DE10330825A1 - Integrierter Schaltkreis - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft einen integrierten Schaltkreis, welcher im wesentlichen aus nicht-einkristallinen Halbleitern hergestellt ist, umfassend: DOLLAR A - eine Vielzahl von Transistoren, wobei alle Transistoren vom gleichen Typ sind; DOLLAR A - zumindest zwei Zeitgeber-Signal-Eingänge, wobei die zu den unterschiedlichen Eingängen zugeführten Zeitgeber-Signale zeitlich nicht-überlappende Signale sind.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen integrierten Schaltkreis, welcher im wesentlichen aus organischen Halbleitern hergestellt ist.
  • Es ist bekannt, integrierte Schaltkreise aus organischen Halbleitern herzustellen. Aufgrund der Eigenschaften der organischen Halbleiter ist es jedoch nicht möglich, alle aus der CMOS-Technologie bekannten Elemente von integrierten Schaltungen auf Schaltungen aus organischen Halbleitern zu übertragen. Aus diesem Grund werden aufwendige Ersatzschaltungen eingesetzt. Diese haben jedoch den Nachteil, daß die Komplexität des Schaltkreises erhöht wird und die Laufzeitverzögerung somit zunimmt. Ferner wird eine häufig mehr als zweimal so hohe Versorgungsspannung wie bei CMOS Schaltkreisen benötigt. Des weiteren ist die Geschwindigkeit beschränkt durch den geringen Strom des ersten Lasttransistors, der das Gatter des letzten Treibertransistors lädt. Schließlich wurde auch ein statischer Leistungsverbrauch beobachtet und die Rauschempfindlichkeit ist erhöht.
  • Aus diesem Grund ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen integrierten Schaltkreis aus organischen Halbleitern bereitzustellen, welcher einen einfachen Aufbau aufweist.
  • Diese Aufgabe wird gelöst durch einen integrierten Schaltkreis mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. Bevorzugte Ausführungformen sind Inhalt der abhängigen Ansprüche.
  • Gemäß der Erfindung wird ein integrierter Schaltkreis bereitgestellt, welcher im wesentlichen aus nicht-einkristallinen Halb leitern hergestellt ist, umfassend:
    • – eine Vielzahl von Transistoren, wobei alle Transistoren vom gleichen Typ sind;
    • – zumindest zwei Zeitgeber-Signaleingänge bzw. Clock-Eingänge, wobei die zu den unterschiedlichen Eingängen zugeführten Zeitgeber-Signale bzw. Clock-Signale bzw. Takt-Signale zeitlich nicht-überlappende Signale sind.
  • Im Falle der Elektronik aus einkristallinen Halbleitern (Si, GaAs, InP) sind elektrische Funktionalität und Substratfunktion untrennbar gekoppelt. Bei nicht-einkristallinen Halbleitern ist die elektrische Funktionalität von dem Trägermaterial entkoppelt. Dies bedeutet, daß nicht-einkristalline Halbleiter auf jedem beliebigen Träger aufgebracht werden können und dort elektrische Funktionalität integriert werden kann.
  • Die nicht-überlappenden Zeitgeber-Signale sind derart ausgestaltet, daß zu einem bestimmten Zeitpunkt immer jeweils nur eines der Signale einen Impuls gibt.
  • Der integrierte Schaltkreis wird somit mittels einer sogenannten Mehrphasen-Logik betrieben.
  • Vorzugsweise umfaßt der integrierte Schaltkreis ferner zumindest einen Versorgungsspannungskontakt zum Zuführen einer Versorgungsspannung und zumindest einen Signalausgang zum Ausgeben eines Ausgangssignals, wobei die Höhe der zuzuführenden Versorgungsspannung im wesentlichen gleich der für das Ausgangssignal benötigten Spannung ist.
  • Bevorzugt sind alle Transistoren p-Kanal-Transistoren.
  • Vorzugsweise umfaßt der Schaltkreis ferner zumindest einen Kondensator zum Zwischenspeichern von Signalen. Die Elemente des integrierten Schaltkreises bilden somit eine dynamische Logikschaltung. Der Kondensator wird vorzugsweise als Signalzwi schenspeicher verwendet zum kurzzeitigen Speichern von internen Signalen des integrierten Schaltkreises. Die Speicherdauer beträgt vorzugsweise einige nsec bis msec.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Halbleiter organische Halbleiter. Vorzugsweise sind die organischen Halbleiter molekulare Halbleiter, vorzugsweise Phthalocyanin, Oligothiophen oder Pentazen.
