DE102019124172A1 - Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Offenbarung schafft eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung mit einem Substrat mit einem ersten Subpixel und einem zweiten Subpixel, einer ersten Elektrode in jedem des ersten Subpixels und des zweiten Subpixels des Substrats, einer Zaunstruktur zwischen der ersten Elektrode des ersten Subpixels und der ersten Elektrode des zweiten Subpixels, einer Lichtemissionsschicht auf der ersten Elektrode und der Zaunstruktur und einer zweiten Elektrode auf der Lichtemissionsschicht. Die Zaunstruktur umfasst eine erste Struktur, die in einer ersten Richtung angeordnet ist, eine zweite Struktur, die sich von einem Ende der ersten Struktur in einer zweiten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstreckt, und eine dritte Struktur, die sich vom anderen Ende der ersten Struktur in einer dritten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstreckt, und mindestens ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht ist in einem Bereich getrennt, der mit einem Graben überlappt, der durch die erste Struktur, die zweite Struktur und die dritte Struktur definiert ist.

Description

  • HINTERGRUND
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung und insbesondere auf eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung zum Emittieren von weißem Licht.
  • Beschreibung des Standes der Technik
  • Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtungen sind Einrichtungen, bei denen eine Lichtemissionsschicht zwischen zwei Elektroden (d. h. einer Anodenelektrode und einer Kathodenelektrode) vorgesehen ist und Licht emittiert, wobei ein elektrisches Feld zwischen den zwei Elektroden erzeugt wird, wodurch ein Bild angezeigt wird.
  • Die Lichtemissionsschicht kann aus einem organischen Material oder einem anorganischen Material wie z. B. einem Quantenpunkt ausgebildet sein. In der Lichtemissionsschicht wird ein Exziton durch eine Kombination eines Elektrons und eines Lochs erzeugt, und wenn das Exziton von einem angeregten Zustand auf einen Grundzustand verschoben wird, wird Licht emittiert.
  • Die Lichtemissionsschicht kann Lichter mit verschiedenen Farben (beispielsweise rot, grün und blau) in Subpixeln emittieren und kann Lichter derselben Farbe (beispielsweise weißes Licht) in den Subpixeln emittieren.
  • In einem Fall, in dem die Lichtemissionsschicht Lichter mit verschiedenen Farben durch Einheiten von Subpixeln emittiert, besteht, da verschiedene Lichtemissionsschichten in Subpixeln unter Verwendung einer Maske abgeschieden werden sollten, eine Begrenzung, wenn ein Maskenprozess zusätzlich durchgeführt wird, und wenn eine Maske nicht präzise ausgerichtet ist, besteht ein Problem, bei dem es schwierig ist, die Lichtemissionsschicht in jedem Subpixel abzuscheiden.
  • Andererseits ist in einem Fall, in dem die Lichtemissionsschicht Lichter derselben Farbe (beispielsweise weißes Licht) in Subpixeln emittiert, eine Maske zum Ausbilden eines Musters der Lichtemissionsschicht nicht erforderlich und folglich tritt ein durch einen Maskenprozess verursachtes Problem nicht auf.
  • In einem Fall, der eine Lichtemissionsschicht, die Licht derselben Farbe emittiert, für jedes Subpixel ohne Maskenprozess ausbildet, bewegt sich jedoch eine elektrische Ladung durch die Lichtemissionsschicht zwischen zueinander benachbarten Subpixeln und aufgrund dessen tritt ein Kriechstrom auf, der eine Verschlechterung der Bildqualität verursacht.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Folglich ist die vorliegende Offenbarung auf die Schaffung einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gerichtet, die ein oder mehrere Probleme aufgrund von Begrenzungen und Nachteilen des Standes der Technik im Wesentlichen vermeidet.
  • Ein Aspekt der vorliegenden Offenbarung ist auf die Schaffung einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung zum Verringern der Verschlechterung der Bildqualität, die durch einen Kriechstrom verursacht wird, gerichtet.
  • Weitere Vorteile und Merkmale der Offenbarung werden teilweise in der Beschreibung, die folgt, dargelegt und werden teilweise für den Fachmann auf dem Gebiet bei der Untersuchung des Folgenden ersichtlich oder können aus der Ausführung der Offenbarung gelernt werden. Die Ziele und andere Vorteile der Offenbarung können durch die Struktur verwirklicht und erreicht werden, auf die in der schriftlichen Beschreibung und den Ansprüchen hiervon sowie den beigefügten Zeichnungen besonders hingewiesen wird.
  • Die vorstehend identifizierten Probleme werden durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Um diese und andere Vorteile zu erreichen, und gemäß dem Zweck der Offenbarung, wie hier verkörpert und breit beschrieben, wird eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung mit einem Substrat mit einem ersten Subpixel und einem zweiten Subpixel, einer ersten Elektrode in jedem des ersten Subpixels und des zweiten Subpixels des Substrats, einer Zaunstruktur zwischen der ersten Elektrode des ersten Subpixels und der ersten Elektrode des zweiten Subpixels, einer Lichtemissionsschicht auf der ersten Elektrode und der Zaunstruktur und einer zweiten Elektrode auf der Lichtemissionsschicht geschaffen, wobei die Zaunstruktur eine erste Struktur (auch als erster Teil bezeichnet), die in einer ersten Richtung angeordnet ist, eine zweite Struktur (auch als zweiter Teil bezeichnet), die sich von einem Ende der ersten Struktur in einer zweiten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstreckt, und eine dritte Struktur (auch als dritter Teil bezeichnet), die sich vom anderen Ende der ersten Struktur in einer dritten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstreckt, umfasst und zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht in einem Bereich, der mit einem Graben überlappt, der durch die erste Struktur, die zweite Struktur und die dritte Struktur definiert ist, getrennt ist. Die erste Richtung kann zur zweiten Richtung senkrecht sein. Die zweite Richtung kann dieselbe wie die dritte Richtung sein.
  • Eine obere Oberfläche der ersten Struktur kann zum Substrat parallel sein. Die obere Oberfläche kann eine Oberfläche bezeichnen, die vom Substrat abgewandt ist. Mit anderen Worten, die obere Oberfläche kann eine Oberfläche entgegengesetzt zu einer unteren Oberfläche sein, wobei die untere Oberfläche eine Oberfläche ist, die dem Substrat zugewandt ist.
  • Eine Höhe einer unteren Oberfläche der ersten Struktur kann dieselbe wie eine Höhe einer unteren Oberfläche der ersten Elektrode sein. Mit anderen Worten, ein Niveau einer unteren Oberfläche des ersten Teils, die dem Substrat zugewandt ist, kann dasselbe Niveau einer unteren Oberfläche der ersten Elektrode sein, die dem Substrat zugewandt ist.
  • Die zweite Struktur und die dritte Struktur können so vorgesehen sein, dass sie einander zugewandt sind, und eine Leerstelle ist in einem Bereich zwischen der zweiten Struktur und der dritten Struktur vorgesehen.
  • Die zweite Struktur erstreckt sich zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der ersten Elektrode im ersten Subpixel entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode im ersten Subpixel. Die dritte Struktur kann sich zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der ersten Elektrode im zweiten Subpixel entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode im zweiten Subpixel erstrecken. Beide oberen Oberflächen können vom Substrat abgewandt sein. Mit anderen Worten, die oberen Oberflächen können zu jeweiligen unteren Oberflächen der ersten Elektroden entgegengesetzt sein, wobei die unteren Oberflächen dem Substrat zugewandt sein können.
  • Der Graben kann so vorgesehen sein, dass er nicht durch die Zaunstruktur verläuft. Mit anderen Worten, der Graben kann außerhalb der Zaunstruktur vorgesehen sein. Somit ist der Graben kein integraler Teil der Zaunstruktur und kann ein separates Element sein, das auf einer oberen Oberfläche der Zaunstruktur angeordnet ist.
  • Die Lichtemissionsschicht kann einen ersten Stapel, der Licht einer ersten Farbe emittiert, einen zweiten Stapel, der Licht einer zweiten Farbe, die sich von der ersten Farbe unterscheidet, emittiert, und eine Ladungserzeugungsschicht, die zwischen dem ersten Stapel und dem zweiten Stapel vorgesehen ist, umfassen. Der erste Stapel und die Ladungserzeugungsschicht sind in einem Bereich, der mit dem Graben überlappt, getrennt.
  • Eine Linsenanordnung kann vom Substrat beabstandet sein. Ein Aufnahmegehäuse kann das Substrat und die Linsenanordnung aufnehmen.
  • In einem anderen Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung mit einem Substrat mit einem ersten Subpixel und einem zweiten Subpixel, einer ersten Elektrode in jedem des ersten Subpixels und des zweiten Subpixels des Substrats, einer Trennwand zwischen der ersten Elektrode des ersten Subpixels und der ersten Elektrode des zweiten Subpixels, einer Lichtemissionsschicht auf der ersten Elektrode und der Trennwand, einer zweiten Elektrode auf der Lichtemissionsschicht und einem ersten Graben zwischen der ersten Elektrode des ersten Subpixels und der Trennwand und einem zweiten Graben zwischen der ersten Elektrode des zweiten Subpixels und der Trennwand geschaffen.
  • Zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht kann in einem Bereich, der mit dem ersten Graben überlappt, und/oder einem Bereich, der mit dem zweiten Graben überlappt, getrennt sein.
  • Eine Zaunstruktur kann sich zwischen der ersten Elektrode des ersten Subpixels und der ersten Elektrode des zweiten Subpixels befinden. Die Zaunstruktur kann auf der Trennwand vorgesehen sein.
  • Die Zaunstruktur kann eine erste Struktur, die parallel zum Substrat angeordnet ist, eine zweite Struktur, die sich von einem Ende der ersten Struktur entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode des ersten Subpixels erstreckt, und eine dritte Struktur, die sich vom anderen Ende der ersten Struktur entlang einer Seitenoberfläche der Trennwand erstreckt, umfassen. Der erste Graben kann durch die erste Struktur, die zweite Struktur und die dritte Struktur definiert sein.
