DE1084390B - Ionenquelle mit einem Hochfrequenzfeld - Google Patents
Ionenquelle mit einem HochfrequenzfeldInfo
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 14
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 40
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/16—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
- H01J27/18—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field
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Description
DEUTSCHES
Die Erfindung betrifft Ionenquellen mit einer Ionisationskammer, in deren Innerem sich ein elektrostatisches
Feld, ein magnetostatisches Feld B und ein Hochfrequenzfeld eines Generators mit einer unterhalb
3 m liegenden Wellenlänge X befinden.
Bekannte Einrichtungen der genannten Art arbeiten mit Frequenzen um etwa 20 MHz. Bei ihnen verläuft
das magnetostatische Feld in Richtung der elektrischen Kraftlinien des Hochfrequenzfeldes.
Gemäß der Erfindung wird die Wirksamkeit einer Ionenquelle dadurch verbessert, daß das Produkt Β·λ
zwischen 10000 und 15 000 Gauß-cm oder 5000 und 7500 Gauß-cm liegt und die elektrischen Kraftlinien
des Hochfrequenzfeldes ungefähr senkrecht auf denen des magnetostatischen Feldes B stehen, daß das elekirische
Hochfrequenzfeld und das elektrostatische Feld eine gemeinsame Symmetrieachse haben und auf einem
Punkt dieser Symmetrieachse das zu ionisierende Gas in die Ionisationskammer eingeführt wird.
Auf Grund ihres Aufbaus und ihrer im nachfolgenden näher beschriebenen Wirkungsweise weist die vorliegende
Ionenquelle gegenüber den bekannten Ionenquellen folgende Vorteile auf.
Der von einem Elektron durchlaufene Weg ist erheblich länger als bei bekannten Einrichtungen dieser
Art, wodurch die Wahrscheinlichkeit aufeinanderfolgender Zusammenstöße eines Elektrons mit verschiedenen
Gasmolekülen heraufgesetzt wird. Daraus resultiert eine größere Ionisationsrate als bei bekannten
Ionenquellen.
Weiterhin kann die Ionisation in einem beschränkten Volumen stattfinden; darüber hinaus ist es möglich,
durch Vergrößerung der Intensität des magnetischen Feldes unter Beibehaltung der Beziehung B-X = konstant
die Ionisation auf einen kleineren Teil der Röhre zu konzentrieren, wodurch die Fokussierung des
Ionenstrahles wesentlich erleichtert wird.
Da die vorliegende Ionenquelle unter Resonanzbedingungen arbeitet, ist zur Ionisation eine beträchtlich
geringere Hoohfrequenzenergie erforderlich als bei den bekannten Ionenquellen, wodurch die Wärmeverluste
erheblich vermindert werden. Da nahezu die gesamte Hochfrequenzenergie zur Ionisation verwendet
wird, ergibt sich ein bisher nicht erreichter Wirkungsgrad.
Die Erfindung wird im nachfolgenden mit ihren weiteren Merkmalen und Einzelheiten an Hand der
Zeichnungen erläutert, die beispielsweise verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung veranschaulichen.
-
Fig. 1 ist ein schematischer Axialschnitt einer ersten Ausführungsform der Ionenquelle gemäß der
Erfindung;
Fig. 2 ist ein erläuterndes Diagramm;
Ionenquelle mit einem Hochfrequenzfeld
Anmelder:
Compagnie Generale de Telegraphie
sans FiI, Paris
sans FiI, Paris
Vertreter: Dr. W. Müller-Bore und Dipl.-Ing. H. Gralfs,
Patentanwälte, Braunschweig, Am Bürgerpark 8
Beanspruchte Priorität:
Frankreich vom 3. Oktober 1956
Frankreich vom 3. Oktober 1956
Alfred Lerbs, Frankfurt/M.,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
Fig. 3 ist ein schematischer Axialschnitt durch eine andere Ausführungsform der Ionenquelle gemäß der
Erfindung;
Fig. 4 bis 8 zeigen verschiedene Systeme zur Erzielung des richtigen magnetischen Feldes bei einer
Ionenquelle gemäß der Erfindung;
Fig. 9 bis 12 stellen verschiedene Ausführungen zur Einspeisung der Hochfrequenz dar;
Fig. 13 bis 19 erläutern verschiedene weitere Ausführungsformen der Ionenquelle gemäß der Erfindung,
welche keine Rotationssymmetrie haben.