  • Alternativ können die organischen Halbleiter Polymer-Halbleiter, vorzugsweise Polythiophen, sein.
  • In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform sind die Halbleiter anorganische Halbleiter, welche vorzugsweise oberflächenfunktionalisiert sind. Solche Halbleiter sind bevorzugt oberflächenfunktionalisierte "Nanopartikel" anorganischer Natur wie z.B. CdSe, Si, GaAs, ZnO, TiO2, Rutheniumoxide etc..
  • Vorzugsweise bildet der integrierte Schaltkreis ein NOR-Gatter aus.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform umfaßt der integrierte Schaltkreis:
    • – einen ersten bis vierten Transistor mit jeweils einem Gateanschluß, einem Sourceanschluß und einem Drainanschluß;
    • – einen ersten und zweiten Kondensator;
    • – einen Widerstand;
    • – einen ersten und einen zweiten Zeitgeber-Signaleingang;
    • – einen ersten und einen zweiten Signaleingang; wobei
    • – der Gateanschluß des ersten Transistors über den ersten Kondensator mit dem ersten Zeitgeber-Signaleingang und über den Widerstand mit dem Versorgungsspannungsanschluß signalverbunden ist;
    • – der Sourceanschluß des ersten Transistors mit dem Versorgungsspannungsanschluß signalverbunden ist;
    • – der Drainanschluß des ersten Transistors, der Sourceanschluß des dritten Transistors, der Sourceanschluß des vierten Transistors und der Signalausgang miteinander signalverbunden sind;
    • – der Drainanschluß des ersten Transistors über den zweiten Kondensator geerdet ist;
    • – der erste Signaleingang mit dem Gateansschluß des dritten Transistors signalverbunden ist;
    • – der zweite Signaleingang mit dem Gateansschluß des vierten Transistors signalverbunden ist;
    • – der Drainanschluß des dritten Transistors, der Drainanschluß des vierten Transistors und der Sourceanschluß des zweiten Transistors miteinander signalverbunden sind;
    • – der Gateanschluß des zweiten Transistors mit dem zweiten Zeitgeber-Signaleingang signalverbunden ist;
    • – der Drainanschluß des zweiten Transistors geerdet ist.
  • Weitere Merkmale (Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden ersichtlich aus der Beschreibung von bevorzugten Ausführungsformen) der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die Zeichnungen, in welchen zeigt:
  • 1 einen Teil eines integrierten Schaltkreises gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
  • 2 einen Teil einer Schaltung eines integrierten Schaltkreises gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • Mit Bezug auf die Figuren werden zwei bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beschrieben, welche aus im wesentlichen organischen Halbleitern hergestellt sind. Weitere Halbleiter, die erfindungsgemäß Einsatz finden können sind im Anschluß an die nachfolgende Beschreiben angegeben.
  • Nachfolgend wird eine erste bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf 1 im Detail beschrieben. Zunächst wird der Aufbau der Schaltung gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform mit Bezug auf 1 beschrieben.
  • 1 zeigt die Realisierung eines NOR-Gatters basierend auf einer dynamischen Logik. In der in 1 gezeigten Schaltung sind vier p-Kanaltransistoren T1, T2, T3 und T4 vorgesehen. Die vier Transistoren weisen jeweils einen Gate-Anschluß G1, G2, G3, G4, einen Source-Anschluß S1, S2, S3, S4 und einen Drain-Anschluß D1, D2, D3, D4 auf. Des weiteren sind in der Schaltung zwei Kondensatoren C1, C2 und ein Widerstand R1 vorgesehen. Über zwei Zeitgeber-Signaleingänge Φ1, Φ2 werden der Schaltung zwei nicht-überlappende Zeitgebersignale zugeführt. Als nichtüberlappende Signale sind hierbei Signale zu verstehen, bei welchen zu einem bestimmten Zeitpunkt nur eines der Signale einen Impuls aufweist. Dies bedeutet insbesondere, daß zu einem bestimmten Zeitpunkt nur der mit dem jeweiligen Zeitgeber-Signaleingang in Signalverbindung stehende Schaltungsteil einen Taktimpuls erhält. Es liegt somit zwei Taktsignale bzw. eine Zweiphasenlogik vor.