  • Eine obere Oberfläche der ersten Struktur kann zum Substrat parallel sein. Eine Höhe einer unteren Oberfläche der ersten Struktur kann dieselbe wie eine Höhe einer unteren Oberfläche der ersten Elektrode sein.
  • Die zweite Struktur und die dritte Struktur können so vorgesehen sein, dass sie einander zugewandt sind. Eine Leerstelle kann in einem Bereich zwischen der zweiten Struktur und der dritten Struktur vorgesehen sein.
  • Die Zaunstruktur kann eine vierte Struktur, die parallel zum Substrat angeordnet ist, eine fünfte Struktur, die sich von einem Ende der vierten Struktur entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode des zweiten Subpixels erstreckt, und eine sechste Struktur, die sich vom anderen Ende der vierten Struktur entlang der anderen Seitenoberfläche der Trennwand erstreckt, umfassen. Der erste Graben kann durch die vierte Struktur, die fünfte Struktur und die sechste Struktur definiert sein.
  • Die sechste Struktur kann mit der dritten Struktur in einer oberen Oberfläche der Trennwand verbunden sein, wobei die obere Oberfläche vom Substrat abgewandt ist.
  • Die Trennwand kann dasselbe Material wie ein Material der ersten Elektrode umfassen.
  • Die erste Elektrode kann eine erste leitfähige Schicht und eine zweite leitfähige Schicht umfassen, die sequentiell gestapelt sein können. Die Trennwand kann eine erste Schicht und eine zweite Schicht umfassen, die sequentiell gestapelt sein können. Die erste Schicht der Trennwand kann dasselbe Material wie ein Material der ersten leitfähigen Schicht der ersten Elektrode umfassen. Die zweite Schicht der Trennwand kann dasselbe Material wie ein Material der zweiten leitfähigen Schicht der ersten Elektrode umfassen.
  • Die zweite Schicht der Trennwand und die zweite leitfähige Schicht der ersten Elektrode können jeweils ein reflektierendes Material umfassen.
  • Eine Dicke der zweiten Schicht der Trennwand kann dicker sein als eine Dicke der zweiten leitfähigen Schicht der ersten Elektrode.
  • Eine Linsenanordnung kann vom Substrat beabstandet sein. Ein Aufnahmegehäuse kann das Substrat und die Linsenanordnung aufnehmen.
  • Selbstverständlich sind sowohl die vorangehende allgemeine Beschreibung als auch die folgende ausführliche Beschreibung der vorliegenden Offenbarung beispielhaft und erläuternd und sollen eine weitere Erläuterung der Offenbarung, wie beansprucht, bereitstellen.
  • Figurenliste
  • Die begleitenden Zeichnungen, die enthalten sind, um für ein weiteres Verständnis der Offenbarung zu sorgen, und in diese Anmeldung eingegliedert sind und einen Teil von dieser bilden, stellen Ausführungsformen der Offenbarung dar und dienen zusammen mit der Beschreibung zum Erläutern des Prinzips der Offenbarung; es zeigen:
    • 1 eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
    • 2 eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
    • 3 eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegende Offenbarung;
    • 4 eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
    • 5 eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung; und
    • 6A bis 6C eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und eine Einrichtung einer am Kopf angebrachten Anzeige (HMD).
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER OFFENBARUNG
  • Nun wird im Einzelnen auf die beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung Bezug genommen, von der Beispiele in den begleitenden Zeichnungen dargestellt sind. Wann immer möglich, werden dieselben Bezugszeichen in den ganzen Zeichnungen verwendet, um auf dieselben oder ähnliche Teile Bezug zu nehmen.
  • Vorteile und Merkmale der vorliegenden Offenbarung und Implementierungsverfahren davon werden durch die folgenden Ausführungsformen verdeutlicht, die mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben werden. Die vorliegende Offenbarung kann jedoch in verschiedenen Formen verkörpert sein und sollte nicht als auf die hier dargelegten Ausführungsformen begrenzt aufgefasst werden. Vielmehr sind diese Ausführungsformen vorgesehen, so dass diese Offenbarung gründlich und vollständig ist, und den Schutzbereich der vorliegenden Offenbarung dem Fachmann auf dem Gebiet vollständig vermittelt. Ferner ist die vorliegende Offenbarung nur durch die Schutzbereiche der Ansprüche definiert.
  • Eine Form, eine Größe, ein Verhältnis, ein Winkel und eine Anzahl, die in den Zeichnungen zum Beschreiben von Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung offenbart sind, sind lediglich ein Beispiel und folglich ist die vorliegende Offenbarung nicht auf die dargestellten Details begrenzt. Gleiche Bezugszeichen beziehen sich durchweg auf gleiche Elemente. Wenn in der folgenden Beschreibung bestimmt wird, dass die ausführliche Beschreibung der relevanten bekannten Funktion oder Konfiguration den wichtigen Punkt der vorliegenden Offenbarung unnötig unklar macht, wird auf die ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Beim Auffassen eines Elements wird das Element als einen Fehlerbereich umfassend aufgefasst, obwohl keine explizite Beschreibung vorhanden ist.
  • Beim Beschreiben einer Positionsbeziehung, beispielsweise wenn eine Positionsbeziehung zwischen zwei Teilen als „auf-“, „über-“, „unter-“ und „neben-“ beschrieben wird, können ein oder mehrere andere Teile zwischen den zwei Teilen angeordnet sein, wenn nicht „nur“ oder „direkt“ verwendet wird.
  • Beim Beschreiben einer Zeitbeziehung, wenn beispielsweise die zeitliche Reihenfolge als „nach-“, „im Anschluss an-“, „als nächstes-“ und „vor-“ beschrieben wird, kann ein Fall, der nicht kontinuierlich ist, enthalten sein, wenn nicht „nur“ oder „direkt“ verwendet wird.
  • Obwohl die Begriffe „erster“, „zweiter“ usw. hier verwendet werden können, um verschiedene Elemente zu beschreiben, sollten diese Elemente selbstverständlich nicht durch diese Begriffe begrenzt sein. Diese Begriffe werden nur verwendet, um ein Element von einem anderen zu unterscheiden. Ein erstes Element könnte beispielsweise als zweites Element bezeichnet werden und ebenso könnte ein zweites Element als erstes Element bezeichnet werden, ohne vom Schutzbereich der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.
  • Merkmale von verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können teilweise oder insgesamt miteinander gekoppelt oder kombiniert werden und können verschiedenartig miteinander betrieben und technisch betrieben werden, wie der Fachmann auf dem Gebiet ausreichend verstehen kann. Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können unabhängig voneinander ausgeführt werden oder können zusammen in einer gegenseitig abhängigen Beziehung ausgeführt werden.
  • Nachstehend werden beispielhafte Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen im Einzelnen beschrieben.
  • 1 ist eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
  • Wie in 1 zu sehen, kann die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ein Substrat 100, mehrere erste Elektroden 310, 320 und 330, eine Zaunstruktur 400 und einen Graben T umfassen.
  • Mehrere Subpixel P1 bis P3 können im Substrat 100 vorgesehen sein.
  • Die mehreren Subpixel P1 bis P3 können ein erstes Subpixel P1, ein zweites Subpixel P2 und ein drittes Subpixel P3 umfassen. Das erste Subpixel P1, das zweite Subpixel P2 und das dritte Subpixel P3 können sequentiell in einer Breitenrichtung angeordnet sein und folglich können das erste Subpixel P1 und das zweite Subpixel P2 benachbart zueinander angeordnet sein und das zweite Subpixel P2 und das dritte Subpixel P3 können benachbart zueinander angeordnet sein. Das erste Subpixel P1 kann vorgesehen sein, um Licht mit einer Farbe von rot (R), grün (G) und blau (B) zu emittieren, das zweite Subpixel P2 kann vorgesehen sein, um Licht mit einer anderen Farbe von rot (R), grün (G) und blau (B) zu emittieren, und das dritte Subpixel P3 kann vorgesehen sein, um Licht mit der anderen Farbe von rot (R), grün (G) und blau (B) zu emittieren.
  • Die Subpixel P1 bis P3, die Lichter mit derselben Farbe emittieren, können in einer Reihe in einer Längenrichtung angeordnet sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt. Eine Anordnungsstruktur der mehreren Subpixel P1 bis P3 kann in verschiedene Strukturen geändert werden, die dem Fachmann auf dem Gebiet bekannt sind.
  • Die ersten Elektroden 310 bis 330 können jeweils in den Subpixeln P1 bis P3 strukturiert sein. Das heißt, eine erste Elektrode 310 kann im ersten Subpixel P1 vorgesehen sein, eine andere erste Elektrode 320 kann im zweiten Subpixel P2 vorgesehen sein und eine andere erste Elektrode 330 kann im dritten Subpixel P3 vorgesehen sein. Jede der ersten Elektroden 310 bis 330 kann als Anode der Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung funktionieren. Die ersten Elektroden 310 bis 330 können in einer tetragonalen Struktur vorgesehen sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt, und können in verschiedenen Strukturen modifiziert werden, die dem Fachmann auf dem Gebiet bekannt sind.
  • Die Zaunstruktur 400 kann in einem Grenzbereich zwischen den mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein, um Kanten der erste Elektroden 310 bis 330 zu bedecken. Die Zaunstruktur 400 kann im Grenzbereich zwischen den mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein, die vertikal und horizontal zueinander benachbart sind, und kann folglich in einer ganzen Matrixstruktur vorgesehen sein. Ein Freilegungsbereich, der freiliegt, ohne durch die Zaunstruktur 400 bedeckt zu sein, von jeder der ersten Elektroden 310 bis 330 kann ein Emissionsgebiet konfigurieren. Das Emissionsgebiet kann durch die Zaunstruktur 400 definiert sein.