In den Zeichnungen sind für gleiche Teile durchgehend gleiche Bezugszahlen verwendet worden. Nunmehr
wird zunächst auf Fig. 1 Bezug genommen:
Die Bezugszahl 1 bezeichnet eine Glashülle zylindrischer Gestalt, die in Richtung ihrer Achse an einem
Ende von einem metallischen Röhrchen 2 durchsetzt wird und an ihrem anderen Ende von einem zweiten
metallischen Röhrchen 3, dessen Durchmesser deutlich größer ist als der des ersten Röhrchens 2. Das metallische
Röhrchen 3 weist einen verengten Abschnitt 4 auf. Ein glockenförmiges Teil 5 aus Glas, das sich zur
Glashülle 1 koaxial erstreckt und in einem rohrförmigen Ansatz 5' ausläuft, der praktisch eine Fortsetzung
des Röhrchens 3 darstellt, ist in irgendeiner geeigneten Art und Weise, beispielsweise durch Verschmelzen,
mit der Glashülle 1 verbunden.
Die Glashülle 1 und das glockenförmige Teil 5 grenzen einen Raum 6 ein, der den Ionisationsraum
darstellt. Das Röhrchen 2 gestattet den Einlaß eines zu ionisierenden Gases in den Raum 6 unter vermin-
009 548/353
3 4
dertem Druck, und es besitzt einen metallischen Über- Wenn der Potentialunterschied zwischen den Elek-
zug, der den Mittelleiter einer Koaxialleitung bildet. troden 2 und 3 festgelegt ist und das Magnetron 8
Der Außenleiter dieser Koaxialleitung ist durch die Höchstfrequenzenergie bestimmter Wellenlänge er-
Bezugszahl 7 bezeichnet. Eine Mikrowellen-Oszillator- zeugt, kann man das Experiment machen, die
röhre, beispielsweise ein Magnetron 8, erzeugt Höchst- 5 Intensität des magnetischen Feldes stetig zu erhöhen,
frequenzenergie, die auf das Koaxialkabel 2-7 mittels Wenn man dann die Intensität des erzeugten Ionen-
eines anderen Koaxialkabels 9 und Kopplungsmitteln Strahls 3 in einer Kurve als Funktion des Produktes
10, z.B. einer Schleife oder Sonde, übertragen wird. aus magnetischer Feldinduktion B mal Höchstfrequenz-
Der Leiter 7 umgibt die Glashütte 1 längs des oberen wellenlänge X aufträgt, erhält man eine Kurve, wie sie
Teils derselben bis zu einer bestimmten Höhe, die io in Fig. 2 dargestellt ist. Auf der Ordinate ist der
etwa gleich einem Viertel der Betriebswellenlänge ist, Ionenstrom 3 und auf der Abszisse das Produkt Χ·Β
Ein statisches magnetisches Feld in Achsrichtung der aufgetragen. Die Wellenlänge X wurde in Zentimeter
Röhre (so wird das Gebilde nachstehend genannt) und die magnetische Feldinduktion in Gauß gemessen,
wird durch irgendwelche geeignete magnetische Mittel Die Kurve der Fig. 2, die bei einer konstanten Wellen-
gesohaffen, wie z. B. durch eine Spule, die zu der Glas- 15 länge von X = 23 cm aufgenommen wurde, durchläuft
röhre 1 koaxial ist und deren Schnittflächen lediglich nacheinander zwei sehr ausgeprägte Maxima, von
schematisch angedeutet und durch die Bezugszahl 11 denen das zweite Maximum bei einem Abszissenwert
bezeichnet ist. Eine geeignete Spannungsquelle, wie von X0B0 eine Ordinate aufweist, die annähernd zwei-
z. B. die Batterie 13, ermöglicht es, die Elektrode 3 mal so groß ist wie diejenige bei dem Abszissenwert
auf ein Potential zu legen, das gegenüber dem Leiter 2 20 A1JS1 des ersten Maximums. Der dem zweiten Maximum
negativ ist. Eine geeignete weitere Spannungsquelle, entsprechende Wert des Ionenstromes ist also besonders
wie etwa die Batterie 12, führt der Spule 11 den groß.