  • Ferner weist die Schaltung zwei Signaleingänge A, B, einen Signalausgang Q und einen Versorgungsspannungsanschluß V1 auf.
  • Der Gateanschluß G1 des ersten Transistors T1 ist über den ersten Kondensator C1 mit dem ersten Zeitgeber-Signaleingang Φ1 und über den Widerstand R1 mit dem Versorgungsspannungsanschluß V1 signalverbunden. Der Sourceanschluß S1 des ersten Transistors T1 ist vorzugsweise direkt mit dem Versorgungsspannungsanschluß V1 signalverbunden. Ferner sind der Drainanschluß D1 des ersten Transistors T1, der Sourceanschluß S3 des dritten Transistors T3, der Sourceanschluß S4 des vierten Transistors T4 und der Signalausgang Q miteinander signalverbunden. Der Drainanschluß D1 des ersten Transistors T1 ist über den zweiten Kondensator C2 geerdet.
  • Der erste Signaleingang A ist mit dem Gateansschluß G3 des dritten Transistors T3 signalverbunden. Der zweite Signaleingang B ist mit dem Gateansschluß G4 des vierten Transistors T4 signalverbunden.
  • Der Drainanschluß D3 des dritten Transistors T3, der Drainanschluß D4 des vierten Transistors T4 und der Sourceanschluß S2 des zweiten Transistors T2 sind miteinander signalverbunden.
  • Der Gateanschluß G2 des zweiten Transistors T2 ist mit dem zweiten Zeitgeber-Signaleingang Φ2 signalverbunden. Des weiteren ist der Drainanschluß D2 des zweiten Transistors T2 geerdet.
  • Nachfolgend wird der Betrieb der in 1 gezeigten Schaltung beschrieben.
  • Durch einen Puls am ersten Zeitgebersignaleingang Φ1 wird der erste Transistor T1 leitend, wodurch die Kapazität C2 auf die Versorgungsspannung VDD vorgeladen wird. Bei einem nachfolgenden Puls am zweiten Zeitgebersignaleingang Φ2 wird der zweite Transistor T2 leitend. Wenn an dem ersten Signaleingang A ein high-Signal bzw. "1" bzw. die Versorgungsspannung VDD anliegt, wird der dritte Transistor T3 leitend, wobei die Kapazität C2 entladen wird. Das Ausgangssignal, welches am Signalausgang Q dann anliegt ist somit "low" bzw. "0" bzw. die der Erdung entsprechende Spannung VSS.
  • Wenn am zweiten Signaleingang B ein high-Signal bzw. die Versorgungsspannung VDD anliegt, wird der vierte Transistor C4 leitend und die Kapazität C2 wird ebenfalls entladen. Als Folge ist das am Signalausgang Q anliegende Ausgangssignal ebenfalls "0" bzw. low. Das vorstehend genannte gilt ebenfalls, wenn sowohl an dem ersten Signaleingang A als auch an dem zweiten Signaleingang B ein high Signal anliegt.
  • Lediglich in dem Fall, wenn sowohl an dem ersten Signaleingang A als auch an dem zweiten Signaleingang B ein low Signal bzw. "0" anliegt, wird der Kondensator C2 nicht entladen und das an dem Signalausgang Q anliegende Signal ist gleich VDD bzw. "1". Somit wird durch die in 1 dargestellte Schaltung mit Hilfe der Mehrphasenlogik ein NOR-Gatter mit einer dynamischen Schaltungslogik ausgebildet.
  • Nachfolgend wird eine zweite bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf 2 beschrieben.
  • Die in 2 gezeigte Schaltung umfaßt sechs p-Kanaltransistoren T4 – T9 und vier Kondensatoren C3 bis C6. Des weiteren sind zwei Zeitgebersignaleingänge Φ1 und Φ2, ein Signaleingang IN und ein Signalausgang OUT vorgesehen.
  • Nachfolgend wird der Aufbau der Schaltung gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf 2 im Detail beschrieben.
  • Der erste Zeitgebersignaleingang Φ1 ist mit dem Gateanschluß G4 des Transistors T4 und dem Gate-Anschluß G5 des Transistors T5 signalverbunden. Ferner liegt der Source-Anschluß S4 des Transistors T4 auf der Versorgungsspannung VDD. Der Drainanschluß D4 des Transistors T4 ist mit einem Zwischensignalausgang Z und dem Sourceanschluß S6 des Transistors T6 signalverbunden.