  • Der Graben T kann in einem Grenzbereich zwischen den mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein und kann im Einzelnen in einem Bereich zwischen den mehreren ersten Elektroden 310 bis 330, die zueinander benachbart sind, vorgesehen sein. Wie die Zaunstruktur 400 kann der Graben T in dem Bereich zwischen den mehreren ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein, die vertikal und horizontal zueinander benachbart sind, und kann folglich in einer ganzen Matrixstruktur vorgesehen sein.
  • Der Graben T kann verhindern, dass ein Kriechstrom zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, auftritt. In einem Fall, in dem ein Intervall zwischen den Subpixeln P1 bis P3 zum Verwirklichen einer hohen Auflösung sehr kurz ist, besteht, wenn Licht von einer Lichtemissionsschicht in einem der Subpixel P1 bis P3 emittiert wird, eine Möglichkeit, dass eine elektrische Ladung in der Lichtemissionsschicht sich zu einem benachbarten Subpixel bewegen kann, so dass ein Kriechstrom verursacht wird.
  • In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann daher der Graben T in einer Grenze zwischen den Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein, und folglich kann ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht in einem Bereich, der mit dem Graben T überlappt, getrennt sein, wodurch verhindert wird, dass ein Kriechstrom zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, auftritt.
  • Da insbesondere gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung der Graben T in einem Raum zwischen den ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen wird, nachdem die ersten Elektroden 310 bis 330 strukturiert sind, kann ein separater Prozess zum Ausbilden des Grabens T nicht erforderlich sein, und überdies kann ein Grenzbereich zwischen den Subpixeln P1 bis P3 zum Ausbilden des Grabens T nicht zunehmen, wodurch ein Öffnungsverhältnis nicht abnehmen kann. Dies wird nachstehend mit Bezug auf eine nachstehend beschriebene Querschnittsansicht genauer beschrieben.
  • 2 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und entspricht einer Querschnittsoberfläche entlang der Linie I-I von 1.
  • Wie in 2 zu sehen, kann die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ein Substrat 100, eine Schaltungsvorrichtungsschicht 200, mehrere erste Elektroden 310 bis 330, eine Zaunstruktur 400, eine Lichtemissionsschicht 500, eine zweite Elektrode 600, eine Einkapselungsschicht 700 und mehrere Farbfilterschichten 810 bis 830 umfassen.
  • Das Substrat 100 kann aus Glas oder Kunststoff ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt, und kann aus einem Halbleitermaterial wie z. B. einem Siliziumwafer ausgebildet sein. Das Substrat 100 kann aus einem transparenten Material oder einem opaken Material ausgebildet sein. Ein erstes Subpixel P1, ein zweites Subpixel P2 und ein drittes Subpixel P3 können im Substrat 100 vorgesehen sein.
  • Die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann als Oberseitenemissionstyp implementiert werden, wobei emittiertes Licht zu einem oberen Abschnitt abgeführt wird. Folglich kann ein Material des Substrats 100 ein opakes Material sowie ein transparentes Material verwenden.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 kann auf dem Substrat 100 vorgesehen sein.
  • Eine Schaltungsvorrichtung mit verschiedenen Signalleitungen, einem Dünnfilmtransistor (TFT), einem Kondensator und dergleichen kann in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 in jedem der ersten bis dritten Subpixel P1 bis P3 vorgesehen sein.
  • Die Signalleitungen können eine Gate-Leitung, eine Datenleitung, eine Leistungsleitung und eine Referenzleitung umfassen und der TFT kann einen Schalt-TFT, einen Ansteuer-TFT und einen Erfassungs-TFT umfassen.
  • Der Schalt-TFT kann gemäß einem Gate-Signal eingeschaltet werden, das durch die Gate-Leitung zugeführt wird, und kann eine Datenspannung, die durch die Datenleitung zugeführt wird, zum Ansteuer-TFT übertragen.
  • Der Ansteuer-TFT kann mit der Datenspannung, die durch den Schalt-TFT zugeführt wird, eingeschaltet werden und kann einen Datenstrom aus Leistung erzeugen, die durch die Leistungsleitung zugeführt wird, um den Datenstrom zu den ersten Elektroden 310 bis 330 zuzuführen.
  • Der Erfassungs-TFT kann eine Schwellenspannungsabweichung des Ansteuer-TFT erfassen, die die Verschlechterung der Bildqualität verursacht, und kann einen Strom des Ansteuer-TFT zur Referenzleitung in Reaktion auf ein Erfassungssteuersignal zuführen, das durch die Gate-Leitung oder eine separate Erfassungsleitung zugeführt wird.
  • Der Kondensator kann die zum Ansteuer-TFT zugeführte Datenspannung während eines Rahmens halten und kann mit einem Gate-Anschluss und einem Source-Anschluss des Ansteuer-TFT verbunden sein.
  • Jeder des Schalt-TFT, des Ansteuer-TFT und des Erfassungs-TFT kann eine Gate-Elektrode 210, die auf dem Substrat 100 vorgesehen ist, eine Gate-Isolationsschicht 220, die auf der Gate-Elektrode 210 vorgesehen ist, eine Halbleiterschicht 230, die auf der Gate-Isolationsschicht 220 vorgesehen ist, und eine Source-Elektrode 240 und eine Drain-Elektrode 250 umfassen, die so vorgesehen sind, dass sie auf der Halbleiterschicht 230 einander zugewandt sind. Jeder des Schalt-TFT, des Ansteuer-TFT und des Erfassungs-TFT können in einer oberen Gate-Struktur zusätzlich zu einer unteren Gate-Struktur vorgesehen sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt und können in verschiedene Strukturen geändert werden, die dem Fachmann auf dem Gebiet bekannt sind.
  • Die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 kann ferner eine Passivierungsschicht 260, die auf der Source-Elektrode 240 und der Drain-Elektrode 250 vorgesehen ist, und eine Planarisierungsschicht 270, die auf der Passivierungsschicht 260 vorgesehen ist, umfassen. Die Passivierungsschicht 260 kann den Schalt-TFT, den Ansteuer-TFT und den Erfassungs-TFT schützen und kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt. Die Planarisierungsschicht 270 kann eine obere Oberfläche des Substrats 100 planarisieren und kann aus einem organischen Isolationsmaterial ausgebildet sein, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die ersten Elektroden 310 bis 330 können auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 strukturiert sein und können genauer auf der Planarisierungsschicht 270 in jedem der ersten bis dritten Subpixel P1 bis P3 strukturiert sein. Die erste Elektrode 310, die im ersten Subpixel P1 vorgesehen ist, kann von der ersten Elektrode 320 beabstandet sein, die im zweiten Subpixel P2 vorgesehen ist, und ein Graben T kann in einem Trennraum dazwischen vorgesehen sein. Die erste Elektrode 320, die im zweiten Subpixel P2 vorgesehen ist, kann auch von der ersten Elektrode 330 beabstandet sein, die im dritten Subpixel P3 vorgesehen ist, und ein Graben T kann in einem Trennraum dazwischen vorgesehen sein.
  • Die ersten Elektroden 310 bis 330 können mit dem Ansteuer-TFT verbunden sein, der in der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 vorgesehen ist. Im Einzelnen können die ersten Elektroden 310 bis 330 mit der Source-Elektrode 240 oder der Drain-Elektrode 250 des Ansteuer-TFT durch ein Kontaktloch verbunden sein, das in der Passivierungsschicht 260 und der Planarisierungsschicht 270 vorgesehen ist.
  • Die erste Elektrode 310 des ersten Subpixels P1 kann eine erste leitfähige Schicht 310a, eine zweite leitfähige Schicht 310b und eine dritte leitfähige Schicht 310c umfassen, die erste Elektrode 320 des zweiten Subpixels P2 kann eine erste leitfähige Schicht 320a, eine zweite leitfähige Schicht 320b und eine dritte leitfähige Schicht 320c umfassen und die erste Elektrode 330 des dritten Subpixels P3 kann eine erste leitfähige Schicht 330a, eine zweite leitfähige Schicht 330b und eine dritte leitfähige Schicht 330c umfassen.
  • Die ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a können zwischen der Planarisierungsschicht 270 und den zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b vorgesehen sein, um eine untere Oberfläche von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b zu schützen und eine Haftkraft zwischen den ersten Elektroden 310 bis 330 und der Planarisierungsschicht 270 zu verbessern. Die ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a können aus TiNx ausgebildet sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b können zwischen den ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a und den dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c vorgesehen sein und können Licht, das von der Lichtemissionsschicht 500 emittiert wird, zu einem oberen Abschnitt reflektieren. Die zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b können aus einem reflektierenden Material ausgebildet sein, das im Reflexionsvermögen besser ist als die ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a und die dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c. Die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann als Oberseitenemissionstyp implementiert werden und dazu können die ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein, um das Licht, das von der Lichtemissionsschicht 500 emittiert wird, zum oberen Abschnitt zu reflektieren, und können die zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b umfassen, um Licht zu reflektieren. Die zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b können aus Aluminium (Al) ausgebildet sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c können zwischen den zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b und der Lichtemissionsschicht 500 vorgesehen sein und können ein Loch zur Lichtemissionsschicht 500 zuführen. Die dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c können aus Titan (Titan) ausgebildet sein, sind jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die Zaunstruktur 400 kann auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 vorgesehen sein und kann genauer in einem Grenzbereich zwischen den mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein, um beide Enden der ersten Elektroden 310 bis 330 auf der Planarisierungsschicht 270 zu bedecken. Die Zaunstruktur 400 kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein.
  • Die Zaunstruktur 400 kann einen ersten Teil 410, einen zweiten Teil 420 und einen dritten Teil 430 umfassen. Ein Graben T kann durch den ersten Teil 410, den zweiten Teil 420 und den dritten Teil 430 definiert sein.
  • Der erste Teil 410 kann in einer ersten Richtung (im Einzelnen einer horizontalen Richtung parallel zum Substrat 100) vorgesehen sein und kann im Einzelnen vorgesehen sein, um eine obere Oberfläche der Planarisierungsschicht 270 in einem Bereich zwischen den mehreren ersten Elektroden 310 bis 330 zu kontaktieren. Daher kann eine obere Oberfläche der ersten Struktur 410 zum Substrat 100 parallel sein.