Strom zu. Es kann leicht gezeigt werden, daß für das zweite
Arbeitsweise Maximum die folgende Beziehung zwischen dem
35 magnetischen Feld, gemessen in Gauß, und der
Die Arbeitsweise der in Fig. 1 dargestellten Ionen- Betriebswellenlänge des Höchstfrequenzoszillators 8,
quelle ist die folgende: . gemessen in Zentimetern, besteht:
Der Hochfrequenzoszillator, beispielsweise ein χ β = K = konstant (Y)
Magnetron 8, erregt das Koaxialkabel 2-7 über das 00 /
Koaxialkabel 9 und die Kopplungsmittel 10. Als Er- 30 Der Wert dieser Konstante K hängt von der Dimengebnis
der stehenden Wellen, die sich auf Grund des sionierung der verschiedenen Teile des Gerätes· ab,
offenen Endes der Koaxialleitung 2-7 ergeben, bildet bleibt aber unabhängig von der Intensität der Ionensich
an eben diesem offenen Ende ein Spannungsbauch quelle und der des angelegten elektrischen Feldes. Bei
der Hochfrequenz aus. Auf diese Weise entsteht in einer Versuchs röhre wurde gefunden, daß sich die
dem Raum 6 das für die Ionisation notwendige Hoch- 35 Konstante auf K = 11 600 belief,
frequenzfeld. Das Magnetron 8 arbeitet auf einer Für das erste Maximum besteht eine ähnliche Befesten
Wellenlänge; eine besonders große Frequenz- ziehung dieser Art, nur hat dann die Konstante etwa
Stabilität ist jedoch nicht erforderlich. Wenn die die Hälfte des oben angegebenen Wertes.
Batterien 13 und 12 richtig angewandt werden, d. h. Die Entstehung der Maxima in Fig. 2 läßt sich
wenn die Elektrode 3 auf negativem Potential gegen- 40 physikalisch vielleicht wie folgt erklären: Unter dem
über dem Leiter 2 liegt und die Spule 11 das Vor- gleichzeitigen Einfluß des Hochfrequenzfeldes und des
handensein eines magnetischen Feldes in dem Raum 6 dazu senkrechten Magnetfeldes werden die im Raum. 6
gewährleistet, bildet sich, sobald durch das Röhrchen 2 stets vorhandenen freien Elektronen, wie es von der
unter Vakuum ein Gas in den Raum 6 eingelassen Bewegung der Ionen in einem Omegatron her bekannt
wird, ein Plasma, das den oberen Teil des Raumes 6 45 ist, auf sich weitenden Kreisbahnen (Archimedeserfüllt.
Die Elektronen dieses Plasmas werden von Spiralen) beschleunigt werden, unter der Vorausder
negativen Elektrode 3 abgestoßen, so daß vor setzung, daß die Frequenz des angelegten Hochdieser
Elektrode ein elektronenfreier Dunkelraum frequenzfeldes mit der Zyklotronfrequenz der Elekentsteht,
der nach oben hin ziemlich scharf durch das tronen übereinstimmt. Diese Voraussetzung ist
Plasma begrenzt wird. Diese Begrenzungsfläche des 50 offenbar dann erfüllt, wenn die Resonanzbedingungen
Plasmas ist gewölbt, wie es in Fig. 1 durch die XB=K oder Χ·Β=ΚΙ2 erfüllt werden. Die so begestrichelte
Linie 14 angedeutet ist. Das Plasma bleibt schleunigten freien Elektronen vermögen die neutralen
nahezu auf dem Potential der positiven Elektrode 2, Gasmoleküle zu ionisieren, dadurch entstehen weitere
und die gesamte Gleichspannung zwischen den Elek- freie Elektronen, so daß sehr rasch ein Plasma entsteht.
troden 2 und 3 fällt praktisch im Dunkelraum vor der 55 Da die vorliegende Ionenquelle unter diesen Reso-Elektrode
3 ab. Der Grund dafür ist die unterschied- nanzbedingungen arbeitet und nahezu die gesamte
liehe Beweglichkeit von Ionen und Elektronen. Da die Hochfrequenzenergie zur Ionisation verbraucht wird,
Ionen mit ihrer thermischen Energie über die Plasma- ist es möglich, mit erheblich geringerer Hochfrequenzbegrenzungsfläche
herausdiffundieren können, wirkt energie als bei bekannten Ionenquellen zu arbeiten und
diese wie eine ionenemittierende Fläche. Diese Ionen 60 selbst Ionenstrahlen hoher Intensität ohne große
werden im elektrostatischen Raumladungsfeld zur Wärmeverluste zu erzeugen.
