DE1046437B - Verfahren zum Verdampfen chemischer Verbindungen - Google Patents

Verfahren zum Verdampfen chemischer Verbindungen

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DE1046437B
DE1046437B DEP10624A DEP0010624A DE1046437B DE 1046437 B DE1046437 B DE 1046437B DE P10624 A DEP10624 A DE P10624A DE P0010624 A DEP0010624 A DE P0010624A DE 1046437 B DE1046437 B DE 1046437B
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Germany
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metals
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evaporation
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DEP10624A
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English (en)
Inventor
Dr-Ing Walter Heimann
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PYCHLAU KG DR
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PYCHLAU KG DR
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Bedampfen von Gegenständen im Vakuum mit chemischen Verbindungen, insbesondere Zweistoffverbindungen, bei denen Metalle mit Nichtmetallen zu einem Isolierstoff verbunden sind, z. B. Sulfide.
Beim direkten Verdampfen solcher chemischer Verbindungen treten insofern Schwierigkeiten auf, als je nach der Modifikation des Ausgangsmaterials eine mehr oder weniger starke Dissoziation auftritt. Dieser Nachteil wirkt sich auf die aufgedampften mikrokristallinen Schichten sehr ungünstig aus, weil stellenweise eine unerwünscht starke Anreicherung dieser Schicht durch das dissoziierte Metall eintritt, es ist also dann gegenüber dem stöchiometrischen Verhältnis ein großer Metallüberschuß vorhanden. Meist wird aber für die Weiterbehandlung dieser mikrokristallinen Aufdampfschichten gerade ein möglichst stöchiometrisches Verhältnis verlangt. Es ist Aufgabe der Erfindung, diesen Nachteil zu beseitigen.
Eine Durchmusterung aller möglichen Aufdampfverfahren führt zu dem Ergebnis, daß nur solche positive Erfolge aufweisen können, bei denen im Verdampfungsraum zusätzliche elektrische oder magnetische Felder eingebracht sind. Derartige Aufdampfverfahren sind wegen der Richtkraft der magnetischen und elektrischen Kraftfelder bei der Verdampfung von Metallen und anderen Stoffen zur Erzeugung von homogenen Schichten bestimmter Dickenstruktur bekannt.
Nach der Erfindung können diese Verfahren auch zur Lösung der gestellten Aufgabe verwendet werden. Zweckmäßigerweise wird dann in den Verdampfungsraum zwischen dem zu verdampfenden Stoff und die zu bedampfende Fläche eine Katode und eine Anode gelegt, die besondere Formen haben und praktisch Netze darstellen, durch die der Dampf hindurchströmt. Infolge der angelegten Spannung tritt eine Aufladung der Dampfteilchen ein, die zur Folge hat, daß die dissoziierten Metallteilchen sich an der Katode sammeln, während die aufgedampfte Schicht dem stöchiometrischen Verhältnis sehr nahe kommt, oder sogar einen Überschuß des nichtmetallischen Anteiles der Aufdattipi^etbindung aufweist. Bei entsprechender Stärke der angelegten Spannung und entsprechender Auswahl der Elektrodenflächen und ihrer Anordnung kann nach diesem Verfahren auf der bedampften Schicht jedes gewünschte Verhältnis der Anteile der Verbindung hergestellt werden.
Zur Ausübung des Verfahrens nach der Erfindung kann ein Kondensatorfeld benutzt werden. Es können naturgemäß aber auch rotationssymmetrische Felder angewendet werden, die nach Art einer Elektronen- bzw. Ionenlinse eine örtliche Aufspeicherung der geladenen Teilchen vornehmen.
Verfahren zum Verdampfen
chemischer Verbindungen
Anmelder:
Physikalisch Technische Werkstätten
Prof. Dr.-Ing. Walter Heimann,
Wiesbaden-Dotzheim, Am Kohlheck
Dr.-Ing. Walter Hermann, Wiesbaden,
ist als Erfinder genannt worden
In der Zeichnung ist eine geeignete Auf dampf anordnung schematisch veranschaulicht.
Fig. 1 zeigt eine Vakuumglocke 1, in der ein Behälter 2 angeordnet ist, in welchem in bekannter Weise eine chemische Verbindung, beispielsweise Blei-, Zink-, Cadmiumsulfid od. ä., verdampft wird. In dieser Glocke sind weiterhin in bekannter Art kleine Platten 4 angeordnet, die mit einer kristallinen Schicht des entsprechenden Sulfides versehen werden sollen.
Mittels der Elektroden 5 und 6 wird nun zwischen dem Verdampfungsbehälter 2 und den zu bedampfenden Plättchen 4 ein kräftiges Feld, beispielsweise durch Anlegen einer Spannung von 1000 bis 1500 Volt erzeugt.
In den weiteren Figuren sind verschiedene Ausführungsmöglichkeiten der Elektroden dargestellt. Nach Fig. 2 besitzen die Elektroden eine Form, die dem Verdampfungsbehälter 2 etwa kongruent ist. Nach Fig. 3 sind die Elektroden 5 und 6 als Ringe ausgebildet, die zwischen dem Behälter 2 und den zu bedampfenden Plättchen 4 liegen.
Nach Fig. 4 haben die Elektroden ebenfalls Ringform, aber verschiedenen Durchmesser. Die kleinere, 5, in diesem Falle die Katode, ist dem Behälter 2 zugeordnet.
Fig. 5 zeigt eine gleichartige Anordnung wie in Fig. 4. Hier ist jedoch der kleinere, dem Behälter 2 zugeordnete Ring 6 als Anode ausgebildet.
Schließlich zeigt Fig. 6 die Ausbildung der Katode als netzförmige Scheibe, durch die die positiv geladenen Metallteilchen in besonders günstiger Weise aufgefangen werden.
Selbstverständlich ist es möglich, im Rahmen des Verfahrens nach der Erfindung die Ausgestaltung und
809 698/382
Anordnung der Elektroden noch in vielen anderen Arten durchzuführen.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Bedampfen von Gegenständen im Vakuum, wobei im Dampfstrom zwischen Verdampfer und den Gegenständen zwei gegeneinander elektrostatisch aufgeladene, ringförmige Siebelektroden angeordnet sind, gekennzeichnet durch die Anwendung beim Verdampfen von Metallsulfiden und sonstigen teilweise dissoziierenden, aus Metallen und Nichtmetallen zusammengesetzten Zweistoffverbindungen.
2. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Anode und Katode als Ringe gleichen Durchmessers ausgebildet sind.
3. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß Anode und Katode als Ringe verschiedenen Durchmessers ausgebildet sind, wobei vorzugsweise die Elektrode kleineren Durchmessers der zu verdampfenden Verbindung näherliegt.
4. Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach Ansprüchen 1 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die den zu bedampfenden Teilen näherliegende Elektrode die Katode ist und als netzförmige Scheibe ausgebildet ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Britische Patentschrift Nr. 483 029.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
® 809 698/282 12.58
DEP10624A 1953-10-15 1953-10-15 Verfahren zum Verdampfen chemischer Verbindungen Pending DE1046437B (de)