  • Eine Höhe einer unteren Oberfläche der ersten Struktur 410 kann auch dieselbe wie eine Höhe einer unteren Oberfläche von jeder der ersten Elektroden 310 bis 330 sein. Mit anderen Worten, ein Niveau einer unteren Oberfläche des ersten Teils 410, die dem Substrat 100 zugewandt ist, kann dasselbe Niveau einer unteren Oberfläche der ersten Elektrode 310, 320, 330, die dem Substrat 100 zugewandt ist, sein. Somit liegen die jeweiligen unteren Oberflächen auf demselben Niveau.
  • Der zweite Teil 420 kann sich von einem Ende des ersten Teils 410 in einer zweiten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstrecken und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang einer Seitenoberfläche von einer der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken. Insbesondere kann sich der zweite Teil 420 von der einen Seitenoberfläche zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken, wodurch ein Problem gelöst wird, dass sich ein Strom an einem Ende der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 konzentriert und eine Emissionseffizienz verringert wird.
  • Der dritte Teil 430 kann sich vom anderen Ende des ersten Teils 410 in einer dritten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstrecken und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang einer Seitenoberfläche von einer anderen ersten Elektrode benachbart zu der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken. Die dritte Richtung kann dieselbe wie die zweite Richtung sein. Eine Seitenoberfläche der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 kann einer Seitenoberfläche der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 zugewandt sein. Insbesondere kann sich der dritte Teil 430 von der einen Seitenoberfläche zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken, wodurch ein Problem gelöst wird, dass sich ein Strom an einem Ende der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 konzentriert und die Emissionseffizienz verringert wird.
  • Der erste Teil 410, der zweite Teil 420 und der dritte Teil 430 können aus demselben anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein und können so vorgesehen sein, dass sie dieselbe Dicke aufweisen. Der zweite Teil 420 und der dritte Teil 430 können an einem Ende und dem anderen Ende des ersten Teils 410 einander zugewandt sein und können sich in einer Aufwärtsrichtung erstrecken, und folglich kann ein Graben T durch den ersten Teil 410, den zweiten Teil 420 und den dritten Teil 430 definiert sein. Der Graben T kann nicht durch die Zaunstruktur 400 verlaufen und kann in einer konkaven Nutstruktur durch den ersten Teil 410, den zweiten Teil 420 und den dritten Teil 430 ausgebildet sein.
  • Da gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung der Graben T durch den ersten Teil 410, den zweiten Teil 420 und den dritten Teil 430 in einem Raum zwischen den mehreren ersten Elektroden 310 bis 330 ausgebildet ist, kann ein Prozess zum Ätzen der Zaunstruktur 400 oder der Zaunstruktur 400 und der Planarisierungsschicht 270 darunter nicht für das Ausbilden des Grabens T erforderlich sein und folglich kann ein zusätzlicher Prozess zum Ausbilden des Grabens T nicht erforderlich sein und die zusätzlichen Kosten können nicht erforderlich sein.
  • In einem Fall, der einen Prozess zum Ätzen der Zaunstruktur 400 oder der Zaunstruktur 400 und der Planarisierungsschicht 270 darunter durchführt, um den Graben T auszubilden, sollte überdies ein Grenzbereich zwischen den Subpixeln P1 bis P3 auf der Basis eines Raums zunehmen, in dem der Graben T vorgesehen ist, und folglich kann ein Öffnungsverhältnis um das Inkrement abnehmen. Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann jedoch der Prozess zum Ätzen der Zaunstruktur 400 oder der Zaunstruktur 400 und der Planarisierungsschicht 270 darunter zum Ausbilden des Grabens T nicht erforderlich sein, und folglich kann der Grenzbereich zwischen den Subpixeln P1 bis P3 nicht zunehmen, wodurch ein Problem gelöst wird, bei dem ein Öffnungsverhältnis verringert wird.
  • Der Graben T kann zumindest einen Abschnitt der Lichtemissionsschicht 500 trennen. Das heißt, zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht 500 kann in einem Bereich (genauer einem inneren Bereich oder oberen Bereich des Grabens T), der mit dem Graben T überlappt, getrennt sein, und folglich kann verhindert werden, dass sich eine elektrische Ladung zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, durch die Lichtemissionsschicht 500 bewegt, wodurch verhindert wird, dass ein Kriechstrom zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, auftritt.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann auf den ersten Elektroden 310 bis 330 und der Zaunstruktur 400 vorgesehen sein. Die Lichtemissionsschicht 500 kann auch im Grenzbereich zwischen den mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann vorgesehen sein, um weißes (W) Licht zu emittieren. Dazu kann die Lichtemissionsschicht 500 mehrere Stapel umfassen, die Lichter mit verschiedenen Farben emittieren. Im Einzelnen kann die Lichtemissionsschicht 500 einen ersten Stapel 510, einen zweiten Stapel 530 und eine Ladungserzeugungsschicht (CGL) 520, die zwischen dem ersten Stapel 510 und dem zweiten Stapel 530 vorgesehen ist, umfassen.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann im Graben T und über dem Graben T vorgesehen sein. Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht 500 im Graben T oder über dem Graben T getrennt sein, wodurch verhindert wird, dass ein Kriechstrom zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, auftritt.
  • Der erste Stapel 510 kann in einer inneren Seitenoberfläche des Grabens T vorgesehen sein und kann überdies in einer inneren unteren Oberfläche des Grabens T vorgesehen sein. Daher kann der erste Stapel 510 auf dem ersten Teil 410, dem zweiten Teil 420 und dem dritten Teil 430 vorgesehen sein. In diesem Fall kann ein Abschnitt (d. h. ein Abschnitt des ersten Stapels 510, der auf dem zweiten Teil 420 und dem dritten Teil 430 vorgesehen ist) des ersten Stapels 510, der in der inneren Seitenoberfläche des Grabens T vorgesehen ist, von einem Abschnitt (d. h. einem Abschnitt des ersten Stapels 510, der auf dem ersten Teil 410 vorgesehen ist) des ersten Stapels 510, der in der inneren unteren Oberfläche des Grabens T vorgesehen ist, getrennt sein. Daher kann ein Abschnitt (d. h. ein Abschnitt des ersten Stapels 510, der auf dem zweiten Teil 420 vorgesehen ist) des ersten Stapels 510, der in einer inneren linken Oberfläche des Grabens T vorgesehen ist, von einem Abschnitt (d. h. einem Abschnitt des ersten Stapels 510, der auf dem dritten Teil 430 vorgesehen ist) des ersten Stapels 510, der in einer inneren rechten Oberfläche des Grabens T vorgesehen ist, getrennt sein. Folglich kann sich eine elektrische Ladung nicht durch den ersten Stapel 510 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei sich der Graben T dazwischen befindet, bewegen.
  • Überdies kann die Ladungserzeugungsschicht 520 auf dem ersten Stapel 510 in der inneren Seitenoberfläche des Grabens T vorgesehen sein oder kann auf dem ersten Stapel 510 über dem Graben T vorgesehen sein, ohne sich zum inneren Abschnitt des Grabens T zu erstrecken. In diesem Fall kann die Ladungserzeugungsschicht 520 zwischen der inneren linken Oberfläche des Grabens T und der inneren rechten Oberfläche des Grabens T oder zwischen einem linken oberen Abschnitt des Grabens T und einem rechten oberen Abschnitt des Grabens T getrennt sein. Das heißt, die Ladungserzeugungsschicht 520 kann zwischen dem zweiten Teil 420 und dem dritten Teil 430 getrennt sein. Folglich kann sich eine elektrische Ladung nicht durch die Ladungserzeugungsschicht 520 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei sich der Graben T dazwischen befindet, bewegen.
  • Überdies kann der zweite Stapel 530 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei sich der Graben T dazwischen befindet, auf der Ladungserzeugungsschicht 520 verbinden. Daher kann sich eine elektrische Ladung durch den zweiten Stapel 530 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart angeordnet sind, wobei sich der Graben T dazwischen befindet, bewegen. Die vorliegende Offenbarung ist jedoch nicht darauf begrenzt und durch geeignetes Einstellen einer Form des Grabens T und eines Abscheidungsprozesses, der an der Lichtemissionsschicht 500 durchgeführt wird, kann der zweite Stapel 530 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei der Graben T dazwischen liegt, getrennt werden. Insbesondere kann nur ein Abschnitt eines unteren Abschnitts des zweiten Stapels 530 benachbart zur Ladungserzeugungsschicht 520 in einem Bereich zwischen den Subpixeln P1 bis P3 getrennt sein.
  • Eine Leerstelle H kann im inneren Abschnitt des Grabens T und in einem oberen Bereich des Grabens T durch den ersten Stapel 510, die Ladungserzeugungsschicht 520 und den zweiten Stapel 530 ausgebildet sein. Die Leerstelle H kann durch die Zaunstruktur 400 und die Lichtemissionsschicht 500 definiert sein. Daher kann die Leerstelle H unter der Lichtemissionsschicht 500 vorgesehen sein und kann insbesondere in einem Bereich zwischen dem ersten Teil 410 und dem zweiten Teil 420 vorgesehen sein.
  • Der erste Stapel 510 kann in einer Struktur vorgesehen sein, in der eine Lochinjektionsschicht (HIL), eine Lochtransportschicht (HTL) und eine blaue (B) Emissionsschicht (EML(B)) sequentiell gestapelt sind, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die Ladungserzeugungsschicht 520 kann zwischen dem ersten Stapel 510 und dem zweiten Stapel 530 vorgesehen sein und kann eine elektrische Ladung zum ersten Stapel 510 und zum zweiten Stapel 530 liefern. Die Ladungserzeugungsschicht 520 kann eine Ladungserzeugungsschicht vom N-Typ zum Liefern eines Elektrons zum ersten Stapel 510 und eine Ladungserzeugungsschicht vom P-Typ zum Liefern eines Lochs zum zweiten Stapel 530 umfassen. Die Ladungserzeugungsschicht vom N-Typ kann ein Dotierungsmaterial umfassen, das ein Metallmaterial ist.