durchbohrten Elektrode hin zur Extraktion beschleu- Die Anwendung eines Magnetfeldes in der beschrie-
nigt. Außerdem gelingt es mit Hilfe dieses Raum- benen Art bei der vorliegenden Ionenquelle bewirkt,
ladungsfeldes und auf Grund der Form der Plasma- daß die Bahnen der Elektronen spiralförmig aufge-
begrenzungsfläche 14 bei geeigneter Ausbildung der 65 wickelt werden. Dadurch ist es möglich, die Elektronen
Elektrode 3 und bei geeigneten Gleichspannungen eine sehr lange Bahnen bei kleinen Gefäßdimensionen
Fokussierung des austretenden Ionenstrahls zu er- durchlaufen zu lassen und bei niedrigeren Drücken zu
reichen, so daß z. B. die Erzeugung eines Schnitt- arbeiten als bei bekannten Ionenquellen, beispiels-
punktes der Ionenbahnen in Höhe des verengten Ab- weise bei 10~2 Torr, ohne daß der Ionisierungsgrad
schnittes 4 möglich ist. 70 schlechter wird. Durch geeignete Wahl der Intensität
des magnetischen Feldes unter Einhaltung der Resonanzbedingungen kann man das Plasma auf einen
Teil der Röhre beschränken. Die Grenzen des Plasmas lassen sich bei Verwendung eines nicht homogenen
magnetischen Feldes im Ionisationsraum willkürlich verändern.
Experimente, die mit einem konstanten magnetischen Feld ausgeführt wurden und bei denen die Beziehung
XB ungefähr gleich K (λΒί^Κ) erfüllt wurde, haben
gezeigt, daß der Ionenstrom etwa proportional mit der Leistung der dem Raum 6 aufgeprägten Hochfrequenz
ansteigt. Unterhalb eines bestimmten Mindestwertes der Hochfrequenzleistung von 5 bis 8 Watt im Falle
der bei den Versuchen benutzten Röhre wurde eine Ionisation nicht mehr beobachtet.
Im folgenden werden einige andere Ausführungsformen der vorliegenden Ionenquelle beschrieben, ohne
daß dadurch natürlich der Umfang der Erfindung in irgendeiner Weise eingeschränkt werden soll.
In der Ausführungsform nach Fig. 3 hat die Basis der isolierenden Hülle 1 denselben Aufbau wie im
Falle der Fig. 1; gleiche Bezugszahlen bezeichnen wiederum dieselben Elemente wie in Fig. 1. Die
metallische Elektrode 3 von der Form eines Röhrchens enthält jedoch einen stufenförmig verengten Abschnitt
4. Die Hülle 1 enthält zusätzlich eine metallische Wandung 15 mit einem Deckel 16, der bei 17
auf die Wandung 15 aufgeschraubt ist. Die Wandung 15 ist zum Teil deformierbar (Teil 18) und besitzt
eine innere Schulter 19. Eine Deformationsanordnung zur Änderung des Volumens des Ionisationsraumes
enthält einen Füihrungsflansoh 22, der von einer Stange
20 gestützt wird und mit dieser durch ein Gelenk 28 verbunden ist, sowie einen Arm 23, der mit einem
tassenförmigen Teil 24 verbunden ist. Das tassenförmigeTeil
bewirkt eine Deformation des metallischen Hohlraumes 25 der Röhre, wenn die Stangenkupplungsmutter
26 auf der Stange 21 nach unten geschraubt wird. Die Hochfrequenzenergie wird dem
Hohlraum 25 unmittelbar durch die Schleife 10 zugeführt sowie durch das Koaxialkabel 9. Der Höchstfrequenzgenerator
8 ist in dieser Figur nicht gezeigt. Eine flache kreisförmige Spule 27, die zu der Röhrenachse
koaxial ist, erzeugt das gewünschte magnetische Feld.
Arbeitsweise
Die Arbeitsweise der in Fig. 3 gezeigten Ausführungsform ist dieselbe wie jene der in Fig. 1 gezeigten.
Es dürfte sich indessen lohnen, folgendes zu beachten:
Der Ionisationsraum besteht aus einem Metallhohlraum, der durch Deformation auf die besondere verwendete
Wellenlänge abgestimmt werden kann.
Wenn eine metallische Oberfläche mit dem ionisierten Gas in Kontakt ist, verringert der Rekombinationskoeffizient
des Metalls, der sehr viel höher ist als der von Glas, den Wirkungsgrad der Röhre. Daher ist die
innere Oberfläche mit einer Substanz von geringem Rekombinationskoeffizienten ausgekleidet. Diese Substanz
kann die Form dünner Blättchen haben, die das Innere des Hohlraums bedecken und dementsprechend
untereinander austauschbar sind.
Da die Auflage dünn ist, ergibt sich dadurch gleichzeitig, daß die dielektrischen Verluste gering sind.
Das Gerät nach Fig. 3 kann leicht auseinandergenommen werden. Dazu genügt es, die Stangenkupplungsmutter
26 abzuschrauben, das Gelenk 28 aufzuklappen und den Deckel 16 bei 17 abzuschrauben.