  • Der Sourceanschluß S5 des Transistors T5 ist mit dem Signaleingang IN signalverbunden und der Drainanschluß D5 des Transistors D5 ist mit dem Gateanschluß G6 des Transistors T6 und dem Kondensator C3 signalverbunden. Der zweite Anschluß des Kondensators C3 ist geerdet. Der Drainanschluß D6 des Transistors T6 ist ebenfalls geerdet.
  • Der zweite Zeitgebersignaleingang Φ2 ist mit dem Gateanschluß G7 des Transistors T7 und dem Gateanschluß G8 Transistors T8 signalverbunden. Der Sourceanschluß S7 des Transistors T7 liegt auf der Versorgungsspannung VDD. Der Drainanschluß D7 des Transistors T7 ist mit dem Signalausgang OUT, dem Sourceanschluß S9 des Transistors T9 und einem Kondensator C6 signalverbunden. Der zweite Anschluß des Kondensators C6 ist geerdet. Der Sourceanschluß S8 des Transistors T8 ist mit dem Zwischensignalausgang Z und einem Kondensator C4 signalverbunden. Der zweite Anschluß des Kondensators C4 ist geerdet. Der Drainanschluß D8 des Transistors T8 ist mit dem Gateanschluß G9 des Transistors T9 und einem Kondensator C5 signalverbunden. Der zweite Anschluß des Kondensators C5 ist geerdet. Der Drainanschluß D9 des Transistors T9 ist ebenfalls geerdet.
  • Nachfolgend wird der Betrieb der vorstehend beschriebenen Schaltung beschrieben.
  • Ein an dem ersten Zeitgebersignaleingang Φ1 anliegender Puls macht die Transistoren T4 und T5 leitend. Somit liegt das am Signaleingang IN anliegende Eingangssignal am Gateanschluß G6 des Transistors T6 an. Abhängig von dem Eingangssignal wird der Transistor T6 leitend oder nicht. Wenn das Eingangssignal ein high-Signal bzw. "1" ist, wird der Transistor T6 leitend und an dem Zwischensignalausgang Z liegt ein low-Signal bzw. "0" an. Ist hingegen das Eingangssignal ein low-Signal, verbleibt der Transistor T6 in seinem nicht-leitenden Zustand und an dem Zwi schensignalausgang liegt ein high-Signal an. Am Zwischensignalausgang A1 liegt somit immer das Inverse des Eingangssignals an.
  • Durch das am Zwischensignalausgang Z anliegende Signal wird der Kondensator C4 geladen. Somit kann das am Zwischensignalausgang Z anliegende Signal für eine kurze Zeit durch den Kondensator C4 gespeichert werden. Wenn am zweiten Zeitgegersignaleingang Φ2 ein Puls anliegt, werden die Transistoren T7 und T8 leitend. Abhängig von dem an dem Zwischensignalausgang Z anliegenden Zwischensignal wird der Transistor T9 leitend oder nicht. Wenn am Zwischensignalausgang Z ein high-Signal anliegt, wird der Transistor T9 leitend und das am Signalausgang OUT anliegende Ausgangssignal wird low bzw. "0". Wenn hingegen am Zwischensignalausgang A1 ein low-Signal anliegt, verbleibt der Transistor T9 nicht leitend und am Signalausgang OUT liegt ein High-Signal bzw. "1" an. Das am Signalausgang OUT anliegende Ausgangssignal ist somit ein Inverses des Zwischenausgangssignals bzw. gleich dem Eingangssignal, welches am Anfang des Durchlaufs bzw. der Phase am Signaleingang IN angelegen hatte. Somit kann durch die in 2 dargestellte Schaltung ein Phasenschieber realisiert werden.
  • Die in den dargestellten Schaltungen verwendeten Kondensatoren können ein Signal für eine kurze Zeitspanne speichern. Somit wird eine dynamische Logikschaltung mit einem mehrphasigen Betrieb ausgebildet.