  • Die Ladungserzeugungsschicht vom N-Typ, die die Ladungserzeugungsschicht 520 konfiguriert, kann ein Metallmaterial umfassen und folglich kann die Ladungserzeugungsschicht 520 in der Leitfähigkeit höher sein als der erste Stapel 510 und der zweite Stapel 530. Daher kann die Bewegung einer elektrischen Ladung zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, durch die Ladungserzeugungsschicht 520 durchgeführt werden und eine Menge an elektrischen Ladungen, die sich durch den zweiten Stapel 530 bewegen, kann sehr klein sein. Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann folglich die Ladungserzeugungsschicht 520 in dem Bereich, der mit dem Graben T überlappt, getrennt sein und kann folglich die Bewegung einer elektrischen Ladung zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, blockieren, wodurch das Auftreten eines Kriechstroms verhindert wird.
  • Der zweite Stapel 530 kann auf der Ladungserzeugungsschicht 520 so vorgesehen sein, dass er eine Struktur aufweist, in der eine Lochtransportschicht (HTL), eine gelb-grüne (YG) Emissionsschicht (EML(YG)), eine Elektronentransportschicht (ETL) und eine Elektroneninjektionsschicht (EIL) sequentiell gestapelt sind, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • In der vorliegenden Offenbarung können eine gestapelte Struktur des ersten Stapels 510 und des zweiten Stapels 530 und eine Wellenlänge von Licht, das von jedem des ersten Stapels 510 und des zweiten Stapels 530 emittiert wird, in verschiedene Strukturen geändert werden, die dem Fachmann auf dem Gebiet bekannt sind.
  • Die zweite Elektrode 600 kann auf der Lichtemissionsschicht 500 vorgesehen sein. Die zweite Elektrode 600 kann als Kathode der Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung funktionieren. Die zweite Elektrode 600 kann in jedem der Subpixel P1 bis P3 und einem Grenzbereich dazwischen vorgesehen sein.
  • Da die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung als Oberseitenemissionstyp implementiert wird, kann die zweite Elektrode 600 ein transparentes leitfähiges Material zum Durchlassen von Licht, das von der Lichtemissionsschicht 500 emittiert wird, in Richtung eines oberen Abschnitts umfassen. Die zweite Elektrode 600 kann auch eine halbtransparente Elektrode sein, und folglich kann ein Mikrohohlraumeffekt für jedes der Subpixel P1 bis P3 erhalten werden. Wenn die zweite Elektrode 600 eine halbtransparente Elektrode ist, kann eine Reflexion und erneute Reflexion von Licht zwischen der zweiten Elektrode 600 und den ersten Elektroden 310 bis 330 wiederholt werden und somit kann der Mikrohohlraumeffekt erhalten werden, wodurch die Lichteffizienz verbessert wird.
  • Die Einkapselungsschicht 700 kann auf der zweiten Elektrode 600 vorgesehen sein und kann verhindern, dass externes Wasser in die Lichtemissionsschicht 500 eindringt. Die Einkapselungsschicht 700 kann aus einem anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein oder kann in einer Struktur ausgebildet sein, in der ein anorganisches Isolationsmaterial und ein organisches Isolationsmaterial abwechselnd gestapelt sind, ist jedoch nicht darauf begrenzt.
  • Die Farbfilterschichten 810 bis 830 können auf der Einkapselungsschicht 700 vorgesehen sein. Die Farbfilterschichten 810 bis 830 können ein erstes Farbfilter 810, das im ersten Subpixel P1 vorgesehen ist, ein zweites Farbfilter 820, das im zweiten Subpixel P2 vorgesehen ist, und ein drittes Farbfilter 830, das im dritten Subpixel P3 vorgesehen ist, umfassen. Das erste Farbfilter 810 kann ein Farbfilter mit einer Farbe von rot, grün und blau sein, das zweite Farbfilter 820 kann ein Farbfilter mit einer anderen Farbe von rot, grün und blau sein, und das dritte Farbfilter 830 kann ein Farbfilter mit einer anderen Farbe von rot, grün und blau sein. Obwohl nicht gezeigt, kann eine schwarze Matrix zusätzlich zwischen den Farbfilterschichten 810 bis 830 vorgesehen sein und kann verhindern, dass Licht in einer Grenze zwischen den Subpixeln P1 und P2 austreten lassen wird.
  • 3 ist eine schematische Draufsicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Abgesehen davon, dass eine Trennwand 900 und mehrere Gräben T1 und T2 hinzugefügt sind, ist die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von 3 dieselbe wie die vorstehend beschriebene Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von 1. Daher beziehen sich gleiche Bezugszeichen auf gleiche Elemente. Nachstehend werden nur unterschiedliche Elemente beschrieben.
  • Wie in 3 zu sehen, kann gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung eine Trennwand 900 in einem Grenzbereich zwischen mehreren Subpixeln (beispielsweise ersten bis dritten Subpixeln) P1 bis P3 vorgesehen sein.
  • Die Trennwand 900 kann in einem Grenzbereich zwischen mehreren Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sein, die vertikal und horizontal zueinander benachbart sind, und kann folglich in einer ganzen Matrixstruktur vorgesehen sein. Die Trennwand 900 kann in einem Bereich zwischen benachbarten ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein, so dass sie nicht mit den ersten Elektroden 310 bis 330 überlappt.
  • Die Gräben T1 und T2 können einen ersten Graben T1 und einen zweiten Graben T2 umfassen. Der erste Graben T1 kann in einem Bereich zwischen einer der ersten Elektroden 310 bis 330 und der Trennwand 900 vorgesehen sein, und der zweite Graben T2 kann in einem Bereich zwischen der Trennwand 900 und einer anderen ersten Elektrode benachbart zur einen ersten Elektrode unter den ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein. Der erste Graben T1 kann beispielsweise in einem Bereich zwischen einer ersten Elektrode 310 des ersten Subpixels P1 und der Trennwand 900 vorgesehen sein und der zweite Graben T2 kann in einem Bereich zwischen einer ersten Elektrode 310 des zweiten Subpixels P2 und der Trennwand 900 vorgesehen sein. Folglich können der erste Graben T1 und der zweite Graben T2 voneinander beabstandet sein, wobei sich die Trennwand 900 dazwischen befindet.
  • Da in einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung zwei Gräben (beispielsweise der erste und der zweite Graben) T1 und T2, die voneinander getrennt sind, wobei sich die Trennwand 900 dazwischen befindet, in einer Grenze zwischen den Subpixeln P1 bis P3 vorgesehen sind, kann ein Abschnitt einer Lichtemissionsschicht in dem ersten Graben T1 und/oder dem zweiten Graben T2 getrennt sein, und somit kann ein Abschnitt einer Lichtemissionsschicht in der Grenze zwischen den Subpixeln P1 bis P3 getrennt sein, wodurch sicherer das Auftreten eines Kriechstroms zwischen den Subpixeln P1 bis P3 verhindert wird.
  • Insbesondere kann gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Trennwand 900 gleichzeitig mit den ersten Elektroden 310 bis 330 strukturiert werden und folglich können der erste Graben T1 und der zweite Graben T2 in einem Raum zwischen der Trennwand 900 und den ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein. Folglich kann ein separater Prozess zum Ausbilden des ersten Grabens T1 und des zweiten Grabens T2 nicht erforderlich sein.
  • 4 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und entspricht einer Querschnittsoberfläche entlang der Linie I-I von 3.
  • Wie in 4 zu sehen, kann die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ein Substrat 100, eine Schaltungsvorrichtungsschicht 200, mehrere erste Elektroden 310 bis 330, eine Trennwand 900, eine Zaunstruktur 400, eine Lichtemissionsschicht 500, eine zweite Elektrode 600, eine Einkapselungsschicht 700 und mehrere Farbfilterschichten 810 bis 830 umfassen.
  • Das Substrat 100, die Schaltungsvorrichtungsschicht 200 und die ersten Elektroden 310 bis 330 sind wie vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben und folglich wird auf ihre wiederholten Beschreibungen verzichtet.
  • Die Trennwand 900 kann auf der Schaltungsvorrichtungsschicht 200 vorgesehen sein und kann genauer in einem Bereich zwischen den ersten Elektroden 310 bis 330, die zueinander benachbart sind, auf einer Planarisierungsschicht 270 vorgesehen sein. Das heißt, die Trennwand 900 kann zwischen einer ersten Elektrode 310 eines ersten Subpixels P1 und einer ersten Elektrode 310 eines zweiten Subpixels P2 und zwischen der ersten Elektrode 310 des zweiten Subpixels P2 und einer ersten Elektrode 310 eines dritten Subpixels P3 vorgesehen sein. Die Trennwand 900 kann auf derselben Schicht wie die ersten Elektroden 310 bis 330 vorgesehen sein.
  • Die Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der ersten Elektroden 310 bis 330 in derselben gestapelten Struktur durch denselben Prozess ausgebildet werden. Die Trennwand 900 kann eine erste Schicht 910, eine zweite Schicht 920 und eine dritte Schicht 930 umfassen. Die erste Schicht 910 der Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass sie dieselbe Dicke wie jene von jeder der ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a aufweist. Die zweite Schicht 920 der Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass sie dieselbe Dicke wie jene von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b aufweist. Die dritte Schicht 930 der Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass sie dieselbe Dicke wie jene von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c aufweist.
  • Die Zaunstruktur 400 kann eine erste Struktur 411, eine zweite Struktur 421, eine dritte Struktur 431, eine vierte Struktur 441, eine fünfte Struktur 451 und eine sechste Struktur 461 umfassen. Es sollte beachtet werden, dass die Begriffe erste Struktur 411, zweite Struktur 421, dritte Struktur 431 verschiedene Bezugszeichen aufweisen, um Verwechslungen mit dem ersten Teil 410, dem Teil 420 oder dem dritten Teil 430 der Beschreibung von 2 zu vermeiden, aber dieselbe Funktionalität wie diese aufweisen können. Ein erster Graben T1 kann durch die erste Struktur 411, die zweite Struktur 421 und die dritte Struktur 431 definiert sein und ein zweiter Graben T2 kann durch die vierte Struktur 441, die fünfte Struktur 451 und die sechste Struktur 461 definiert sein.