Dadurch erhält man ungehinderten Zugang zum Inneren des Geräts.
Wenn der Erregerstrom der Magnetisierungswicklungen 11 oder 27 von dem Wert Null an kontinuierlich
gesteigert wird, erhält man die Intensität des magnetischen Feldes B0, das notwendig ist, um den
Resonanzzustand bei einer im voraus festgelegten Wellenlänge zu verwirklichen, zunächst in einer
horizontalen Ebene der Spule. Wenn man dann den Erregerstrom der Spule weiterhin anwachsen läßt,
teilt sich die Zone, in der ein Feld mit dem Wert B0
herrscht, in zwei gegenüber der vorhergenannten Ebene symmetrische Zonen, die sich von dieser Ebene fortschreitend
und gleichmäßig auf beiden in dem Maße fortbewegen, wie der Erregerstrom steigt. Es läßt sich
daher durch Verwendung einer solchen Spule eine gute und richtige Lokalisierung der Ionisationszone erreichen.
Dieser Möglichkeit kommt in der Praxis Bedeutung zu, da sie den Wirkungsgrad der Ionenquelle
und die Fokussierung des Ionenstrahls am Ausgang des Piamas zu beeinflussen gestattet.
Die Fig. 4 und 5 zeigen zwei andere Systeme, mit denen das magnetische Feld erzeugt werden kann. Die
magnetischen Feldlinien sind in diesen Figuren schematisch angedeutet. In Fig. 4 haben die Ströme,
die durch die Spulen 28 bzw. 29 hindurchfließen, gleiche Richtung, während sie in Fig. 5 entgegengesetzte
Richtung aufweisen. Die Spulen 28 und 29 sind kreisförmig wie im Falle der Fig. 3 und sind auf
einfache Weise im Schnitt durch eine axiale Symmetrieebene angedeutet. Ihre tatsächliche Gestalt kann
man sich durch Rotation um eine vertikale Achse zustande'gekommen denken. Der Abstand zwischen den
beiden Spulen wie auch ihre Lage relativ zu dem Ionisationsraum sind einstellbar.
Die Fig. 6 und 7 geben schematisch die Feldlinien eines Feldes wieder, das durch um eine vertikale Achse
rotationssymmetnische Permanentmagnete erzeugt wird. Der Permanentmagnet der Fig. 6 hat rohrförmige
Gestalt, während derjenige der Fig. 7 eine kompliziertere Form aufweist.
Fig. 8 deutet im Axialschnitt schematisch eine Vorrichtung 30 zur Erzeugung eines magnetischen Feldes
an, wie z. B. einen Elektromagnet, einen Permanentmagnet oder eine Spule. Das Element 31 ist ein Ring
aus weichem Eisen, der die Struktur des magnetischen Feldes modifizieren und damit die Grenzen jener
Zonen zu regulieren gestattet, in denen die Ionisation wirksam werden soll. Es ist auch möglich, verschiedene
derartige Weicheisenringe zu verwenden oder irgendwelche Kombinationen derselben mit Anordnungen
der vorhergehenden Figuren.
Fig. 9 zeigt im Axialschnitt und Fig. 10 in einer entsprechenden Ansicht von unten eine Abwandlung
der Mittel, mit denen die Höchstfrequenz in die vorliegende Ionenquelle eingekoppelt .wird. Sie ist auf alle
Ausfü'hrungsformen der vorliegenden Erfindung anwendbar.
Der Leiter 2 der Koaxialleitung hat dieselbe Lage wie zuvor und ist hohl, damit durch ihn hindurch das
zu ionisierende Gas eingelassen werden kann. Der Außenleiter 32 der Koaxialleitung, welcher in Fig. 1
mit der Bezugszahl 7 bezeichnet und dort außerhalb der Entladungsröhre angeordnet gezeigt ist, dringt in
der Ausführungsform der Fig. 9 und 10 in das Innere der Röhrenhülle 1 ein und spreizt sich dort nach außen
auf. Er wird von einem Ring 33 abgeschlossen, der mit dem Ende des Leiters 2 durch radiale Speichen 34
verbunden ist. Der Schwingungsbauch des Höchstfrequenzfeldes wird von dem Ring 33 sowie dem
offenen Ende des Leiters 2 unterhalten. Die über die Koaxialleitung gelieferte Hochfrequenzleistung be-
findet sich auf diese Weise innerhalb der der Röhrenhülle I1 wodurch die dielektrischen Verluste in der
Hülle 1 vermieden werden.
Die oben beschriebenen Ausführungsformen stellen Anordnungen dar, die mit stehenden Wellen arbeiten.