  • Mit Hilfe der erfindungsgemäßen integrierten Schaltung, vorzugsweise aus organischen Halbleitern, können auf einfache Weise Schaltungen mit nur einem Transistortyp realisiert werden. Insbesondere können Schaltungen realisiert werden, die nur p-Kanal-Transistoren aufweisen und dennoch eine geringe Komplexität und geringe Anforderungen an die Versorgungsspannung auf weisen. Transistoren, die in einer komplementären Logik n-Kanal-Transistoren wären, könnnen vorzugsweise durch einen kapazitiv gekoppelten p-Kanal-Transistor ersetzt werden, wobei bevorzugt die Gatespannung kapazitiv gekoppelt ist. Somit wird vorzugsweise eine dynamische Mehrphasenlogik realisiert.
  • In der erfindungsgemäßen Schaltungsanordnung ist die Höhe der Versorgungsspannung lediglich durch die für das Ausgangssignal bzw. die Höhe der für das Ausgangssignal benötigten Gate-Source-Spannung begrenzt.
  • Vorzugsweise sind die verwendeten organischen Halbleiter niedermolekulare oder polymere Halbleiter. Organische Halbleiter, welche in einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung Verwendung finden, sind in der Veröffentlichung "Polymer Gate Dielectric Pentacene TFTs and Circuits on Flexible Substrates" von H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik, R. Brederlow, S. Briole, C. Pacha, R. Thewes, and W. Weber, veröffentlicht in 2002 International Electron Devices Meeting Technical Digest, pp. 557 560, December 2002, beschrieben, welche bezüglich der verwendeten Halbleiter hierin als vollinhaltlich offenbart angesehen wird. Ein bevorzugter organischer Halbleiter polymerer Natur ist z.B. Polythiophen. Weitere bevorzugte Polymere sind regioreguläre Po-ly(3-Alkyl)thiophene, bevorzugte Alkylgruppen (hexyl, octyl), Polyvinylthiophene, Polypyrrole und deren Derivate.
  • Bevorzugte niedermolekulare organische Halbleiter sind z.B. Phthalocyanin, Anthrazen, Tetrazen, Pentazen, Oligothiophene (substituiert, unsubstituiert), beispielweise α, ω bisdecylsexiothiophen, Naphthalintetracarbonsäuredianhydrid, Naphthalintetracarbonsäurediimid und seine Derviate.
  • Im Sinne dieser Anmeldung werden metallorganische Halbleiter als organische Halbleiter verstanden. Bevorzugte metallorganische Halbleiter sind Cu-Phthalocyanin, perfluoro-Cu-Phthalocyanin, Metall Porphyrinderivate, (C6H5C2H4NH3)2SnI4, Derivate der Magnus Salze [Pt(NH3)4] [PtCl4] beispielsweise [Pt(NH2democ)4][PtCl4]. Metallorganische Halbleiter, welche in einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung Verwendung finden, sind in den Veröffentlichungen "(Hot-)Water-Proof", Semiconducting, Platinum-Based Chain Structures: Processing, Porducts, and Properties" von W. R. Caseri et al., veröffentlicht in Advanced Materials 2003, 15, No. 2, January 16, pp. 125 129 und "Organic-Inorganic Hybrid Materials as Semiconducting Channels in Thin-Film Field-Effect Transistors" von C. R. Kagan et al., Veröffentlicht in Science, Vol. 286, 29 October 1999, pp. 945 947, beschrieben, welche bezüglich der verwendeten Halbleiter hierin als vollinhaltlich offenbart angesehen werden.
  • Weitere bevorzugte Halbleiter im Sinne dieser Anmeldung sind ggf. oberflächenfunktionalisierte, nicht einkristalline Halbleiter, wie nano-CdSe oder nano-Si.
  • Für die vorliegende Erfindung werden nicht-einkristalline Halbleiter, insbesondere bevorzugt organische Halbleiter, verwendet. Wichtig ist hierbei die Entkopplung zwischen elektrischer Funktionalität und Trägermaterial. Im Gegensatz dazu sind bei einkristallinen Halbleitern Trägermaterial und elektrische Funktionalität untrennbar verbunden. Vorzugsweise können die verwendeten Halbleiter im Prinzip auf jedem Substrat (Kunststofffolien, Papier etc.) abgeschieden werden. Die damit neu erhaltene Flexibilität in der Substratwahl, Fertigungstechnik und Applizierbarkeit bringt neue Vorteile.