  • Die erste Struktur 411 kann in einer ersten Richtung (im Einzelnen einer horizontalen Richtung parallel zum Substrat 100) vorgesehen sein und kann im Einzelnen so vorgesehen sein, dass sie mit einer oberen Oberfläche der Planarisierungsschicht 270 in einem Bereich zwischen der Trennwand 900 und einer der ersten Elektroden 310 bis 330 in Kontakt steht.
  • Die zweite Struktur 421 kann sich von einem Ende der ersten Struktur 411 in einer zweiten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstrecken und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang einer Seitenoberfläche von einer der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken. Insbesondere kann sich die zweite Struktur 421 von der einen Seitenoberfläche zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken, wodurch ein Problem gelöst wird, dass sich ein Strom an einem Ende der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 konzentriert und die Emissionseffizienz verringert wird.
  • Die dritte Struktur 431 kann sich vom anderen Ende der ersten Struktur 411 in einer dritten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstrecken und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang einer Seitenoberfläche der Trennwand 900 erstrecken. Die dritte Richtung kann dieselbe wie die zweite Richtung sein. Eine Seitenoberfläche von einer der ersten Elektroden 310 bis 330 kann der einen Seitenoberfläche der Trennwand 900 zugewandt sein. Insbesondere kann sich die dritte Struktur 431 von der einen Seitenoberfläche zu einer oberen Oberfläche der Trennwand 900 erstrecken und kann folglich mit der sechsten Struktur 461 verbunden sein.
  • Die erste Struktur 411, die zweite Struktur 421 und die dritte Struktur 431 können aus demselben anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein und können so vorgesehen sein, dass sie dieselbe Dicke aufweisen. Die zweite Struktur 421 und die dritte Struktur 431 können an einem Ende und dem anderen Ende der ersten Struktur 411 einander zugewandt sein und können sich in einer Aufwärtsrichtung erstrecken, und folglich kann der erste Graben T1 durch die erste Struktur 411, die zweite Struktur 421 und die dritte Struktur 431 definiert sein.
  • Die vierte Struktur 441 kann in der ersten Richtung (im Einzelnen der horizontalen Richtung parallel zum Substrat 100) vorgesehen sein und kann im Einzelnen so vorgesehen sein, dass sie mit der oberen Oberfläche der Planarisierungsschicht 270 in einem Bereich zwischen der Trennwand 900 und einer anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 in Kontakt steht.
  • Die fünfte Struktur 451 kann sich von einem Ende der vierten Struktur 441 in einer fünften Richtung erstrecken, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang einer Seitenoberfläche der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken. Insbesondere kann sich die fünfte Struktur 451 von der einen Seitenoberfläche zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 erstrecken, wodurch ein Problem gelöst wird, dass sich ein Strom an einem Ende der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 konzentriert und die Emissionseffizienz verringert wird.
  • Die sechste Struktur 461 kann sich vom anderen Ende der vierten Struktur 441 in einer sechsten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstrecken und kann sich im Einzelnen in einer Aufwärtsrichtung entlang der anderen Seitenoberfläche der Trennwand 900 erstrecken. Die sechste Richtung kann dieselbe wie die zweite Richtung sein. Eine Seitenoberfläche von einer anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 kann der anderen Seitenoberfläche der Trennwand 900 zugewandt sein. Insbesondere kann sich die sechste Struktur 461 von der anderen Seitenoberfläche zu einer oberen Oberfläche der Trennwand 900 erstrecken und kann folglich mit der dritten Struktur 431 verbunden sein.
  • Die vierte Struktur 441, die fünfte Struktur 451 und die sechste Struktur 461 können aus demselben anorganischen Isolationsmaterial ausgebildet sein und können so vorgesehen sein, dass sie dieselbe Dicke aufweisen. Die fünfte Struktur 451 und die sechste Struktur 461 können an einem Ende und dem anderen Ende der vierten Struktur 441 einander zugewandt sein und können sich in einer Aufwärtsrichtung erstrecken und folglich kann der zweite Graben T2 durch die fünfte Struktur 451 und die sechste Struktur 461 definiert sein.
  • Wie vorstehend beschrieben, kann gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung beispielsweise ein erster Graben T1 zwischen der ersten Elektrode 310 des ersten Subpixels P1 und der Trennwand 900 vorgesehen sein, und ein zweiter Graben T2 kann zwischen der ersten Elektrode 320 des zweiten Subpixels P2 und der Trennwand 900 vorgesehen sein. Ein erster Graben T1 kann auch zwischen der ersten Elektrode 310 des zweiten Subpixels P2 und der Trennwand 900 vorgesehen sein und ein zweiter Graben T2 kann zwischen einer ersten Elektrode 310 eines dritten Subpixels P3 und der Trennwand 900 vorgesehen sein.
  • Insbesondere können die ersten Elektroden 310 bis 330 und die Trennwand 900 aus demselben Material in derselben gestapelten Struktur durch denselben Prozess ausgebildet werden, der erste Graben T1 kann durch die erste Struktur 411, die zweite Struktur 421 und die dritte Struktur 431 in einem Raum zwischen der einen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 und der Trennwand 900 ausgebildet werden und der zweite Graben T2 kann durch die vierte Struktur 441, die fünfte Struktur 451 und die sechste Struktur 461 in einem Raum zwischen der einen anderen ersten Elektrode der ersten Elektroden 310 bis 330 und der Trennwand 900 ausgebildet werden. Folglich kann ein Prozess zum Ätzen der Zaunstruktur 400 oder der Zaunstruktur 400 und der Planarisierungsschicht 270 darunter zum Ausbilden des ersten Grabens T1 und des zweiten Grabens T2 nicht erforderlich sein und folglich kann ein zusätzlicher Prozess zum Ausbilden des ersten Grabens T1 und des zweiten Grabens T2 nicht erforderlich sein und die zusätzlichen Kosten können nicht erforderlich sein.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann wie 2 einen ersten Stapel 510, einen zweiten Stapel 530 und eine Ladungserzeugungsschicht 520 umfassen, die zwischen dem ersten Stapel 510 und dem zweiten Stapel 530 vorgesehen ist. Nachstehend wird nur eine Konfiguration der Lichtemissionsschicht 500, die von 2 verschieden ist, beschrieben.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann auf den ersten Elektroden 310 bis 330, der Trennwand 900 und der Zaunstruktur 400 vorgesehen sein.
  • Die Lichtemissionsschicht 500 kann im ersten Graben T1 und über dem ersten Graben T1 vorgesehen sein und kann im zweiten Graben T2 und über dem zweiten Graben T2 vorgesehen sein. Gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht 500 im ersten Graben T1 oder über dem ersten Graben T1 getrennt sein und kann im zweiten Graben T2 oder über dem zweiten Graben T2 getrennt sein, wodurch verhindert wird, dass ein Kriechstrom zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart sind, auftritt.
  • Der erste Stapel 510 kann zwischen einer inneren linken Oberfläche und einer inneren rechten Oberfläche des ersten Grabens T1 getrennt sein. Das heißt, der erste Stapel 510 kann in einem Bereich zwischen der zweiten Struktur 421 und der dritten Struktur 431 getrennt sein. Der erste Stapel 510 kann auch zwischen einer inneren linken Oberfläche und einer inneren rechten Oberfläche des zweiten Grabens T2 getrennt sein. Das heißt, der erste Stapel 510 kann in einem Bereich zwischen der fünften Struktur 451 und der sechsten Struktur 461 getrennt sein. Folglich kann eine elektrische Ladung sich nicht durch den ersten Stapel 510 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei der erste und der zweite Graben T1 und T2 dazwischen liegen, bewegen.
  • Die Ladungserzeugungsschicht 520 kann zwischen der inneren linken Oberfläche und der inneren rechten Oberfläche des ersten Grabens T1 oder zwischen einem linken oberen Abschnitt und einem rechten oberen Abschnitt des ersten Grabens T1 getrennt sein. Das heißt, die Ladungserzeugungsschicht 520 kann in dem Bereich zwischen der zweiten Struktur 421 und der dritten Struktur 431 getrennt sein. Die Ladungserzeugungsschicht 520 kann auch zwischen der inneren linken Oberfläche und der inneren rechten Oberfläche des zweiten Grabens T2 oder zwischen einem linken oberen Abschnitt und einem rechten oberen Abschnitt des zweiten Grabens T2 getrennt sein. Das heißt, die Ladungserzeugungsschicht 520 kann in dem Bereich zwischen der fünften Struktur 451 und der sechsten Struktur 461 getrennt sein. Folglich kann sich eine elektrische Ladung nicht durch die Ladungserzeugungsschicht 520 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart angeordnet sind, wobei der erste und der zweite Graben T1 und T2 dazwischen liegen, bewegen.
  • Der zweite Stapel 530 kann zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die zueinander benachbart angeordnet sind, wobei der erste und der zweite Graben T1 und T2 dazwischen liegen, auf der Ladungserzeugungsschicht 520 verbinden. Daher kann sich eine elektrische Ladung durch den zweiten Stapel 530 zwischen den Subpixeln P1 bis P3, die benachbart zueinander angeordnet sind, wobei der erste und der zweite Graben T1 und T2 dazwischen liegen, bewegen. Nur ein Abschnitt eines unteren Abschnitts des zweiten Stapels 530 benachbart zur Ladungserzeugungsschicht 520 kann jedoch in einem Bereich zwischen den Subpixeln P1 bis P3 getrennt sein.