Es ist gleichermaßen möglich, wandernde Wellen zu verwenden. Fig. 11 zeigt im Axialschnitt und Fig. 12
in einer entsprechenden Ansicht von unten eine Ausführungsform, in der das Kupplungsmittel als ko-rbförmige
Spirale 35 ausgebildet wird. Der Mittelleiter 2 der Koaxialleitung 36, durch die die Hochfrequenzenergie
zugeführt wird, ist an die Spirale 35 an deren mittleren Punkt angeschlossen. Die Hochfrequenzenergie
breitet sich längs der Spirale 35 aus und wird zum größten Teil zur Ionisation verbraucht. Die übertragene
Welle wird am freien Ende 37 der Spirale reflektiert und während ihres Rücklaufs praktisch
vollständig absorbiert. Hierbei ist angenommen, daß das magnetische Feld einen geeigneten Wert besitzt.
Die Korbform der Spirale 35, wie sie etwa in Fig. 11 zum Ausdruck kommt, gestattet eine bessere Fokussierung
des Ionenstrahls.
Die Rotationssymmetrie ist keine kritische Bedingung. Alles, was vorstehend im Zusammenhang mit
symmetrischen Konstruktionen gesagt wurde, gilt ebenso für andersgeartete Ausführungsformen, so daß
z. B. ein flacher, bürstenförmiger Ionenstrahl in Höhe des verengten Abschnitts 4 (s. Fig. 1 und 3) an Stelle
eines normalen Strahls erhalten wird. Selbstverständlich wird dann die Verengung 4 entsprechend abgewandelt.
Verschiedene Ausführungsformen der vorliegenden Ionenquelle ohne Kreissymmetrie sollen nunmehr
nachstehend erläutert werden.
Entsprechend der schematisch dargestellten Ausführungsform nach Fig. 13, die einen Querschnitt
zeigt, und gemäß der Fig. 14, die eine zugehörige Ansicht von oben bietet, bestehen die Hochfrequenzelektroden
aus zwei metallischen Platten 38 und 39, die einander parallel laufen und zwischen den Polschuhen
43 eines Elektromagnets oder Permanentmagnets angeordnet sind, der ein zu ihnen paralleles Feld
erzeugt. Ein Hochfrequenzgenerator erregt zwischen den Platten 38 und 39 mittels einer Übertragungsleitung
ein Hochfrequenzfeld. Diese Mittel zur Erregung des Hochfrequenzfeldes sind in der Zeich
nung symbolisch durch die Bezugsnummer 50 angedeutet. Die Richtung des Hochfrequenzfeldes ist
senkrecht zu der Richtung des magnetischen Feldes B. Eine dritte Elektrode 40 ist parallel zu den beiden
vorerwähnten Elektroden 38 und 39 angeordnet. Die Elektroden 39 und 40 sind mit Fenstern 41 bzw. 42
zum Abführen der Ionen versehen. Wenn zwischen den Platten 38 und 39 keine Gleichpotentialdifferenz
besteht, wird die Platte 40 gegenüber der Platte 39 auf negatives Potential gelegt, um das Abführen der
Ionen möglich zu machen. Wenn man die Platte 39 auf ein leicht negatives Potential gegenüber der Platte
38 legt, treten die Ionen durch das Fenster 41 hindurch, und die Platte 40 hat dann die Funktion einer
Beschleunigungselektrode.
Fig. 15 erläutert eine Verbesserung gegenüber der Anordnung nach den Fig. 13 und 14. Die Verbesserung
besteht darin, die Elektroden 38, 39 und 40 durch Biegung in die Gestalt der Elektroden 51, 52 bzw. 53
übergehen zu lassen, und zwar, wie in Fig. 15 gezeigt, in der Weise, daß die gekrümmten Elektroden Teile
dreier koaxialer Zylinder sind. Ein magnetisches Feld B parallel zu der gemeinsamen Achse dieser drei Zylinder
begünstigt die Fokussierung der Ionen längs der gemeinsamen Achse 54. Die Extraktion der Ionen
erfolgt dadurch parallel zu der Richtung der Feldlinien des Hochfrequenzfeldes. Es ist auch denkbar, die
Extraktion der Ionen senkrecht zu der Richtung der Feldlinien des Hochfrequenzfeldes erfolgen zu
lassen.
Die Fig. 16 und 17, von denen Fig. 16 ein Querschnitt und Fig. 17 eine Ansicht von oben ist, geben
schematisch - eine Ausführungsform an, in der zwei ίο Hochfrequenzelektroden durch zwei Platten 44 und 45
gebildet werden. Das magnetische Feld wird durch eine flache Spule 46 rechteckigen Querschnitts erzeugt.