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE544005A (de) * 1954-07-27
US3050981A (en) * 1960-05-19 1962-08-28 Rca Corp Vaporization rate measuring apparatus
US3233577A (en) * 1961-05-29 1966-02-08 Sperry Rand Corp Gettering means in a vacuum deposition device
US3974059A (en) * 1974-10-03 1976-08-10 Yoichi Murayama High vacuum ion plating device
JPS5399762A (en) * 1977-02-12 1978-08-31 Futaba Denshi Kogyo Kk Device for producing compound semiconductor film
US4269137A (en) * 1979-03-19 1981-05-26 Xerox Corporation Pretreatment of substrates prior to thin film deposition
US4310614A (en) * 1979-03-19 1982-01-12 Xerox Corporation Method and apparatus for pretreating and depositing thin films on substrates

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB483029A (en) * 1935-10-12 1938-04-11 Paul Alexander Improvements in and relating to the deposition of metallic films from metal vaporised in vacuo

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2281638A (en) * 1940-05-17 1942-05-05 Thomas W Sukumlyn Electron camera
US2378476A (en) * 1943-02-11 1945-06-19 American Optical Corp Coating apparatus
US2469929A (en) * 1943-09-24 1949-05-10 American Optical Corp Apparatus for coating articles
US2456708A (en) * 1944-05-01 1948-12-21 Rca Corp Apparatus for improving the durability of optical coatings
US2527747A (en) * 1946-01-03 1950-10-31 Margaret N Lewis Apparatus for coating articles by thermal evaporation
US2700626A (en) * 1949-12-09 1955-01-25 Bell Telephone Labor Inc Secondary electron emissive electrodes

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB483029A (en) * 1935-10-12 1938-04-11 Paul Alexander Improvements in and relating to the deposition of metallic films from metal vaporised in vacuo

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US2752882A (en) 1956-07-03

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