  • Eine erste Leerstelle H1 kann im inneren Abschnitt des ersten Grabens T1 und in einem oberen Bereich des ersten Grabens T1 durch den ersten Stapel 510, die Ladungserzeugungsschicht 520 und den zweiten Stapel 530 ausgebildet sein. Eine zweite Leerstelle H2 kann im inneren Abschnitt des zweiten Grabens T2 und in einem oberen Bereich des zweiten Grabens T2 durch den ersten Stapel 510, die Ladungserzeugungsschicht 520 und den zweiten Stapel 530 ausgebildet sein. Die erste Leerstelle H1 und die zweite Leerstelle H2 können durch die Zaunstruktur 400 und die Lichtemissionsschicht 500 definiert sein und können unter der Lichtemissionsschicht 500 vorgesehen sein.
  • Die zweite Elektrode 600, die Einkapselungsschicht 700 und die Farbfilterschichten 810 bis 830 sind wie vorstehend mit Bezug auf 2 beschrieben, und folglich wird auf ihre wiederholten Beschreibungen verzichtet.
  • 5 ist eine schematische Querschnittsansicht einer Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und entspricht einer Querschnittsoberfläche entlang der Linie I-I von 3.
  • Abgesehen davon, dass eine Konfiguration einer Trennwand 900 modifiziert ist, ist die Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von 5 dieselbe wie die vorstehend beschriebene Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von 4 und folglich werden nur unterschiedliche Elemente nachstehend beschrieben.
  • Gemäß 5 kann eine erste Schicht 910 der Trennwand 900 aus demselben Material wie jenem von jeder der ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass die dieselbe Dicke wie jene von jeder der ersten leitfähigen Schichten 310a bis 330a aufweist.
  • Eine zweite Schicht 920 der Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass sie eine Dicke aufweist, die dicker ist als jene von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b. Die zweite Schicht 920 der Trennwand 900 kann aus einem reflektierenden Material ausgebildet sein, das im Reflexionsvermögen besser ist als die erste Schicht 910 und eine dritte Schicht 930 der Trennwand 900. In einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann daher eine Dicke der zweiten Schicht 920 der Trennwand 900 so festgelegt sein, dass sie dick ist, und folglich kann Licht, das durch jede der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330 reflektiert wird, erneut auf die zweite Schicht 920 der Trennwand 900 reflektiert werden, wodurch die Menge an Licht, das zur Innenseite der Subpixel P1 bis P3 abgeführt wird, zunehmen kann.
  • Die dritte Schicht 930 der Trennwand 900 kann aus demselben Material wie jenem von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c der ersten Elektroden 310 bis 330 so ausgebildet sein, dass sie eine Dicke aufweist, die dünner ist als jene von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c. Ein Fall, in dem eine Dicke von jeder der ersten Elektroden 310 bis 330 dieselbe wie jene der Trennwand 900 ist, kann zum Abflachen eines Substrats ein Vorteil sein. Da eine Dicke der zweiten Schicht 920 der Trennwand 900 so festgelegt ist, dass sie dicker ist als jene von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330, kann eine Dicke der dritten Schicht 930 der Trennwand 900 dünner sein als jene von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c der ersten Elektroden 310 bis 330, so dass eine Dicke von jeder der ersten Elektroden 310 bis 330 dieselbe wie jene der Trennwand 900 ist. Insbesondere kann eine Differenz zwischen einer Dicke der zweiten Schicht 920 der Trennwand 900 und einer Dicke von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330 dieselbe wie eine Differenz zwischen einer Dicke der dritten Schicht 930 der Trennwand 900 und einer Dicke von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c der ersten Elektroden 310 bis 330 sein.
  • In Abhängigkeit von dem Fall kann die dritte Schicht 930 der Trennwand 900 weggelassen werden und eine Dicke der zweiten Schicht 920 der Trennwand 900 kann so festgelegt werden, dass sie gleich einer Summe einer Dicke von jeder der zweiten leitfähigen Schichten 310b bis 330b der ersten Elektroden 310 bis 330 und einer Dicke von jeder der dritten leitfähigen Schichten 310c bis 330c der ersten Elektroden 310 bis 330 ist.
  • 6A bis 6C beziehen sich auf eine Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung gemäß einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und beziehen sich auf eine Einrichtung einer am Kopf angebrachten Anzeige (HMD). 6A ist eine schematische perspektivische Ansicht, 6B ist eine schematische Draufsicht einer Struktur für virtuelle Realität (VR) und 6C ist eine schematische Querschnittsansicht einer Struktur für erweiterte Realität (AR).
  • Wie in 6A zu sehen, kann die HMD-Einrichtung gemäß der vorliegenden Offenbarung ein Aufnahmegehäuse 10 und ein am Kopf angebrachtes Band 30 umfassen.
  • Das Aufnahmegehäuse 10 kann Elemente wie z. B. eine Anzeigeeinrichtung, eine Linsenanordnung und eine Okularlinse aufnehmen.
  • Das am Kopf angebrachte Band 30 kann am Aufnahmegehäuse 10 befestigt sein. Das am Kopf angebrachte Band 30 ist als so vorgesehen, dass es eine obere Oberfläche beider Seitenoberflächen eines Benutzers umgibt, dargestellt, ist jedoch nicht darauf begrenzt. Das am Kopf angebrachte Band 30 kann die HMD-Einrichtung an einem Kopf eines Benutzers befestigen und kann durch eine Struktur vom Brillenrahmentyp oder eine Struktur vom Helmtyp ersetzt werden.
  • Wie in 6B zu sehen, kann eine HMD-Einrichtung mit der VR-Struktur gemäß der vorliegenden Offenbarung eine Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge, eine Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge, eine Linsenanordnung 13, eine Okularlinse 20a für das linke Auge und eine Okularlinse 20b für das rechte Auge umfassen.
  • Die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge, die Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge, die Linsenanordnung 13, die Okularlinse 20a für das linke Auge und die Okularlinse 20b für das rechte Auge können im Aufnahmegehäuse 10 aufgenommen sein.
  • Die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge und die Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge können dasselbe Bild anzeigen, und in diesem Fall kann ein Benutzer ein zweidimensionales (2D) Bild betrachten. Alternativ kann die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge ein Bild für das linke Auge anzeigen und die Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge kann ein Bild für das rechte Auge anzeigen. Jede der Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge und der Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge kann als Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von jeder von 1 bis 5 konfiguriert sein. In diesem Fall kann in 1 bis 5 ein oberer Abschnitt (beispielsweise Farbfilterschichten 810 bis 830), der einer Oberfläche entspricht, die ein Bild anzeigt, der Linsenanordnung 13 zugewandt sein.
  • Die Linsenanordnung 13 kann von jeder der Okularlinse 20a für das linke Auge und der Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge beabstandet sein und kann zwischen der Okularlinse 20a für das linke Auge und der Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge vorgesehen sein. Das heißt, die Linsenanordnung 13 kann vor der Okularlinse 20a für das linke Auge und hinter der Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge angeordnet sein. Die Linsenanordnung 13 kann auch von jeder der Okularlinse 20b für das rechte Auge und der Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge beabstandet sein und kann zwischen der Okularlinse 20b für das rechte Auge und der Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge vorgesehen sein. Das heißt, die Linsenanordnung 13 kann vor der Okularlinse 20b für das rechte Auge und hinter der Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge angeordnet sein.
  • Die Linsenanordnung 13 kann eine Mikrolinsenanordnung sein. Die Linsenanordnung 13 kann durch eine Nadellochanordnung ersetzt werden. Unter Verwendung der Linsenanordnung 13 kann ein Bild, das durch die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge oder die Anzeigeeinrichtung 11 für das rechte Auge angezeigt wird, um eine bestimmte Vergrößerung herangezoomt werden und folglich kann ein herangezoomtes Bild durch einen Benutzer gesehen werden.
  • Ein linkes Auge LE eines Benutzers kann sich an der Okularlinse 20a für das linke Auge befinden und ein rechtes Auge RE des Benutzers kann sich an der Okularlinse 20b für das rechte Auge befinden.
  • Wie in 6C zu sehen, kann eine HMD-Einrichtung mit der AR-Struktur gemäß der vorliegenden Offenbarung eine Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge, eine Linsenanordnung 13, eine Okularlinse 20a für das linke Auge, einen durchlässigen Reflexionsteil 14 und ein durchlässiges Fenster 15 umfassen. In 6C sind wegen der Zweckmäßigkeit nur Elemente für das linke Auge dargestellt und Elemente für das rechte Auge können dieselben wie die Elemente für das linke Auge sein.
  • Die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge, die Linsenanordnung 13, die Okularlinse 20a für das linke Auge, der durchlässige Reflexionsteil 14 und das durchlässige Fenster 15 können im Aufnahmegehäuse 10 aufgenommen sein.
  • Die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge kann in einer Seite (beispielsweise einer oberen Seite) des durchlässigen Reflexionsteils 14 angeordnet sein, ohne das durchlässige Fenster 15 zu bedecken. Daher kann die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge ein Bild zum durchlässigen Reflexionsteil 14 liefern, ohne einen externen Hintergrund zu bedecken, der durch das durchlässige Fenster 15 zu sehen ist.
  • Die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge kann als Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung von jeder von 1 bis 5 konfiguriert sein. In diesem Fall kann in 1 bis 5 ein oberer Abschnitt (beispielsweise Farbfilterschichten 810 bis 830), der einer Oberfläche entspricht, die ein Bild anzeigt, dem durchlässigen Reflexionsteil 14 zugewandt sein.
  • Die Linsenanordnung 13 kann zwischen der Okularlinse 20a für das linke Auge und dem durchlässigen Reflexionsteil 14 vorgesehen sein.
  • Das linke Auge des Benutzers kann sich an der Okularlinse 20a für das linke Auge befinden.
