gemäß der obigen Ausbildung ist es möglich, zu verhindern, dass die Seite des Laders mit unerwartetem Licht bestrahlt wird.
Die Bilderzeugungsvorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung ist mit einer der obigen statischen Eliminatoren versehen.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf jede oben erläuterte Ausführungsform beschränkt, und verschiedene Modifikationen können im Umfang der Ansprüche vorgenommen werden, wobei eine durch geeignete Kombination der in den verschiedenen Ausführungsformen offenbarten technischen Mittel erhaltene Ausführungsform auch im technischen Umfang der vorliegenden Erfindung enthalten wird.
Bezugszeichenliste

1: Bilderzeugungsvorrichtung
2: Fotoleitertrommel
3: Lader
10, 10A bis 10M: statischer Eliminator
11: Lichtquelle
13: Gehäuse
13a, 13b: Seitenfläche
20, 20A bis 20L: Lichtleiterplatte
20a: Lichteinfallsfläche
20b: Lichtreflexionsfläche (erste Fläche)
20c: Lichtausfallsfläche (zweite Fläche)
21, 21A, 22, 23A bis 23E, 24A bis 24G: Strahlengangänderungsabschnitt (Reflexionsstrukturabschnitt)
21a, 21Aa: Reflexionsfläche

Claims

Statischer Eliminator mit einer Lichtquelle und einer Lichtleiterplatte, die von der Lichtquelle eingestrahltes Licht leitet und das geleitete Licht ausstrahlt, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtleiterplatte versehen ist, mit einer Lichteinfallsfläche, auf die Licht von der Lichtquelle eingestrahlt wird, einer ersten Fläche, die senkrecht zu der Lichteinfallsfläche ist und eine Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten zum Reflektieren des von der Lichteinfallsfläche eingestrahlten Lichts an einer Reflexionsfläche umfasst, sowie einer zweiten Fläche, die parallel zur ersten Fläche ist und das an den Reflexionsstrukturabschnitten reflektierte Licht ausstrahlt, wobei entsprechend dem Abstand von der Lichteinfallsfläche der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit der ersten Fläche unterschiedlich ist.
Statischer Eliminator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in einer Richtung, in der das Licht geleitet wird, der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kleiner ist als der Flächeninhalt der Reflexionsfläche pro Flächeneinheit in einem anderen Bereich.
Statischer Eliminator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, die Dichte der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kleiner ist als die Dichte der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich.
Statischer Eliminator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten derart gebildet ist, dass die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, in der gesamten Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in der Lichtleiterplatte gebildet ist, sowie die Reflexionsfläche die gleiche Höhe von der ersten Fläche aufweist, wobei die Anzahl der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, als die Anzahl der Reflexionsstrukturabschnitte pro Flächeneinheit in dem anderen Bereich kleiner ist.
Statischer Eliminator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, in der gesamten Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in der Lichtleiterplatte gebildet ist, sowie die Höhe der Reflexionsstrukturabschnitte in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, als die Höhe der Reflexionsstrukturabschnitte in dem anderen Bereich niedriger ist.
Statischer Eliminator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten die Reflexionsfläche in einer Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gebildet ist, die Reflexionsfläche die gleiche Höhe von der ersten Fläche aufweist, sowie in der Richtung, in der das Licht geleitet wird, die Länge der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in einem Bereich nahe der Lichteinfallsfläche kürzer ist als die Länge der Reflexionsstrukturabschnitte in der Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche in dem anderen Bereich.
Statischer Eliminator nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsfläche der Mehrzahl von Reflexionsstrukturabschnitten in einer Ebene parallel zur ersten Fläche in Bezug auf eine Richtung parallel zur Lichteinfallsfläche gegenüber der Lichteinfallsfläche mehr zur Lichtquelle zugewandt ist.
Statischer Eliminator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in einem Bereich nahe der Lichteinfallfläche auf der ersten Fläche und nahe dem Endabschnitt der Lichtleiterplatte in einer Richtung senkrecht zu einer Richtung, in der das Licht der Lichtleiterplatte geleitet wird, die Reflexionsstrukturabschnitte nicht gebildet werden.
Statischer Eliminator nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gehäuse weiter vorgesehen ist, das die Lichtleiterplatte und die Lichtquelle ablegt, wobei das Gehäuse eine Öffnung auf einer Ebene aufweist, die der zweiten Fläche entspricht, sowie mit Seitenflächen versehen ist, die einer Fläche zum Verbinden der ersten Fläche und der zweiten Fläche der Lichtleiterplatte jeweils gegenüberliegen, wobei an mindestens einer der Seitenflächen sich der öffnungsseitige Endabschnitt als die zweite Fläche mehr in Richtung erstreckt, in der Licht von der zweiten Fläche ausgestrahlt wird.
Statischer Eliminator nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der statische Eliminator Restladungen eliminiert, die auf der Oberfläche einer in einer Bilderzeugungsvorrichtung vorgesehenen Fotoleitertrommel vorhanden sind, sowie derart angebracht wird, dass eine Richtung parallel zur Richtung, in der das Licht der Lichtleiterplatte geleitet wird, der Breitenrichtung der Fotoleitertrommel entspricht, wobei der Endabschnitt auf der Öffnungsseite der Seitenfläche auf der Seite, auf der der Lader zum Aufladen der Fotoleitertrommel in der Bilderzeugungsvorrichtung angebracht ist, sich als die zweite Fläche mehr in die Richtung erstreckt, in der Licht von der zweiten Fläche ausgestrahlt wird.
Bilderzeugungsvorrichtung mit einem statischen Eliminator nach einem der Ansprüche 1 bis 10.