  • Φ1
    erster Zeitgebersignaleingang
    Φ2
    zweiter Zeitgebersignaleingang
    A
    erster Signaleingang
    B
    zweiter Signaleingang
    C1 – C6
    Kondensator
    D1 – D9
    Drainanschluß
    G1 – G9
    Gateanschluß
    IN
    Signaleingang
    OUT
    Signalausgang
    Q
    Signalausgang
    S1 – S9
    Sourceanschluß
    T1 – T9
    Transistor
    Z
    Zwischensignalausgang

Claims (11)

  1. Integrierter Schaltkreis, welcher im wesentlichen aus nicht-einkristallinen Halbleitern hergestellt ist, umfassend: – eine Vielzahl von Transistoren, wobei alle Transistoren vom gleichen Typ sind; – zumindest zwei Zeitgeber-Signal-Eingänge, wobei die zu den unterschiedlichen Eingängen zugeführten Zeitgeber-Signale zeitlich nicht-überlappende Signale sind.
  2. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 1, welcher ferner zumindest einen Versorgungsspannungskontakt zum Zuführen einer Versorgungsspannung und zumindest einen Signalausgang zum Ausgeben eines Ausgangssignals umfaßt, wobei die Höhe der zuzuführenden Versorgungsspannung im wesentlichen gleich der für das Ausgangssignal benötigten Spannung ist.
  3. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei alle Transistoren p-Kanal-Transistoren sind.
  4. Integrierter Schaltkreis gemäß einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Schaltkreis ferner zumindest einen Kondensator zum Zwischenspeichern von Signalen umfaßt.
  5. Integrierter Schaltkreis gemäß einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Halbleiter organische Halbleiter sind.
  6. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 5, wobei die organischen Halbleiter molekulare Halbleiter sind.
  7. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 5, wobei die organischen Halbleiter Polymer-Halbleiter sind.
  8. Integrierter Schaltkreis gemäß einem der Ansprüche 2 bis 4, wobei die nicht-einkristallinen Halbleiter anorganische Halbleiter sind, welche vorzugsweise oberflächenfunktionalisiert sind.
  9. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 8, wobei die Halbleiter oberflächenfunktionalisierte Nanopartikel anorganischer Natur sind sind.
  10. Integrierter Schaltkreis gemäß einem der Ansprüche 2 bis 9, welcher ein NOR-Gatter ausbildet.
  11. Integrierter Schaltkreis gemäß Anspruch 10, umfassend: – einen ersten bis vierten Transistor (T1 – T4) mit jeweils einem Gateanschluß (G1 – G4), einem Sourceanschluß (S1 – S4) und einem Drainanschluß (D1 – D4); – einen ersten und zweiten Kondensator (C1, C2); – einen Widerstand (R1); – einen ersten und einen zweiten Zeitgeber-Signaleingang (Φ1, Φ2); – einen ersten und einen zweiten Signaleingang (A, B); wobei – der Gateanschluß (G1) des ersten Transistors (T1) über den ersten Kondensator (C1) mit dem ersten Zeitgeber-Signaleingang (Φ1) und über den Widerstand (R1) mit dem Versorgungsspannungsanschluß (V1) signalverbunden ist; – der Sourceanschluß (S1) des ersten Transistors (T1) mit dem Versorgungsspannungsanschluß (V1) signalverbunden ist; – der Drainanschluß (D1) des ersten Transistors (T1), der Sourceanschluß (S3) des dritten Transistors (T3), der Sourceanschluß (S4) des vierten Transistors (T4) und der Signalausgang (Q) miteinander signalverbunden sind; – der Drainanschluß (D1) des ersten Transistors (T1) über den zweiten Kondensator (C2) geerdet ist; – der erste Signaleingang (A) mit dem Gateansschluß (G3) des dritten Transistors (T3) signalverbunden ist; – der zweite Signaleingang (B) mit dem Gateansschluß (G4) des vierten Transistors (T4) signalverbunden ist; – der Drainanschluß (D3) des dritten Transistors (T3), der Drainanschluß (D4) des vierten Transistors (T4) und der Sourceanschluß (S2) des zweiten Transistors (T2) miteinander signalverbunden sind; – der Gateanschluß (G2) des zweiten Transistors (T2) mit dem zweiten Zeitgeber-Signaleingang (Φ2) signalverbunden ist; – der Drainanschluß (D2) des zweiten Transistors (T2) geerdet ist.
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