  • Der durchlässige Reflexionsteil 14 kann zwischen der Linsenanordnung 13 und dem durchlässigen Fenster 15 angeordnet sein. Der durchlässige Reflexionsteil 14 kann eine Reflexionsoberfläche 14a umfassen, die einen Teil von Licht durchlässt und den anderen Teil des Lichts reflektiert. Die Reflexionsoberfläche 14a kann so vorgesehen sein, dass ein Bild, das durch die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge angezeigt wird, sich zur Linsenanordnung 13 fortpflanzt. Folglich kann der Benutzer durch das durchlässige Fenster 15 alles des externen Hintergrundes und des durch die Anzeigeeinrichtung 12 für das linke Auge angezeigten Bildes sehen. Das heißt, der Benutzer kann ein Bild sehen, das einen realen Hintergrund und ein virtuelles Bild umfasst, und folglich kann die AR implementiert werden.
  • Das durchlässige Fenster 15 kann vor dem durchlässigen Reflexionsteil 14 angeordnet sein.
  • Da gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung ein Graben in einem Grenzbereich zwischen benachbarten Subpixeln vorgesehen ist, kann zumindest ein Abschnitt einer Lichtemissionsschicht im Grabenbereich getrennt sein, und folglich kann verhindert werden, dass ein Kriechstrom zwischen benachbarten Subpixeln auftritt, wodurch ein Problem gelöst wird, bei dem die Bildqualität aufgrund des Kriechstroms verschlechtert wird.
  • Da gemäß den Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung überdies ein Graben in einem Raum zwischen ersten Elektroden vorgesehen ist, kann ein separater Prozess zum Ausbilden des Grabens nicht erforderlich sein, und überdies kann ein Grenzbereich zwischen Subpixeln zum Ausbilden des Grabens nicht zunehmen, wodurch ein Öffnungsverhältnis nicht abnehmen kann.
  • Das vorstehend beschriebene Merkmal, die vorstehend beschriebene Struktur und der vorstehend beschriebene Effekt der vorliegenden Offenbarung sind in mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung enthalten, sind jedoch nicht auf nur eine Ausführungsform begrenzt. Das Merkmal, die Struktur und der Effekt, die in mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung beschrieben sind, können ferner durch Kombination oder Modifikation von anderen Ausführungsformen durch den Fachmann auf dem Gebiet implementiert werden. Daher sollte ein Inhalt, der der Kombination und Modifikation zugeordnet ist, als innerhalb des Schutzbereichs der vorliegenden Offenbarung aufgefasst werden.
  • Für den Fachmann auf dem Gebiet ist ersichtlich, dass verschiedene Modifikationen und Variationen in der vorliegenden Offenbarung durchgeführt werden können, ohne vom Schutzbereich der Offenbarungen abzuweichen. Folglich ist beabsichtigt, dass die vorliegende Offenbarung die Modifikationen und Variationen dieser Offenbarung abdeckt, vorausgesetzt, dass sie in den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche und ihrer Äquivalente fallen.

Claims (17)

  1. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung, die Folgendes umfasst: ein Substrat (100) mit einem ersten Subpixel (P1) und einem zweiten Subpixel (P2); eine erste Elektrode (310, 320, 330) in jedem des ersten Subpixels (P1) und des zweiten Subpixels (P2) des Substrats (100); eine Zaunstruktur (400) zwischen der ersten Elektrode (310) des ersten Subpixels (P1) und der ersten Elektrode (320) des zweiten Subpixels (P2); eine Lichtemissionsschicht (500) auf der ersten Elektrode (310, 320, 330) und der Zaunstruktur (400); und eine zweite Elektrode (600) auf der Lichtemissionsschicht (500), wobei die Zaunstruktur (400) einen ersten Teil (410), der in einer ersten Richtung angeordnet ist, einen zweiten Teil (420), der sich von einem Ende des ersten Teils (410) in einer zweiten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet erstreckt, und einen dritten Teil (430), der sich vom anderen Ende des ersten Teils (410) in einer dritten Richtung, die sich von der ersten Richtung unterscheidet, erstreckt, umfasst, und wobei zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht (500) in einem Bereich, der mit einem Graben (T) überlappt, der durch den ersten Teil (410), den zweiten Teil (420) und die dritte Struktur (430) definiert ist, getrennt ist.
  2. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 1, wobei eine obere Oberfläche des ersten Teils (410) zum Substrat (100) parallel ist.
  3. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei eine untere Oberfläche des ersten Teils (410) auf einem Niveau mit einer unteren Oberfläche der ersten Elektrode (310, 320, 330) liegt.
  4. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der zweite Teil (420) und der dritte Teil (430) so positioniert sind, dass sie einander zugewandt sind, und eine Leerstelle (H) in einem Bereich zwischen dem zweiten Teil (420) und dem dritten Teil (430) vorgesehen ist.
  5. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 4, wobei der zweite Teil (420) sich zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der ersten Elektrode (410) im ersten Subpixel (P1) entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode (310) im ersten Subpixel (P1) erstreckt und sich der dritte Teil (430) zu einem Abschnitt einer oberen Oberfläche der ersten Elektrode (320) im zweiten Subpixel (P2) entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode (320) im zweiten Subpixel (P2) erstreckt.
  6. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei der Graben (T) außerhalb der Zaunstruktur (400) vorgesehen ist.
  7. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Lichtemissionsschicht (500) einen ersten Stapel (510), der Licht einer ersten Farbe emittiert, einen zweiten Stapel (530), der Licht einer zweiten Farbe emittiert, die sich von der ersten Farbe unterscheidet, und eine Ladungserzeugungsschicht (520), die zwischen dem ersten Stapel (510) und dem zweiten Stapel (530) vorgesehen ist, umfasst, und der erste Stapel (510) und die Ladungserzeugungsschicht (520) in einem Bereich, der mit dem Graben (T) überlappt, getrennt sind.
  8. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, die ferner Folgendes umfasst: eine Linsenanordnung (13), die vom Substrat (100) beabstandet ist; und ein Aufnahmegehäuse (10), das das Substrat (100) und die Linsenanordnung (13) aufnimmt.
  9. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung, die Folgendes umfasst: (P2); ein Substrat (100) mit einem ersten Subpixel (P1) und einem zweiten Subpixel eine erste Elektrode (410) in jedem des ersten Subpixels (P1) und des zweiten Subpixels (P2) des Substrats (100); eine Trennwand (900) zwischen der ersten Elektrode (310) des ersten Subpixels (P1) und der ersten Elektrode (320) des zweiten Subpixels (P2); eine Lichtemissionsschicht (500) auf der ersten Elektrode (310) und der Trennwand (900); eine zweite Elektrode (600) auf der Lichtemissionsschicht (500); und einen ersten Graben (T1) zwischen der ersten Elektrode (310) des ersten Subpixels (P1) und der Trennwand (900) und einen zweiten Graben (T2) zwischen der ersten Elektrode (320) des zweiten Subpixels (P2) und der Trennwand (900).
  10. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 9, wobei zumindest ein Abschnitt der Lichtemissionsschicht (500) in einem Bereich, der mit dem ersten Graben (T1) überlappt, und/oder einem Bereich, der mit dem zweiten Graben (T2) überlappt, getrennt ist.
  11. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 9 oder 10, die ferner eine Zaunstruktur (400) zwischen der ersten Elektrode (310) des ersten Subpixels (P1) und der ersten Elektrode (320) des zweiten Subpixels (P2) umfasst, wobei die Zaunstruktur (400) auf der Trennwand (900) vorgesehen ist.
  12. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 11, wobei die Zaunstruktur (400) eine erste Struktur (411), die parallel zum Substrat (100) angeordnet ist, eine zweite Struktur (421), die sich von einem Ende der ersten Struktur (411) entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode (310) des ersten Subpixels (P1) erstreckt, und eine dritte Struktur (431), die sich vom anderen Ende der ersten Struktur (410) entlang einer Seitenoberfläche der Trennwand (900) erstreckt, umfasst, und der erste Graben (T1) durch die erste Struktur (411), die zweite Struktur (421) und die dritte Struktur (431) definiert ist.
  13. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 11, wobei die Zaunstruktur (400) eine vierte Struktur (441), die parallel zum Substrat angeordnet ist, eine fünfte Struktur (451), die sich von einem Ende der vierten Struktur (441) entlang einer Seitenoberfläche der ersten Elektrode (320) des zweiten Subpixels (P2) erstreckt, und eine sechste Struktur (461), die sich vom anderen Ende der vierten Struktur (441) entlang der anderen Seitenoberfläche der Trennwand (900) erstreckt, umfasst, und der erste Graben (T1) durch die vierte Struktur (441), die fünfte Struktur (451) und die sechste Struktur (461) definiert ist.
  14. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 13, wobei die sechste Struktur (461) mit der dritten Struktur (431) in einer oberen Oberfläche der Trennwand (900) verbunden ist.
  15. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 14, wobei die Trennwand (900) dasselbe Material wie ein Material der ersten Elektrode (310, 320, 330) umfasst.
  16. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 15, wobei die erste Elektrode (310, 320, 330) eine erste leitfähige Schicht (310a; 320a, 330a) und eine zweite leitfähige Schicht (310b, 320b, 330b) umfasst, die sequentiell gestapelt sind, die Trennwand (900) eine erste Schicht (910) und eine zweite Schicht (920) umfasst, die sequentiell gestapelt sind, und die erste Schicht (910) der Trennwand (900) dasselbe Material wie ein Material der ersten leitfähigen Schicht (310a, 320a, 330a) der ersten Elektrode (310, 320, 330) umfasst und die zweite Schicht (920) der Trennwand (900) dasselbe Material wie ein Material der zweiten leitfähigen Schicht (310b, 320b, 330b) der ersten Elektrode (310, 320, 330) umfasst.
  17. Elektrolumineszenzanzeigeeinrichtung nach Anspruch 16, wobei die zweite Schicht (920) der Trennwand (900) und die zweite leitfähige Schicht (310b, 320b, 330b) der ersten Elektrode (310, 320, 330) jeweils ein reflektierendes Material umfassen und eine Dicke der zweiten Schicht (920) der Trennwand (900) dicker ist als eine Dicke der zweiten leitfähigen Schicht (310b, 320b, 330b) der ersten Elektrode (310, 320, 330).
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