In dieser Anordnung liegen die Hochfrequenzelektroden 44 und 45 normalerweise auf demselben
statischen Potential. Eine Elektrode 47 mit negativem Potential gegenüber den Platten 44 und 45 wird
benutzt, um den Ionenstrahl zu fokussieren.
Fig. 18 stellt eine Abänderung der in Fig. 16 erläuterten Ausführungsform dar. Die ebenen Elektroden
44 und 45 der Anordnung gemäß Fig. 16 sind darin durch kreisförmig gekrümmte metallische
Elektroden 48 und 49 ersetzt, die auf einem Kreis angeordnet sind; die Achse des dadurch gebildeten
Zylinders fällt dabei mit der Achse des Spaltes in der Elektrode 47 zusammen. Die Gestalt der Elektroden
begünstigt die Ionenfokussierung. Das Magnetfeld wird durch die gleiche Spule 46 erzeugt wie in
Fig. 16.
Die Abmessung / der Platten 38 und 39 (Fig. 13 und 14) ebenso wie die Abmessungen der Platten 44
und 45 (Fig. 16 und 17) muß gegenüber der Wellenlänge des benutzten Hochfrequenzfeldes klein sein,
so daß eine begründete Sicherheit besteht, daß der quasistationäre Betriebszustand gewährleistet ist
Wenn die Wellenlänge beispielsweise zwischen 0,2 und 1 m liegt, darf die Abmessung / 10 cm nicht
überschreiten.
Diese Bedingung stellt keine Einschränkung der Anwendbarkeit der vorliegenden Ionenquelle dar, denn
es gibt Mittel, diese Einschränkung zu umgehen. Sie bestehen darin, die den Ionisationsraum begrenzenden
Platten miteinander an jedem ihrer beiden Enden derart zu verbinden, daß eine Lecher-Leitung entsteht.
Dies gestattet, eine effektive Länge I der Bauelemente zu erreichen, die selbst bei kleinen Wellenlängen
genügend groß ist. Die Länge der Platten ist dann gleich einer halben Resonanzwellenlänge. Diese Eigenschaft
kann unmittelbar aus der Betrachtung der Verteilung des Hochfrequenzfeldes über den Platten
abgeleitet werden. Eine solche Maßnahme gewährleistet noch einen weiteren Vorteil, nämlich den, daß
die Intensität des Hochfrequenzfeldes symmetrisch verteilt ist und in der Mitte der Elektroden ein
Maximum und an deren Enden ein Minimum hat. Die Intensität der Ionisation ist zwischen den Elektroden
in analoger Weise verteilt. Eine solche Verteilung der Ionisation ist besonders hinsichtlich einer richtigen
Fokussierung des Ionenstrahls günstig.
Fig. 19 veranschaulicht schließlich schematisch eine Ausführungsform, in der eine Hilfselektronenquelle
in einer Anordnung nach Fig. 13 eine Verkürzung des Zeitraums gestattet, der notwendig ist, um die Entladung
in Gang zu bringen. Eine solche Verbesserung ist von besonderem Interesse in einer Impulsanordnung,
die mit Impulsen kurzer Dauer arbeitet. In der schematisch in Fig. 19 gezeigten Ausführungsform
bezeichnen gleiche Bezugszahlen gleiche Elemente wie in Fig. 13. Ein Heizfaden 55, umgeben von elektronenoptischen
Elementen 56, 57, emittiert in thermischer Emission einen ebenen Elektronenstrahl 59., der
parallel zu den Hochfrequenzelektroden 38 und 39 verläuft. Der Strahl wird von einem Kollektor 58
außerhalb des Hochfrequenzfeldes aufgefangen.
Bei den oben angeführten Ausführungsformen können die Hochfrequenzelektroden innerhalb oder
außerhalb der Röhre angeordnet oder mit der Hülle der Röhre kombiniert werden. Die Richtung des
magnetischen Feldes kann parallel oder senkrecht zu der Extraktionsrichtung der Ionen stehen. Darüber
hinaus können innerhalb des Ionisationsraumes geeignete elektrostatische Felder verwendet werden,
um die Extraktion der Ionen zu erleichtern.
Claims (11)
1. Hochfrequenz-Ionenquelle mit einer Ionisationskammer,
in deren Innerem sich ein elektrostatisches Feld, ein magnetostatisches Feld B und
ein Hochfrequenzfeld eines Generators mit einer unterhalb 3 m liegenden Wellenlänge λ befinden,
dadurch gekennzeichnet, daß das Produkt B λ zwischen 10 000 und 15 000 Gauß · cm oder 5000
und 7500 Gauß ■ cm liegt und die elektrischen Kraftlinien des Hochfrequenzfeldes ungefähr
senkrecht auf denen des magnetostatischen Feldes B stehen und daß das elektrische Hochfrequenzfeld
und das elektrostatische Feld eine gemeinsame Symmetrieachse haben und die Einführung
des zu ionisierenden Gases in die Ionisationskammer auf einem Punkt dieser Symmetrieachse
erfolgt.
2. Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß diese ein Stück einer koaxialen
Übertragungsleitung enthält, die mit dem Hochfrequenzgenerator gekoppelt ist und deren eines
Ende mit der Ionisationskammer verbunden ist, während das andere Ende durch eine metallische
Wand geschlossen ist, die von dem Mittelleiter der koaxialen Leitung durchbohrt ist, und daß
dieser Mittelleiter in Richtung der Symmetrieachse liegt, hohl ist und zur Zuführung des zu ionisierenden
Gases in die Ionisationskammer dient.
3. Ionenquelle nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das koaxiale Leitungsstück so
dimensioniert ist, daß die dort auftretenden stehenden Wellen an dem mit der Ionisationskammer
verbundenen Ende einen Spannungsbauch haben.
4. Ionenquelle nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisationskammer am
offenen Ende der koaxialen Leitung einen Zylin- 50 S der enthält, der durch eine aus Isoliermaterial
bestehende und von einem metallischen Röhrchen durchbohrte Wand abgeschlossen ist, das gegenüber
dem Hohlleiter auf negativem Potential liegt und eine Lochblende für das Ausströmen des
ionisierten Gases enthält.
5. Ionenquelle nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der gesamte Zylinder aus
Isoliermaterial besteht und an dem an der koaxialen Leitung angrenzenden Ende durch eine
ebenfalls aus Isoliermaterial bestehende Wand abgeschlossen und mit einer Öffnung für den
besagten Mittelleiter versehen ist.
6. Ionenquelle nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die koaxiale Leitung die
Ionisationskammer umgibt, und zwar insbesondere auf einer Länge von ungefähr λ/4.
7. Ionenquelle nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Ionisationskammer aus
Metall hergestellt ist und einen deformierbaren Teil aufweist, dessen Volumen zu verändern ist.
8. Ionenquelle nach einem oder mehreren der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß
innerhalb der Ionisationskammer der Mittelleiter in einer Spirale um die Achse dieser Kammer
angeordnet ist und eine korbförmige Gestalt aufweist.
9. Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Inneren der Ionisationskammer
senkrecht zur Achsrichtung drei parallelliegende ebene oder gekrümmte metallische Platten
angeordnet sind, die wenigstens an zwei verschiedene Potentiale angeschlossen sind, und daß in
zwei benachbarten Platten für das Ausströmen des ionisierten Gases öffnungen angebracht sind.
10. Ionenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß im Inneren der Ionisationskammer
zwei parallelliegende ebene oder gekrümmte metallische Platten angeordnet sind, die elektrisch
miteinander verbunden und an ein gegenüber einer mit gleichem Abstand zu den zwei Platten angeordneten
Elektrode positives Potential angeschlossen sind.
11. Ionenquelle nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch die zusätzliche Anwendung eines Elektronenstrahls in der Ionisationskammer.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Annalen der Physik, 6. Folge, Bd. 14, Heft 1/2, bis 53.
Annalen der Physik, 6. Folge, Bd. 14, Heft 1/2, bis 53.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
© 009 548/353 6.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1084390X | 1956-10-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1084390B true DE1084390B (de) | 1960-06-30 |
Family
ID=9611610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEC15552A Pending DE1084390B (de) | 1956-10-03 | 1957-10-01 | Ionenquelle mit einem Hochfrequenzfeld |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2946919A (de) |
DE (1) | DE1084390B (de) |
FR (1) | FR1158958A (de) |
GB (1) | GB849565A (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5148097A (en) * | 1974-10-23 | 1976-04-24 | Osaka Koon Denki Kk | Iongen |
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DE102009023551A1 (de) | 2009-05-30 | 2010-12-02 | Bayer Materialscience Ag | Regeneration von sauren Ionenaustauschern |
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-
1956
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- 1957-09-24 GB GB29925/57A patent/GB849565A/en not_active Expired
- 1957-10-01 DE DEC15552A patent/DE1084390B/de active Pending
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
None * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB849565A (en) | 1960-09-28 |
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FR1158958A (fr) | 1958-06-20 |
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